噴沙處理方法技術

本發明專利技術的噴沙處理方法，是在由氮化鋁構成的被處理物的表面上噴射噴沙材料，將附著在該表面的堆積物除去，作為上述噴沙材料，使用碳化硅或氧化鋁構成、且粒度為＃４００～＃８００的沙粒，將噴沙材料撞擊到被處理物表面時的壓力，即噴沙材料壓力設定為４０～１５０ｇｆ／ｃｍ↑［２］。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及，更詳細地說，涉及除去附著在半導體制造裝置的構成部件上的堆積物的。
技術介紹
通常，在半導體部件的制造中，使用半導體制造裝置在晶片上形成硅氧化膜等各種膜。在構成該半導體制造裝置的加熱器、靜電吸盤或支架上，在膜生成過程中附著有堆積物。如果在加熱器或支架上附著堆積物的話，則晶片的熱均勻性降低，器件特性等的再現性降低。如果在靜電吸盤上附著堆積物的話，則不會產生足夠的靜電吸附力，表面粗糙度發生變化，與晶片的接合程度或熱傳導方式改變，對等離子體加熱時的晶片的熱均勻性降低，器件特性等的再現性降低。因此，在現有技術中對附著在半導體制造裝置的構成部件上的堆積物進行定期除去的作業(例如，參照日本特開2002-28599號公報以及特開2005-193308號公報)。然而，上述特開2002-28599號公報的現有技術記載的堆積物除去方法，是將玻璃珠噴沙材料噴射到被處理物上的方法，在被處理物上殘留有玻璃珠噴沙材料，有成為粒子污染源的危險。另外，上述特開2005-193308號公報所公開的堆積物的除去方法，是對被處理物噴射噴沙材料的方法，由于沒有規定噴射時的壓力等，所以有產生損傷被處理物表面等的問題的危險。
技術實現思路
本專利技術的目的在于提供一種不損傷被處理物的表面，而且能夠可靠地除去堆積物的。為了實現上述目的，本專利技術的，是在氮化鋁構成的被處理物的表面上噴射噴沙材料，將附著在該表面上的堆積物除去，其特征在于，作為上述噴沙材料，使用碳化硅或氧化鋁構成、且粒度為#400～#800的沙粒，將噴沙材料碰撞被處理物表面時的壓力，即噴沙材料壓力設定為40～150gf/cm2。采用本專利技術的，不損傷被處理物的表面，能夠僅除去附著在表面的堆積物，在噴沙處理后，噴沙材料幾乎不殘留在表面上。附圖說明圖1是表示本專利技術的實施方式所使用的作為被處理物的陶瓷加熱器的立體圖。圖2是表示在陶瓷加熱器的表面上實施噴沙處理的狀態的側視圖。圖3是概略表示在陶瓷加熱器的表面上實施噴沙處理的狀態的立體圖。圖4是表示在陶瓷加熱器的表面上的噴沙材料的分布范圍的示意圖。圖5是表示噴射噴沙材料的噴射機構的移動路徑和陶瓷加熱器的關系的示意圖。具體實施例方式以下對本專利技術的實施方式進行說明。首先說明被處理物。被處理物使用由氮化鋁(ALN)構成的部件。例如可采用陶瓷加熱器、靜電吸盤及支架等的半導體制造裝置的構成零件。圖1是表示本專利技術的實施方式所使用的作為被處理物的陶瓷加熱器1的立體圖。該陶瓷加熱器1由配置在上側的圓盤狀的板材3、接合在板材3的下面的細長的圓筒狀的軸5構成。并且，由于在板材3的表面3a上附著有堆積物，所以對該表面3a實施噴沙處理。其次說明噴沙材料。作為噴沙材料，使用由碳化硅(SiC)或氧化鋁(Al2O3)構成且粒度為#400～#800的沙粒。粒度未滿#400的場合，具有在板材3的表面3a上形成細微的凹凸，且熱均勻性降低的問題。另一方面，若粒度大于#800時，由于難以充分除去板材3的堆積物，所以有處理時間變得非常長的問題。接著說明噴沙處理裝置。如圖2所示，本實施方式的噴沙處理裝置7具備載置作為被處理物的陶瓷加熱器1的載置臺9；以及配置在該載置臺9上方的噴射機構11。上述載置臺9和噴射機構11構成為在大致水平方向相互正交并可移動，(參照圖5)，噴射機構11還可以向上下方向移動。在載置臺9的中央部設有插通孔13，在插通孔13中插入陶瓷加熱器1的軸5。另外，板材3的下面與載置臺9的上面接觸，使陶瓷加熱器1載置于載置臺9上。另外，如圖2所示，噴射機構11具備主體部15和在該主體部15的前端設置的噴嘴部17，從該噴嘴部17的前端噴出噴沙材料19。具體地說，如圖3所示，設有4個噴嘴17，從各噴嘴17的前端圓錐狀地噴出噴沙材料。因此，如圖4所示，各噴嘴部17之間在X方向及Y方向等間隔(例如各100mm)地相隔配置，所以，這4個噴嘴部17配置在正方形的頂點部分。因此，向板材3的表面3a噴射的噴沙材料19的分布范圍D在俯視時形成為一邊例如為200mm的大致正方形。下面說明噴沙處理條件。噴沙材料19接觸到板材3(被處理物)的表面3a時的壓力即噴沙壓力設定為40～150gf/cm2。該噴沙壓力是通過向板材3噴射噴沙材料19，板材3受到噴沙材料19的壓力。在噴沙壓力未滿40gf/cm2的場合，由于難以充分除去板材3的堆積物，所以存在需要非常長的處理時間的問題。另一方面，超過150gf/cm2的場合，有可能損傷板材3的表面3a，若發生該損傷，則由于存在在表面3a上形成細微的凹凸，且熱均勻性降低的問題，所以不好。另外，上述噴沙壓力更好是在60～100gf/cm2的范圍。還有，噴嘴部17的移動速度最好是5～15cm/min，從噴嘴部17的前端部至被處理物表面的距離最好是6～12cm。其次說明噴沙材料的噴射量。在作為上述被處理物的陶瓷加熱器1的板材3的表面3a，最好將每單位面積的噴沙材料19的噴射量設定為1.4～4.3g/cm2。在噴射量未滿1.4g/cm2的場合，由于難以充分除去板材3的堆積物，所以有處理時間變得非常長的問題。另一方面，在噴射量大于4.3g/cm2的場合，存在在板材3的表面3a上形成細微的凹凸，且熱均勻性降低的問題。噴射量更好是在1.7～2.8g/cm2的范圍。接著使用圖5簡單說明用于算出噴沙材料19的噴射量的算出方法。將板材3的表面3a上的每1mm2的噴射量設為Q，將對板材3的噴射時間的合計設為T，將板材3的表面3a上的每1mm2在1秒間的噴射量設為q，將噴嘴部17的移動速度設為V，將噴嘴部17的1個通路的長度設為200，每個噴嘴部17的1個通路的移動時間設為t，每1秒供給噴嘴部17的噴沙材料19的量設為G。首先，用下面公式求出板材3的表面3a上的每1mm2的噴射量Q。Q＝T×q (式1)這里，T只要是在每1個通路的移動時間內有通路次數即可。噴嘴部17由于1個通路結束后橫向偏移規定距離(例如5mm)并移動到下一通路，所以處理板材3的通路次數的合計為200/5＝40。因此，下面的算式成立。T＝(200/V)×(200/5)＝8000/V (式2)還有，板材3的表面3a上的每1mm2在1秒間的噴射量q用下面算式求出。Q＝G/(200×200)＝G/40000(式3)若將式2及式3代入上述式1，則成為下面的算式。Q＝T×q＝(8000/V)×(G/40000)＝G/5V(式4)下面說明。說明對作為被處理物的陶瓷加熱器1實施噴沙處理的順序。首先，如圖2所示，將陶瓷加熱器1載置于載置臺9上，使噴射機構11下降，從板材3的表面3a往上方保持在規定距離(例如100mm)的位置。其次如圖5所示，使噴射機構11以同一高度向Y方向以速度V呈直線狀水平移動。然后，在移動端使水平移動停止，在該狀態下，使載置臺9向X方向滑動規定距離(例如5mm)之后，使噴射機構11向反方向(-Y方向)水平移動。重復這種動作，進行規定通路次數(例如40通路)的噴沙處理。該噴沙處理結束后，用純凈水及IPA(異丙醇)進行超聲波洗凈并使之干燥。以下對本專利技術的實施方式的作用效果進行說明。根據本實施方式的，作為噴沙材料，使用由碳化硅(SiC)或氧化鋁(Al2O3)構成且粒度為#400～#800的沙粒，并將噴沙本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種噴沙處理方法，是在氮化鋁構成的被處理物的表面上噴射噴沙材料，將附著在該表面上的堆積物除去，其特征在于，作為上述噴沙材料，使用碳化硅或氧化鋁構成、且粒度為＃４００～＃８００的沙粒，將噴沙材料撞擊到被處理物表面時的壓力，即噴 沙壓力設定為４０～１５０ｇｆ／ｃｍ↑［２］。

【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：菊泰二，
申請(專利權)人：日本礙子株式會社，
類型：發明
國別省市：JP[日本]