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本發明揭示了一種氮化鉭反應離子刻蝕方法，所述刻蝕方法包括如下步驟：步驟S1、將帶有氮化鉭膜的基片放入電感耦合反應離子刻蝕機臺的反應腔室中；步驟S2、向反應腔室中通入刻蝕氣體；主要刻蝕氣體為含有氟F或/和氯Cl或/和溴Br的氣體，輔助刻蝕氣體...
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