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表面低摩擦力耐蝕口腔正畸弓絲及其制備方法，由以下方法制得：在奧氏體不銹鋼弓絲表面采用非平衡磁控濺射法沉積納米二氧化硅涂層。沉積的工藝參數(shù)為：靶材二氧化硅，純度優(yōu)于99.99%，濺射功率200w，稀釋氣體Ar流量50SCCM，工作氣壓2.0P...該專利屬于鎮(zhèn)江市口腔醫(yī)院所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)鎮(zhèn)江市口腔醫(yī)院授權(quán)不得商用。