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本發(fā)明公開了通過在空間上和/或在時間上改變采樣模式增強抗鋸齒的技術(shù)。光柵單元配置為針對給定幀內(nèi)的相鄰像素生成不同的采樣模式。此外，光柵單元可以調(diào)整幀之間的采樣模式。光柵單元包括索引單元，其選擇采樣模式表用于當(dāng)前幀使用。對于給定像素，索引單元...該專利屬于輝達(dá)公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過輝達(dá)公司授權(quán)不得商用。