溫馨提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。
公開一種適合給圖案重復(fù)曝光的小型且低成本的投影曝光裝置。投影曝光裝置具有：把光照射到具有多列掩模圖案的掩模，用于給曝光圖案列重復(fù)曝光的照明系統(tǒng)、把所述掩模來的光投射到所述被曝光部件上的投影系統(tǒng)、移動(dòng)所述被曝光部件的曝光工作臺(tái)、以及移動(dòng)所述掩...該專利屬于佳能株式會(huì)社所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過佳能株式會(huì)社授權(quán)不得商用。