一種流體對沖擊式研磨分散元件制造技術

本實用新型專利技術涉及一種流體對沖擊式研磨分散元件，該分散元件由上分散盤、下分散盤、分散桿組成。其中，上、下分散盤均呈漏斗型；上、下分散盤的漏斗底部對接，上分散盤的漏斗底部與分散桿固定連接，上、下分散盤的軸線與分散桿的軸線重合；上、下分散盤的側壁上開有通透缺口；通透缺口內(nèi)側邊緣有一個向內(nèi)側方向伸展的耳型突起。本實用新型專利技術利用了流體中的粒子在機械帶動的切線拋力作用下做正向或側向對撞能夠獲得高能量、且能夠提高動能利用率的原理，從而實現(xiàn)了高效研磨。同時，下分散盤旋轉后產(chǎn)生向上強大的負壓力，使底部流體向上運動，從而也解決了缸體底部易沉積固體形成死角的難題。（*該技術在2023年保護過期，可自由使用*）

【技術實現(xiàn)步驟摘要】

本技術涉及一種新型研磨分散設備中的研磨分散元件。
技術介紹
研磨分散設備在諸多行業(yè)及領域中廣泛使用，如:涂料、粉體、食品、藥品、日用化工等。研磨分散設備基礎組成部件包括:驅動部分、傳動部分、研磨分散部分，研磨分散效率，與驅動傳動機械部件的效率、機械運行穩(wěn)定性有關，但更主要的是與研磨分散部件的結構、性能密切相關。對研磨分散元件的研究一直是研磨分散設備廠商的重要課題，德國耐馳機械有限公司針對不同的研磨料及應用領域，開發(fā)出了多種類型的研磨分散元件，這些元件是該公司研磨分散機高效運行、制備出的產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定的重要原因。隨著我國經(jīng)濟的發(fā)展，我國在研磨分散設備制造業(yè)取得了很大的發(fā)展，解決了諸多行業(yè)領域的生產(chǎn)問題，但如何更好地更有效地解決粉體研磨分散效率及制備產(chǎn)出的性能穩(wěn)定是一個廣泛受關注的問題。這也對研磨分散機械提出了更高的要求。這一較高要求的能否實現(xiàn)關系到各個行業(yè)產(chǎn)品質(zhì)量的提高及生產(chǎn)過程的節(jié)能減排。而這些問題的解決與研磨分散元件的設計、結構和性能密切相關。專利CN 2367428Y設計了一種新型濕法研磨分散機構，由分散軸、分散盤和較多的葉片組成。該設備利用具有傾角的葉片推動流體定向運動，并與分散盤相互作用達到分散的目的，該機構由多葉片與分散盤共同完成研磨分散任務，組件復雜、難以清洗，而且由于多葉片在長期高速運轉的分散軸驅動下容易引起生產(chǎn)安全問題。CN 202143846述及一種研磨機高效研磨分散盤。盤形體的盤面上設有數(shù)個漸起于該盤形體底平面的階形體，一種階形體與盤形體底平面夾角在5。 45。，此裝置盤形體上下兩個盤面上至少設有2個以上的階形體，階形體的脊交錯排列，且傾斜方向一致。該設備利用分散盤帶動研磨介質(zhì)高速運動而產(chǎn)生摩擦和剪切，使物料得到研磨和分散。該設備僅靠物料被盤面帶動旋轉拋射及與階形體碰撞形成拋射，達到研磨的目的。由于物料與盤面有效作用面積小，物料在液體中粒子間相互碰撞機率小，所·以難以達到理想的分散研磨效果。針對以上技術問題，提出更合理利用能源、更安全有效的研磨分散元件是非常有必要的。
技術實現(xiàn)思路
本技術的實施例提供一種新的流體對沖擊式研磨分散元件。該研磨分散元件利用了流體中的粒子在機械帶動的切線拋力作用下做正向或側向對撞能夠獲得高能量、且能夠提高動能利用率的原理，從而實現(xiàn)了高效研磨。同時，下分散盤旋轉后產(chǎn)生向上強大的負壓力，使底部流體向上運動，從而也解決了缸體底部易沉積固體形成死角的難題。為達到上述目的，本技術的實施例采用技術方案:一種流體對沖擊式研磨分散兀件，包括上分散盤、下分散盤、分散桿。其中，所述的上分散盤、下分散盤均呈漏斗型；上分散盤、下分散盤的漏斗底部對接，上分散盤的漏斗底部與分散桿固定連接；上分散盤、下分散盤的軸線與分散桿的軸線重合；上分散盤、下分散盤的側壁開有通透缺口 ；通透缺口內(nèi)側邊緣都有一個向內(nèi)側方向伸展的耳型突起。進一步的,所述的分散桿為圓柱體,分散桿的半徑為0.3 1.0cm,優(yōu)選為0.5cm ；所述的上分散盤與下分散盤的形狀、大小均相同，且其漏斗口半徑為5 10cm，優(yōu)選為7cm ；所述的上分散盤的軸線與其側壁壁面的切面夾角為30° 85°，優(yōu)選為60°。進一步的，所述的通透缺口的數(shù)目為2 5，優(yōu)選為3，且沿側壁均勻分布，其形狀為長方形或正方形，其寬度為0.5 1.0cm，其長度為0.5 1.0cm，面積占側壁面積的0.5% 20%，優(yōu)選為長方形，寬度為0.5cm,長度為1.0cm0進一步的，所述的耳型突起，其形狀、大小均與所述的通透缺口相同，且與漏斗型壁面的切面夾角為5° 80°，優(yōu)選為75°。本技術的實施例提供的研磨分散元件，與現(xiàn)有技術相比，能夠使流體中的粒子在機械帶動的切線拋力作用下做正向或側向對撞，能夠獲得更高的能量、且進一步提高了動能利用率，能夠實現(xiàn)高效研磨。同時，下分散盤旋轉后產(chǎn)生向上強大的負壓力，能夠使底部流體向上運動，從而也解決了缸體底部易沉積固體形成死角的難題。附圖說明為了更清楚地說明本技術實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為實施例一的流體對沖擊式研磨分散元件的結構示意圖。`具體實施方式下面將結合本技術實施例中的附圖，對本技術實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本技術一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒炯夹g中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本技術保護的范圍。本技術實施例提供一種流體對沖擊式研磨分散元件，如圖1所示，包括上分散盤2、下分散盤4、分散桿I。所述的分散元件通過與機器傳動桿連接，機器傳動桿再與機械設備的電機傳動裝置相連，從而獲得旋轉驅動。其中:所述的上分散盤2、下分散盤4均呈漏斗型；上分散盤2、下分散盤4的漏斗底部對接，上分散盤2的漏斗底部與分散桿I固定連接；上分散盤2、下分散盤4的軸線與分散桿I的軸線重合；上分散盤2、下分散盤4的側壁開有通透缺口 5 ;通透缺口 5內(nèi)側邊緣都有一個向內(nèi)側方向伸展的耳型突起3。本述實施例提供的分散桿I為圓柱體，分散桿I的半徑為0.3 1.0cm,優(yōu)選為0.5cm上分散盤2與下分散盤4的形狀、大小均相同，且其漏斗口半徑為5 IOcm,優(yōu)選為7cm。上分散盤2的軸線與其側壁壁面的切面夾角為30° 85°，優(yōu)選為60°。本述實施例提供的通透缺口 5的數(shù)目為2 5，優(yōu)選為3，且沿側壁均勻分布，其形狀為長方形或正方形，其寬度為0.5 1.0cm，其長度為0.5 1.0cm，面積占側壁面積的0.5% 20%，優(yōu)選為長方形，寬度為0.5cm,長度為1.0cm0本述實施例提供的耳型突起3，其形狀、大小均與所述的通透缺口 5相同，且與漏斗型壁面的切面夾角為5° 80°，優(yōu)選為75°。以上所述，僅為本技術的具體實施方式，但本技術的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本
的技術人員在本技術揭露的技術范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應涵蓋在本技術的保護范圍之內(nèi)。因此，本技術的保護范圍應以所述權利要求的保護 范圍為準權利要求1.一種流體對沖擊式研磨分散兀件,包括上分散盤(2)、下分散盤(4)、分散桿(I),其特征在于:所述的上分散盤(2)、下分散盤(4)均呈漏斗型；上分散盤(2)、下分散盤(4)的漏斗底部對接，上分散盤(2)的漏斗底部與分散桿(I)固定連接；上分散盤(2)、下分散盤(4)的軸線與分散桿(I)的軸線重合；上分散盤(2)、下分散盤(4)的側壁開有通透缺口(5);通透缺口(5)內(nèi)側邊緣都有一個向內(nèi)側方向伸展的耳型突起(3)。2.根據(jù)權利要求1所述的流體對沖擊式研磨分散元件，其特征在于:所述的分散桿(I)為圓柱體，分散桿(I)的半徑為0.3 1.0cm ;上分散盤(2)與下分散盤(4)的形狀、大小均相同，且其漏斗口半徑為5 IOcm ;上分散盤(2)的軸線與其側壁壁面的切面夾角為30。 85°。3.根據(jù)權利要求2所述的流體對沖擊式研磨分散元件，其特征在于:所述的分散桿(本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術保護點】
一種流體對沖擊式研磨分散元件，包括上分散盤(2)、下分散盤(4)、分散桿(1)?，其特征在于：所述的上分散盤(2)、下分散盤(4)均呈漏斗型；上分散盤(2)、下分散盤(4)的漏斗底部對接，上分散盤(2)的漏斗底部與分散桿(1)固定連接；上分散盤(2)、下分散盤(4)的軸線與分散桿(1)的軸線重合；上分散盤(2)、下分散盤(4)的側壁開有通透缺口(5)；通透缺口(5)內(nèi)側邊緣都有一個向內(nèi)側方向伸展的耳型突起(3)。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：蘇有良，蘇衡，
申請(專利權)人：蘇有良，
類型：實用新型
國別省市：