無積淀過流式電解槽制造技術

本發明專利技術提供一種無積淀過流式電解槽，包括殼體組件、進水口、出水口、電極板組、離子膜，設置磁場裝置，磁場方向與流體移動的方向相互垂直；電極板組中每三個極板為一小組，每小組的三個極板為一正、一負，中間一個極板接地。本發明專利技術是在過流式電解槽電解液體的過程中，在電解的電場中同時加入一個特定的磁場，在電場和磁場的共同作用下，使得電解過程中所產生的帶電離子被強制性的沿液體流動的方向流出電解槽，而不再大量地積淀在電極的表面，從而達到延長電解槽工作壽命的良好效果。

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
無積淀過流式電解槽，包括殼體組件1、進水口2、出水口3、電極板組4、離子膜，其特征在于：設置磁場裝置（5），磁場方向與流體移動的方向相互垂直；電極板組4中每三個極板為一小組，每小組的三個極板為一正、一負，中間一個極板接地。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：王洪，
申請(專利權)人：王洪，
類型：發明
國別省市：