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一種含水堿性化學機械拋光組合物，其包含具有芳香族基團的季鏻化合物，該季鏻化合物使能夠實現氧化硅襯底上的增強的缺陷減少，并使能夠在化學機械拋光期間實現良好的氧化硅去除速率。該化學機械拋光組合物是穩定的。該化學機械拋光組合物是穩定的。...
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一種含水堿性化學機械拋光組合物，其包含具有芳香族基團的季鏻化合物，該季鏻化合物使能夠實現氧化硅襯底上的增強的缺陷減少，并使能夠在化學機械拋光期間實現良好的氧化硅去除速率。該化學機械拋光組合物是穩定的。該化學機械拋光組合物是穩定的。