用于集成電容式觸摸裝置的接線及外圍制造方法及圖紙

本發明專利技術提供用于投射電容式觸摸PCT傳感器的系統、方法及設備，所述投射電容式觸摸PCT傳感器可包含涂布有額外層以形成加強入射光的波長范圍或色彩的光學腔的薄傳感器電極。可同時制造所述傳感器電極(907a，907b)及覆蓋玻璃邊界及/或裝飾物(1305)。在一些實施方案中，所述光學腔的厚度將經選擇以使得反射光的“色彩”為黑色。人類觀察者可能無法注意到所述傳感器電極(907a，907b)。然而，在一些其它實施方案中，所述光學腔的厚度可經選擇以使得所述傳感器電極(907a，907b)及/或裝飾部分(1305)將具有另一色彩。可通過所述邊界中的接地導電層屏蔽所述觸摸傳感器的布線導線(1120a)。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】用于集成電容式觸摸裝置的接線及外圍相關申請案的交叉參考本申請案主張2011年4月29日申請的標題為“用于集成電容式觸摸裝置的接線及外圍(WIRING AND PERIPHERY FOR INTEGRATED CAPACITIVE TOUCH DEVICES) ”(代理人案號QUALP050P/101798P1)的第61/480,970號美國臨時專利申請案及2011年11月4日申請的標題為“用于集成電容式觸摸裝置的接線及外圍(WIRING AND PERIPHERYFOR INTEGRATED CAPACITIVE TOUCH DEVICES) ”(代理人案號 QUALP050/101798)的第13/290，001號美國專利申請案的優先權，所述案兩者以引用方式且出于全部目的并入本文中。
本專利技術涉及顯示裝置，包含(但不限于)并入有觸摸屏幕的顯示裝置。
技術介紹
機電系統(EMS)包含具有電元件及機械元件、致動器、轉換器、傳感器、光學組件(包含，鏡子)及電子器件的裝置。機電系統可以多種尺度制造，包含但不限于微米尺度及納米尺度。例如，微機電系統(MEMS)裝置可包含具有從約一微米到幾百微米或更大范圍的大小的結構。納米機電系統(NEMS)裝置可包含具有小于一微米的大小的結構，包含例如小于幾百納米的大小。機電元件可使用將襯底及/或沉積的材料層的部分蝕除或添加層以形成電及機電裝置的沉積、蝕刻、光刻及/或其它微加工過程而建立。一種類型的EMS裝置稱為干涉式調制器(MOD)。如本文中所使用，術語干涉式調制器或干涉式光調制器指代使用光學干涉原理選擇性地吸收及/或反射光的裝置。在一些實施方案中，干涉式調制器可包含一對導電板，所述對導電板的一者或兩者可為完全或部分透明及/或具反射性，且能夠在施加適當電信號之后即刻相對運動。在實施方案中，一塊板可包含沉積于襯底上的固定層，且另一板可包含通過空氣間隙與所述固定層分離的反射膜。一塊板相對于另一塊板的位置可改變入射于所述干涉式調制器上的光的光學干涉。干涉式調制器裝置具有廣泛應用范圍，且預期用于改善現存產品及創造新產品，尤其是具有顯示能力的產品。在手持式裝置中越來越多的使用觸摸屏幕引起現在包含顯示器、觸摸面板及覆蓋玻璃的模塊的復雜度及成本增加。如本文使用，“覆蓋玻璃”可由任何適當實質上透明的襯底形成，例如實際玻璃、聚合物等等。每一片玻璃增加厚度且需要昂貴的玻璃至玻璃接合溶液以附接至相鄰襯底。對于反射式顯示器，當還需要集成前照燈時，可進一步加劇這些問題，從而增加模塊的厚度及成本。
技術實現思路
本專利技術的系統、方法及裝置各自具有若干創新方面，僅僅其中的單一者無法造就本文中揭示的期望屬性。可在包含具有投射電容式觸摸(PCT)傳感器的顯示器覆蓋玻璃的設備中實施本專利技術中描述的標的物的一個創新方面。所述投射電容式觸摸傳感器可包含用作感測電極的薄導線。薄傳感器電極及/或裝飾部分可涂布有額外層以形成加強入射光的波長范圍或色彩的光學腔。在一些實施方案中，所述光學腔的厚度將經選擇以使得反射光的“色彩”為黑色。人類觀察者可能無法注意到所述傳感器電極。在一些實施方案中，可使用覆蓋玻璃上所沉積的(若干)相同層同時制造觸摸傳感器的傳感器電極及覆蓋玻璃邊界及/或裝飾物。然而，在一些其它實施方案中，光學腔的厚度可經選擇以使得傳感器電極及/或裝飾部分將具有除黑色之外的色彩。在一些實施方案中，傳感器電極將具有一種色彩且邊界及/或裝飾部分將具有另一色彩。例如公司名稱、標志、圖標等等的圖形元素可通過圖案化包圍顯示器的可視區域的黑色或彩色邊界而并入邊界中。在一些實施方案中，可通過邊界中的接地導電層屏蔽觸摸傳感器的布線導線。可以涉及在實質上透明襯底上沉積光學腔層以形成多個傳感器電極的方法來實施本專利技術中描述的標的物的另一創新方面。所述方法可涉及:在所述光學腔層上及所述實質上透明襯底的暴露區域上沉積實質上透明電介質材料；形成穿過所述實質上透明電介質材料的通孔以暴露下伏光學腔層的部分；及在通孔中沉積導電材料以在所述下伏光學腔層的部分之間形成電連接。沉積所述光學腔層可涉及沉積黑色掩模層。在一些實施方案中，所述黑色掩模層可提供小于可見光范圍中的閾值量的適光積分反射率。例如，黑色掩模層可提供跨從350納米到800納米的波長范圍的小于5%、小于3%、小于1%或小于某一其它閾值的適光積分反射率。沉積光學腔層可涉及沉積部分反射及部分導電層、氧化物層及/或反射及導電層。沉積所述氧化物層可涉及沉積二氧化硅或氧化銦錫層。沉積所述部分反射及部分導電層可涉及沉積鑰鉻(MoCr)合金層。傳感器電極可形成于感測區域中。沉積所述光學腔層可涉及形成圍繞所述感測區域的至少一部分延伸的邊界區域。沉積氧化物層可涉及形成光學腔層以加強所述邊界區域中的第一色彩及形成傳感器電極的光學腔層以加強第二色彩。沉積導電材料可涉及在所述邊界區域中形成布線導線。布線導線可經配置以將傳感器電極與控制電路連接。所述方法還可涉及在所述邊界區域中的接地導線與所述光學腔層的導電層之間形成電連接。形成所述通孔可涉及在所述邊界區域中形成經配置以暴露所述光學腔層的導電層的至少一個通孔。所述方法還可涉及經由所述邊界區域中的通孔將所述導電層連接到電接地導線。所述方法還可涉及在所述邊界區域中形成穿過所述光學腔層的至少一者的通孔以產生裝飾物。在一些實施方案中，所述裝飾物可為標志。沉積所述光學腔層可涉及形成將加強入射光的波長范圍或色彩的光學腔。沉積所述光學腔層可涉及形成投射電容式觸摸傳感器電極。沉積所述光學腔層可涉及在連續列中形成第一投射電容式觸摸傳感器電極且在不連續行中形成第二投射電容式觸摸傳感器電極。沉積所述導電材料可涉及在所述不連續行之間形成電連接。沉積所述光學腔層可涉及在不連續列中形成第一投射電容式觸摸傳感器電極且在連續行中形成第二投射電容式觸摸傳感器電極。沉積所述導電材料可涉及在所述不連續列之間形成電連接。可在包含實質上透明襯底及沉積于所述實質上透明襯底上的多個觸摸傳感器電極的設備中實施本專利技術中描述的標的物的另一創新方面。所述觸摸傳感器電極可包含光學腔層。可在所述光學腔層上沉積實質上透明電介質材料，且可形成穿過所述實質上透明電介質材料到所述光學腔層的部分的通孔。通孔中的導電材料可在所述光學腔層的所述部分之間形成電連接。所述光學腔層可包含黑色掩模層。所述黑色掩模層可提供跨從350納米到800納米的波長范圍的小于閾值(例如，1%、3%或5% )的適光積分反射率。所述光學腔層可包含部分反射及部分導電層、氧化物層及/或反射及導電層。所述部分反射及部分導電層可為鑰鉻(MoCr)合金層。所述氧化物層可為(例如)二氧化硅層或氧化銦錫層。所述光學腔層可形成經配置以加強入射光的波長范圍或色彩的光學腔。所述設備可包含圍繞觸摸傳感器電極的邊界區域。所述邊界區域可由所述光學腔層形成。形成所述邊界區域的第一光學腔層可經配置以加強第一色彩，且形成所述觸摸傳感器電極的第二光學腔層可經配置以加強第二色彩。所述觸摸傳感器電極可包含連續列中的第一觸摸傳感器電極及不連續行中的第二觸摸傳感器電極。導電材料可在所述不連續行之間形成電連接。所述觸摸傳感器電極可包含不連續列中的第一觸摸傳感器電極及連續行中的第二觸摸傳感器電極本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種方法，其包括：在實質上透明襯底上沉積光學腔層以形成多個傳感器電極；在所述光學腔層上及所述實質上透明襯底的暴露區域上沉積實質上透明電介質材料；形成穿過所述實質上透明電介質材料的通孔以暴露所述下伏光學腔層的部分；及在所述通孔中沉積導電材料以在所述下伏光學腔層的所述部分之間形成電連接。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2011.04.29 US 61/480,970;2011.11.04 US 13/290,0011.一種方法，其包括: 在實質上透明襯底上沉積光學腔層以形成多個傳感器電極； 在所述光學腔層上及所述實質上透明襯底的暴露區域上沉積實質上透明電介質材料； 形成穿過所述實質上透明電介質材料的通孔以暴露所述下伏光學腔層的部分；及在所述通孔中沉積導電材料以在所述下伏光學腔層的所述部分之間形成電連接。2.根據權利要求1所述的方法，其中沉積所述光學腔層涉及沉積黑色掩模層。3.根據權利要求2所述的方法，其中所述黑色掩模層提供跨從350納米到800納米的波長范圍的小于I %的適光積分反射率。4.根據權利要求1到3中任一權利要求所述的方法，其中沉積所述光學腔層涉及沉積部分反射及部分導電層、氧化物層及反射及導電層中的至少一者。5.根據權利要求4所述的方法，其中沉積所述氧化物層涉及沉積二氧化硅層或氧化銦錫層。6.根據權利要求4所述的方法，其中沉積所述部分反射及部分導電層涉及沉積鑰鉻MoCr合金層。7.根據權利要求1到6中任一權利要求所述的方法，其中所述傳感器電極形成于感測區域中，且其中沉積所述光學腔層涉及形成圍繞所述感測區域的至少一部分延伸的邊界區域。`8.根據權利要求7所述的方法，其中沉積所述氧化物層涉及在所述邊界區域中形成所述光學腔層以加強第一色彩及形成所述傳感器電極的所述光學腔層以加強第二色彩。9.根據權利要求7所述的方法，其中沉積所述導電材料涉及在所述邊界區域中形成布線導線及接地導線，所述方法進一步包含在所述邊界區域中的所述接地導線與所述光學腔層的導電層之間形成電連接。10.根據權利要求7所述的方法，其進一步包含在所述邊界區域中形成穿過所述光學腔層中的至少一者的通孔以產生裝飾物。11.根據權利要求10所述的方法，其中所述裝飾物為標志。12.根據權利要求7所述的方法，其中形成所述通孔涉及在所述邊界區域中形成經配置以暴露所述光學腔層的導電層的通孔。13.根據權利要求12所述的方法，其進一步包含經由所述邊界區域中的所述通孔將所述導電層連接到電接地導線。14.根據權利要求1到13中任一權利要求所述的方法，其中沉積所述光學腔層涉及形成將加強入射光的波長范圍或色彩的光學腔。15.根據權利要求1到14中任一權利要求所述的方法，其中沉積所述導電材料涉及在邊界區域中形成布線導線，所述布線導線經配置以將所述傳感器電極與控制電路連接。16.根據權利要求1到15中任一權利要求所述的方法，其中沉積所述光學腔層涉及形成投射電容式觸摸傳感器電極。17.根據權利要求16所述的方法，其中沉積所述光學腔層涉及在連續列中形成第一投射電容式觸摸傳感器電極及在不連續行中形成第二投射電容式觸摸傳感器電極，且其中沉積所述導電材料涉及在所述不連續行之間形成電連接。18.根據權利要求16所述的方法，其中沉積所述光學腔層涉及在不連續列中形成第一投射電容式觸摸傳感器電極及在連續行中形成第二投射電容式觸摸傳感器電極，且其中沉積所述導電材料涉及在所述不連續列之間形成電連接。19.一種設備,其包括: 實質上透明襯底； 多個觸摸傳感器電極，其安置在所述實質上透明襯底上，所述觸摸傳感器電極包含光學腔層； 實質上透明電介質材料，其安置在所述光學腔層上； 通孔，其經形成穿過所述實質上透明電介質材料到達所述光學腔層的部分；及所述通孔中的導電材料，其用以在所述光學腔層的所述部分之間形成電連接。20.根據權利要求19所述的設備，其中所述光學腔層包含黑色掩模層。21.根據權利要求20所述的設備，...

【專利技術屬性】
技術研發人員：約恩·比塔，拉西米·拉加溫德拉·拉奧，李肯賓，
申請(專利權)人：高通MEMS科技公司，
類型：
國別省市：