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本發(fā)明涉及一種制造小型化的異構(gòu)容積裝置的方法，所述裝置包括集成到支撐基體內(nèi)的至少一個(gè)元件和它的連接。所述基體通過(guò)直寫式沉積技術(shù)形成，該沉積技術(shù)包括選擇性地沉積連續(xù)的流體形式的材料層。...該專利屬于沃爾特羅尼克技術(shù)（瑞士）股份有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)沃爾特羅尼克技術(shù)（瑞士）股份有限公司授權(quán)不得商用。