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本發明涉及一種鎢拋光漿料和拋光襯底的方法，并且更具體來說，涉及一種可以用以在半導體制造工藝中通過化學機械拋光工藝來平面化鎢的漿料和一種使用其的襯底拋光方法。根據本發明的一個實施例的漿料是鎢拋光漿料，并且包含：用于拋光的磨料，用于調節鎢與不同...
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