溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。

本發明提供了晶圓凈化裝置、刻蝕機臺及大馬士革刻蝕方法，晶圓凈化裝置內設置用于裝載晶圓的內腔和用于氣體流通的外腔，通過機械泵的吸引力使內腔中的刻蝕后的晶圓上的刻蝕殘留氣體向排氣通道平行流動，并經過排氣通道沿外腔排出，從而可以避免刻蝕殘留氣體在...
該專利屬于上海華力微電子有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過上海華力微電子有限公司授權不得商用。

詳細技術文檔下載地址

溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。