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一種射頻等離子體反應室，廣泛應用于材料表面改性及表面處理等領域。這種射頻等離子體反應室包括設置在真空腔室中的上基片臺和下基片臺，上基片臺通過上支撐筒固定在密封蓋上的上基片臺固定裝置上，上基片臺采用容性耦合基片臺或感性耦合基片臺；下基片臺通過...
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