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本實用新型涉及一種用于吸收氣體中的單成分的設備，在該設備中，吸收溶液在吸收室(13)中與氣體接觸，其中，吸收溶液經由配備有噴灑噴嘴的噴灑平面(14)引入到吸收室(13)中，并且其中，吸收室(13)在氣體輸送部(16)上方具有氣體分配平面(1...該專利屬于安德里特斯公開股份有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過安德里特斯公開股份有限公司授權不得商用。
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本實用新型涉及一種用于吸收氣體中的單成分的設備，在該設備中，吸收溶液在吸收室(13)中與氣體接觸，其中，吸收溶液經由配備有噴灑噴嘴的噴灑平面(14)引入到吸收室(13)中，并且其中，吸收室(13)在氣體輸送部(16)上方具有氣體分配平面(1...