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一種抗反射結(jié)構(gòu)，其包括基板以及漸變膜。漸變膜具有金屬摻雜的氟氧化硅且配置于基板上。漸變膜的硅：金屬原子比自漸變膜的表面往基板逐漸降低。漸變膜的硅：金屬原子比為大于約1：1至小于約10：1。另提出一種抗反射結(jié)構(gòu)的制造方法。...該專利屬于財團法人工業(yè)技術(shù)研究院所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過財團法人工業(yè)技術(shù)研究院授權(quán)不得商用。