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本發(fā)明提供的單晶圓濕式處理裝置，用于防止晶圓邊緣的底面遭受化學(xué)液或腐蝕性氣體的腐蝕，其包括旋轉(zhuǎn)夾頭、背洗座及環(huán)形氣體噴嘴。所述背洗座包括環(huán)形平面，所述環(huán)形平面與所述晶圓之底面具有預(yù)定間距。所述環(huán)形氣體噴嘴開設(shè)于所述背洗座的所述環(huán)形平面上，并...該專利屬于弘塑科技股份有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過弘塑科技股份有限公司授權(quán)不得商用。