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本發(fā)明提供了一種具有激光熔絲的集成電路及其形成方法，其結構包括：襯底；形成于所述襯底上的層間介質層；位于所述層間介質層上的緩沖層；以及，形成于所述緩沖層上的激光熔絲。即，由于所述激光熔絲和層間介質層之間設置有一緩沖層，從而在執(zhí)行激光修調工藝...該專利屬于上海華虹宏力半導體制造有限公司所有，僅供學習研究參考，未經(jīng)過上海華虹宏力半導體制造有限公司授權不得商用。