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本發(fā)明涉及離子源濺射技術(shù)領(lǐng)域，更具體地，涉及一種利用率高的離子源濺射靶材裝置及其使用方法，該裝置包括背板及可拆卸地設(shè)于所述背板上的第一靶材、第二靶材、第三靶材及第四靶材；所述四個靶材均為矩形結(jié)構(gòu)，且四個靶材呈田字形結(jié)構(gòu)拼接在一起。本發(fā)明一種...該專利屬于中山市博頓光電科技有限公司所有，僅供學習研究參考，未經(jīng)過中山市博頓光電科技有限公司授權(quán)不得商用。