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本實用新型公開了一種磁控濺射裝置，本實用新型中該磁控濺射裝置包括：至少兩個靶位、傳送機構、第一驅動機構以及第二驅動機構；相鄰靶位之間具有一定間距，靶材固定于靶位上，磁體相對靶材以第二速度運動形成移動磁場；第一驅動機構設置于裝置的至少一端，傳...該專利屬于深圳萊寶高科技股份有限公司;重慶萊寶科技有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過深圳萊寶高科技股份有限公司;重慶萊寶科技有限公司授權不得商用。