帶涂層的膜的制造方法技術

本發明專利技術提供能夠明顯減弱干涉條紋的帶涂層的膜的制造方法。該方法具有：制備工序，制備含有光聚合引發劑、溶劑、活性射線固化單體和具有1種以上的分子量的活性射線固化樹脂的涂布液；涂布工序，在能夠滲透或能夠溶解所述溶劑的支撐體上涂布所述涂布液，形成涂層；照射工序，對所述涂層照射活性射線。在所述照射工序中，在所述涂層含有10重量％以上的所述溶劑的狀態下照射活性射線。

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種帶涂層的膜的制造方法，其具有如下工序，即，制備工序，制備含有1種以上的光聚合引發劑、溶劑、活性射線固化單體和具有1種以上的分子量的活性射線固化樹脂的涂布液；涂布工序，在能夠滲透或溶解所述溶劑的支撐體上涂布所述涂布液，形成涂層；照射工序，對所述涂層照射活性射線；其中，所述活性射線固化樹脂的分子量為2500以上，且所述活性射線固化樹脂在所述涂布液中的固體成分濃度為3重量％以上，在所述涂布液中的所述活性射線固化樹脂的固體成分和所述活性射線固化單體的固體成分總和的固體成分濃度為30重量％以上，將所述具有1種以上的分子量的活性射線固化樹脂中分子量為10萬以上的活性射線固化樹脂在所述涂布液中的固體成分濃度設為A重量％、分子量不足10萬的活性射線固化樹脂在所述涂布液中的固體成分濃度設為B重量％時，為B＞A≥0，在所述照射工序中，在所述涂層含有10重量％以上的所述溶劑的狀態下照射活性射線。

【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：國安諭司，齋川保，
申請(專利權)人：富士膠片株式會社，
類型：發明
國別省市：