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本發明的實施例提供了降低熱處理期間不均勻性的設備與方法。一個實施例提供了種處理基板的設備，包括腔室主體，其限定處理容積；基板支撐件，其置于該處理容積中，其中該基板支撐件被配置以旋轉該基板；傳感器組件，其被配置以測量該基板在多個位置處的溫度；...
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