水簾式專用石墨雕刻機制造技術

本發明專利技術的水簾式專用石墨雕刻機，包括雕刻機的主軸，主軸下端底面設置有刀頭，主軸下端的主軸外圓配裝具有內型腔的圓筒狀環罩，環罩內徑尺寸為主軸外圓的外徑尺寸；該環罩內型腔的上端制有密封槽，中間制有內凹的Ｃ形狀進水環流型腔，下端制有內凹的Ｃ形狀水簾型腔；在密封槽的上端攻有至少兩個固定絲孔；在環流型腔以直徑為基準對稱制有經向相互平行的第一進水孔和第二進水孔，并對應螺紋連接有第一帽式進水管接頭和第二帽式進水管接頭。在環流型腔內形成水環流均勻溢入到下端的水簾型腔，經水簾型腔Ｃ流出形成水簾，水簾正好罩住正在雕刻的石墨，石墨飛揚的粉塵從而溶在水里流出。該雕刻機成本低、結構簡單、使用方便、不污染環境。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及數控雕刻設備
，尤其涉及水簾式專用石墨雕刻機。主要用在數控雕刻機或加工中心等設備上。
技術介紹
目前在石墨上進行雕刻的設備主要是數控雕刻機或加工中心等設備。而非專用石墨數控雕刻機或加工中心等設備及其各零部件的密封性能較差。再由于石墨粉塵極其細小，因此，雕刻中的石墨粉塵無縫不入，時間越久，石墨粉塵積壓越厚。從而造成機械零部件損壞，電器原件斷路等故障，對雕刻機或加工中心等設備的使用壽命和企業利益都大打折扣，這是其一。其二，非專用石墨數控雕刻機或加工中心等設備雕刻石墨時，飛揚的石墨粉塵嚴重損壞了操作工人的身體健康。因為它可以由人的呼吸道直達人的肺部，形成矽肺病而無法治愈，所以，非專用石墨數控雕刻機加工中心等設備在雕刻石墨時對空氣環境污染很大，工作加工的場合受到嚴格的限制。
技術實現思路
本專利技術所要解決的技術問題是針對上述不足，提供結構簡單，拆卸方便，環部可靠的水簾式專用石墨雕刻機。本專利技術解決上述技術問題所采用的技術方案為水簾式專用石墨雕刻機，包括雕刻機的主軸，主軸下端底面設置有刀頭，其中主軸下端周面制有凸圓臺狀的主軸外圓，主軸外圓配裝具有內型腔的圓筒狀環罩，環罩內徑尺寸為主軸外圓的外徑尺寸；該主軸外圓頂端凸圓臺肩部與圓筒狀環罩上端相密封，該環罩內型腔的上端制有密封槽，中間制有內凹的C形狀進水環流型腔，下端制有內凹的C形狀水簾型腔；在密封槽的上端攻有至少兩個固定絲孔；在環流型腔以直徑為基準對稱制有第一進水孔和第二進水孔；第一進水孔和第二進水孔徑向相互平行，并對應螺紋連接有第一帽式進水管接頭和第二帽式進水管接頭。采取的技術措施還包括上述的第一帽式進水管接頭和第二帽式進水管接頭對應裝有第一進水管插頭和第二進水管插頭，其中第一進水管插頭和第二進水管插頭對應插裝有第一進水管和第二進水管，第一進水管和第二進水管的另一端用以連接普通水泵。上述的密封槽內設有一軟墊，該軟墊套在主軸外圓上；用緊固件經固定絲孔與主軸外圓相固定在上，達到加緊密封的效果。上述的固定絲孔為第一固定絲孔和第二固定絲孔，以直徑為基準對稱位于密封槽的上端。上述的環罩壁厚與所述的凸圓臺肩部高度相同。上述的第一帽式進水管接頭和第二帽式進水管接頭經第一進水管插頭和第二進水管插頭引接來自水泵壓入的水，沿同一圓周方向迅速流入環流型腔，并在環流型腔內形成水均勻的分布的急環流；水在環流型腔內充滿后，均勻溢出下流分布到水簾型腔內；均勻的水流層在水簾型腔內呈C形狀，并均勻流出后形成環形水簾；環形水簾圍罩在刀頭的外圍。與現有技術相比，本專利技術主軸下端周面制有凸圓臺狀的主軸外圓，主軸外圓配裝具有內型腔的圓筒狀環罩，環罩內徑尺寸為主軸外圓的外徑尺寸；該主軸外圓頂端凸圓臺肩部與圓筒狀環罩上端相密封，該環罩內型腔的上端制有密封槽，中間制有內凹的C形狀進水環流型腔，下端制有內凹的C形狀水簾型腔；在密封槽的上端攻有至少兩個固定絲孔；在環流型腔以直徑為基準對稱制有第一進水孔和第二進水孔；第一進水孔和第二進水孔徑向相互平行，并對應螺紋連接有第一帽式進水管接頭和第二帽式進水管接頭。水經進水孔，在環流型腔內形成環流，水環流均勻溢入到下端的水簾型腔，經水簾型腔C形狀，并均勻流出后形成環形水簾，水簾正好罩住正在雕刻的石墨，石墨飛揚的粉塵從而溶在水里流出。該雕刻機成本低、結構簡單、使用方便、不污染環境。附圖說明圖1是本專利技術實施例的局部剖視結構示意圖；圖2是圖1中環罩底部正視結構示意圖；圖3是圖2中左視示意圖；圖4是圖2中A-A向剖視示意圖；圖5是本專利技術實施例的立體分解結構示意圖。具體實施例方式以下結合附圖實施例對本專利技術作進一步詳細描述。本專利技術的結構見圖1至圖5所示。水簾式專用石墨雕刻機，包括雕刻機的主軸1，主軸1下端底面設置有刀頭2，其中主軸1下端周面制有凸圓臺狀的主軸外圓11，主軸外圓11配裝具有內型腔的圓筒狀環罩3，圖1是環罩底部水簾圖；環罩3內徑尺寸為主軸外圓11的外徑尺寸；該環罩3固定在數控雕刻機或加工中心等設備主軸下端；該主軸外圓11頂端凸圓臺肩部與圓筒狀環罩3上端相密封，該環罩3內型腔的上端制有密封槽31，中間制有內凹的C形狀進水環流型腔32，下端制有內凹的C形狀水簾型腔33；在密封槽31的上端攻有至少兩個固定絲孔4；在環流型腔32以直徑為基準對稱制有第一進水孔51和第二進水孔；第一進水孔51和第二進水孔徑向相互平行，并對應螺紋連接有第一帽式進水管接頭61和第二帽式進水管接頭62。第一帽式進水管接頭61和第二帽式進水管接頭62對應裝有第一進水管插頭71和第二進水管插頭72，其中第一進水管插頭71和第二進水管插頭72對應插裝有同型號內徑為8mm的第一進水管81和第二進水管82，第一進水管81和第二進水管82的另一端用以連接普通水泵。普通水泵為AC220V/95W的即可。密封槽31內設有一軟墊，該軟墊套在主軸外圓11上；用緊固件經固定絲孔4與主軸外圓11相固定在上，達到加緊密封的效果。固定絲孔4為第一固定絲孔41和第二固定絲孔42，以直徑為基準對稱位于密封槽31的上端。環罩3壁厚與所述的凸圓臺肩部高度相同。如果凸圓臺肩部為10毫米，對應的環罩3壁厚為10毫米。第一帽式進水管接頭61和第二帽式進水管接頭62經第一進水管插頭71和第二進水管插頭72引接來自水泵壓入的水，沿同一圓周方向迅速流入環流型腔32，并在環流型腔32內形成水均勻的分布的急環流；水在環流型腔32內充滿后，均勻溢出下流分布到水簾型腔33內；均勻的水流層在水簾型腔33內呈C形狀，并均勻流出后形成環形水簾；環形水簾圍罩在刀頭2的外圍，從而罩住了正在雕刻的石墨，石墨粉塵就無法飛揚，而溶在防銹水里隨之流出。所用防銹水即可形成水簾，又可冷卻刀具，可謂一舉兩得。該雕刻機成本低、結構簡單、使用方便、不污染環境。雖然本專利技術已通過參考優選的實施例進行了圖示和描述，但是，本專業普通技術人員應當了解，在權利要求書的范圍內，可作形式和細節上的各種各樣變化。權利要求1.水簾式專用石墨雕刻機，包括雕刻機的主軸(1)，主軸(1)下端底面設置有刀頭(2)，其特征是所述的主軸(1)下端周面制有凸圓臺狀的主軸外圓(11)，主軸外圓(11)配裝具有內型腔的圓筒狀環罩(3)，所述的環罩(3)內徑尺寸為主軸外圓(11)的外徑尺寸；該主軸外圓(11)頂端凸圓臺肩部與圓筒狀環罩(3)上端相密封，該環罩(3)內型腔的上端制有密封槽(31)，中間制有內凹的C形狀進水環流型腔(32)，下端制有內凹的C形狀水簾型腔(33)；在密封槽(31)的上端攻有至少兩個固定絲孔(4)；在環流型腔(32)以直徑為基準對稱制有第一進水孔(51)和第二進水孔；所述的第一進水孔(51)和第二進水孔徑向相互平行，并對應螺紋連接有第一帽式進水管接頭(61)和第二帽式進水管接頭(62)。2.根據權利要求1所述的水簾式專用石墨雕刻機，其特征是所述的第一帽式進水管接頭(61)和第二帽式進水管接頭(62)對應裝有第一進水管插頭(71)和第二進水管插頭(72)，其中第一進水管插頭(71)和第二進水管插頭(72)對應插裝有第一進水管(81)和第二進水管(82)，第一進水管(81)和第二進水管(82)的另一端用以連接普通水泵。3.根據權利要求2所述的水簾式專用石墨雕刻機，其特征是所述的密封槽(本文檔來自技高網...

【技術保護點】
水簾式專用石墨雕刻機，包括雕刻機的主軸（１），主軸（１）下端底面設置有刀頭（２），其特征是：所述的主軸（１）下端周面制有凸圓臺狀的主軸外圓（１１），主軸外圓（１１）配裝具有內型腔的圓筒狀環罩（３），所述的環罩（３）內徑尺寸為主軸外圓（１１）的外徑尺寸；該主軸外圓（１１）頂端凸圓臺肩部與圓筒狀環罩（３）上端相密封，該環罩（３）內型腔的上端制有密封槽（３１），中間制有內凹的Ｃ形狀進水環流型腔（３２），下端制有內凹的Ｃ形狀水簾型腔（３３）；在密封槽（３１）的上端攻有至少兩個固定絲孔（４）；在環流型腔（３２）以直徑為基準對稱制有第一進水孔（５１）和第二進水孔；所述的第一進水孔（５１）和第二進水孔徑向相互平行，并對應螺紋連接有第一帽式進水管接頭（６１）和第二帽式進水管接頭（６２）。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：李恒國，俞永達，
申請(專利權)人：寧波市凱博數控機械有限公司，
類型：發明
國別省市：33[中國|浙江]