一種電容式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產線制造技術

本實用新型專利技術公開了一種電容式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產線，包括真空鍍膜腔體和多個腔體支架，所述的真空鍍膜腔體安裝在多個腔體支架上，內部設有內傳送系統，真空鍍膜腔體依次分為進口真空段、進口緩沖真空段、進口過渡真空段、工藝鍍膜真空段、出口過渡真空段、出口緩沖真空段和出口真空段七段；每段均設有抽氣系統。本實用新型專利技術真空腔體之間采用插板閥隔開，可以實現有效隔斷，穩定工藝氣體；傳送系統采用磁導向，平穩性好；本實用新型專利技術實現了電容式觸摸屏連續批量生產，生產效率高。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及一種電容式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產線。
技術介紹
電容式觸摸屏是在玻璃表面鍍上一層透明的特殊導電物質。當手指觸摸在玻璃上時，觸點的電容就會發生變化，使得與之相連的振蕩器頻率發生變化，通過測量頻率變化可以獲得確定的觸摸位置信息。電容屏的工作原理是:電容式觸摸屏在觸摸屏四邊均鍍上狹長的電極，在導電體內形成一個低電壓交流電場。在觸摸屏幕時，由于人體電場，手指與導體層間會形成一個耦合電容，四邊電極發出的電流會流向觸點，而電流強弱與手指到電極的距離成正比，位于觸摸屏幕后的控制器便會計算電流的比例及強弱，準確算出觸摸點的位置。電容觸摸屏的雙玻璃不但能保護導體及感應器，更有效地防止外在環境因素對觸摸屏造成影響，就算屏幕沾有污穢、塵埃或油潰，電容式觸摸屏依然能準確算出觸摸位置。近年來，由于電容式觸摸屏具有抗損傷、耐劃傷、易清潔、靈敏度高、可以實現多觸點工作和可開發性強的特點；美國蘋果公司(Apple)、韓國三星公司(Samsung)、芬蘭諾基亞(Nokia)、中國聯想(Lenovo)和中國中興(ZTE)等手機廠商大量采用觸摸屏技術。觸摸屏的需求量巨大，而現有的生產觸摸屏鍍膜玻璃的生產線大都不能批量化連續的生產，生產效率低下，難以滿足市場需求。觸摸屏結構內具有以下幾種薄膜和相應的鍍膜方式:1、氧化銦錫(ITO)透明導電層，采用直流磁控濺射鍍膜方式；2、鑰鋁鑰(MoAlMo)復合金屬電極層，采用直流磁控濺射鍍膜方式；3、氧化鈮(Nb205)光學介質層，采用中頻磁控濺射鍍膜方式；4、氧化硅(Si02)光學介質層，采用中頻磁控濺射鍍膜方式。現有的生產觸摸屏鍍膜玻璃的生產線大都只能滿足一種薄膜材料的鍍膜，而不能同時滿足多種薄膜材料鍍膜的不同工藝的要求，因此生產不同的鍍膜觸摸屏，需要不同的生產線，成本高。
技術實現思路
為了解決上述問題，本技術提供了一種電容式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產線，實現了電容式觸摸屏批量連續生產，且一條生產線可滿足不同種類的薄膜材料的觸摸屏的生產。本技術采用的技術方案是:包括真空鍍膜腔體和多個腔體支架，所述的真空鍍膜腔體安裝在多個腔體支架上，內部設有內傳送系統，真空鍍膜腔體依次分為進口真空段、進口緩沖真空段、進口過渡真空段、工藝鍍膜真空段、出口過渡真空段、出口緩沖真空段和出口真空段七段；所述的進口真空段，進口處設有翻板閥，一側設有腔體維修門，附近設有由機械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統，前級抽氣系統通過抽氣管道與進口真空段的底部連接；所述的進口緩沖真空段與進口真空段連接處設有插板閥，進口緩沖真空段一側設有六位三裝分子泵高真空抽氣系統，進口緩沖真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與前級抽氣連接管道和六位三裝分子泵高真空抽氣系統連接；進口緩沖真空段附近設有由機械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統，前級抽氣系統通過抽氣管道與前級抽氣連接管道連接；所述的進口過渡真空段與進口緩沖真空段連接處設有插板閥，進口過渡真空段的一側安裝有六位二裝分子泵高真空抽氣系統，進口過渡真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與六位二裝分子泵高真空抽氣系統和抽氣連接管道連接；所述的工藝鍍膜真空段包括多個工藝真空模塊及至少一個工藝隔離真空模塊，每個工藝真空模塊的一側均安裝有三位二裝分子泵門和雙陰極門，底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與三位二裝分子泵門和抽氣連接管道連接；工藝鍍膜真空段附近設有由機械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統；前級抽氣系統通過抽氣管道與抽氣連接管道連通；所述的分子泵抽氣連接耦合器上設有三位三裝分子泵門；所述真空隔離模塊的一側安裝有六位五裝分子泵門；所述的出口過渡真空段與工藝鍍膜真空段連接處設有插板閥，出口過渡真空段一側設有六位二裝分子泵高真空抽氣系統，出口過渡真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與六位二裝分子泵高真空抽氣系統和抽氣連接管道連接；所述的出口緩沖真空段與出口過渡真空段連接處設有插板閥，出口緩沖真空段的一側設有六位三裝分子泵高真空抽氣系統，出口緩沖真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與六位三裝分子泵高真空抽氣系統和前級抽氣連接管道連接；出口緩沖真空段附近設有由機械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統，前級抽氣系統通過抽氣管道與前級抽氣連接管道連通；所述的出口真空段與出口緩沖真空段連接處設有插板閥，出口真空段出口處設有翻板閥，一側設有腔體維修門，附近設有由機械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統，前級抽氣系統通過抽氣管道與出口真空段的底部連接。上述的電容式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產線中，還包括進片架、出片架和回片架，進片架設在進口真空段的進口附近，進片架附近設有進片平移臺；出片架設在出口真空段的出口附近，出片架附近設有出片平移臺；所述回片架與真空鍍膜腔體平行，設置在真空鍍膜腔體附近；所述進片架、出片架和回片架上設有外傳送系統；上述的電容式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產線中，所述前級抽氣系統連接的抽氣管道上設有蝶閥。上述的電容式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產線中，所述真空鍍膜腔體采用SUS304不銹鋼焊接而成。上述的電容式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產線中，所述內傳送系統由內摩擦R輪和磁導向組成。上述的電容式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產線中，所述外傳送系統由外摩擦R輪、磁導向和安裝支架組成。上述的電容式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產線中，還包括純水冷卻供給系統、壓縮空氣供給系統，設置在真空鍍膜腔體的下方。上述的電容式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產線中，真空鍍膜腔體的上端還設有安裝線槽。本技術的技術效果在于:本技術的真空腔體之間采用插板閥隔開，可以實現有效隔斷，穩定工藝氣體，密封性更好，更耐用；本技術傳動裝置采用磁導向，傳送平穩性好；本技術適用于電容式觸摸屏用的鑰鋁鑰(MoAlMo)復合膜層、透明氧化銦錫薄膜(ΙΤ0)、氧化鈮(Nb205)膜和氧化硅(Si02)膜的連續批量生產，生產效率高，且生產不同鍍膜材料的觸摸屏，不需要另行建設新的生產線，節約了成本。附圖說明圖1是本技術的進口真空段的主視圖。圖2是本技術的進口真空段的俯視圖。圖3是本技術的進口緩沖真空段的主視圖。圖4是本技術的進口緩沖真空段的俯視圖。圖5是本技術的進口過渡真空段的主視圖。圖6是本技術的進口過渡真空段的俯視圖。圖7是本技術的工藝鍍膜真空段的主視圖。圖8是本技術的工藝鍍膜真空段的俯視圖。圖9是本技術的出口過渡真空段的主視圖。圖10是本技術的出口過渡真空段的俯視圖。圖11是本技術的出口緩沖真空段的主視圖。圖12是本技術的出口緩沖真空段的俯視圖。圖13是本技術的出口真空段的主視圖。圖14是本技術的出口真空段的俯視圖。圖15是本技術的出口真空段和進口真空段的左視圖。圖16是進口緩沖真空段、工藝鍍膜真空段和出口緩沖真空段的左視圖。具體實施方式以下結合附圖對本技術作進一步的說明。由圖f 16所示，本技術包括真空鍍膜腔體1、多個腔體支架2和回片架3，所述的真空鍍膜腔體I安裝在多個腔體支架2上，內部設有內傳送系統，真空鍍膜腔體I依次分為進口真空段11、進口緩沖真空段12、進口過渡真空段13、工藝鍍膜真空段14、出口過渡真空段15、出口緩沖真空段16和出口真空段17七段，進口真空段11的進口附近設有進片架4，進片架本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種電容式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產線，其特征是：包括真空鍍膜腔體和多個腔體支架，所述的真空鍍膜腔體安裝在多個腔體支架上，內部設有內傳送系統，真空鍍膜腔體依次分為進口真空段、進口緩沖真空段、進口過渡真空段、工藝鍍膜真空段、出口過渡真空段、出口緩沖真空段和出口真空段七段；所述的進口真空段，進口處設有翻板閥，一側設有腔體維修門，附近設有由機械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統，前級抽氣系統通過抽氣管道與進口真空段的底部連接；所述的進口緩沖真空段與進口真空段連接處設有插板閥，進口緩沖真空段一側設有六位三裝分子泵高真空抽氣系統，進口緩沖真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與前級抽氣連接管道和六位三裝分子泵高真空抽氣系統連接；進口緩沖真空段附近設有由機械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統，前級抽氣系統通過抽氣管道與前級抽氣連接管道連接；所述的進口過渡真空段與進口緩沖真空段連接處設有插板閥，進口過渡真空段的一側安裝有六位二裝分子泵高真空抽氣系統，進口過渡真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與六位二裝分子泵高真空抽氣系統和抽氣連接管道連接；所述的工藝鍍膜真空段包括多個工藝真空模塊及至少一個工藝隔離真空模塊，每個工藝真空模塊的一側均安裝有三位二裝分子泵門和雙陰極門，底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與三位二裝分子泵門和抽氣連接管道連接；工藝鍍膜真空段附近設有由機械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統；前級抽氣系統通過抽氣管道與抽氣連接管道連通；所述的分子泵抽氣連接耦合器上設有三位三裝分子泵門；所述真空隔離模塊的一側安裝有六位五裝分子泵門；所述的出口過渡真空段與工藝鍍膜真空段連接處設有插板閥，出口過渡真空段一側設有六位二裝分子泵高真空抽氣系統，出口過渡真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與六位二裝分子泵高真空抽氣系統和抽氣連接管道連接；所述的出口緩沖真空段與出口過渡真空段連接處設有插板閥，出口緩沖真空段的一側設有六位三裝分子泵高真空抽氣系統，出口緩沖真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與六位三裝分子泵高真空抽氣系統和前級抽氣連接管道連接；出口緩沖真空段附近設有由機械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統，前級抽氣系統通過抽氣管道與前級抽氣連接管道連通；所述的出口真空段與出口緩沖真空段連接處設有插板閥，出口真空段出口處設有翻板閥，一側設有腔體維修門，附近設有由機械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統，前級抽氣系統通過抽氣管道與出口真空段的底部連接。...

【技術特征摘要】
1.一種電容式觸摸屏磁控濺射鍍膜生產線，其特征是:包括真空鍍膜腔體和多個腔體支架，所述的真空鍍膜腔體安裝在多個腔體支架上，內部設有內傳送系統，真空鍍膜腔體依次分為進口真空段、進口緩沖真空段、進口過渡真空段、工藝鍍膜真空段、出口過渡真空段、出口緩沖真空段和出口真空段七段； 所述的進口真空段，進口處設有翻板閥，一側設有腔體維修門，附近設有由機械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統，前級抽氣系統通過抽氣管道與進口真空段的底部連接； 所述的進口緩沖真空段與進口真空段連接處設有插板閥，進口緩沖真空段一側設有六位三裝分子泵高真空抽氣系統，進口緩沖真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與前級抽氣連接管道和六位三裝分子泵高真空抽氣系統連接；進口緩沖真空段附近設有由機械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統，前級抽氣系統通過抽氣管道與前級抽氣連接管道連接; 所述的進口過渡真空段與進口緩沖真空段連接處設有插板閥，進口過渡真空段的一側安裝有六位二裝分子泵高真空抽氣系統，進口過渡真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與六位二裝分子泵高真空抽氣系統和抽氣連接管道連接； 所述的工藝鍍膜真空段包括多個工藝真空模塊及至少一個工藝隔離真空模塊，每個工藝真空模塊的一側均安裝有三位二裝分子泵門和雙陰極門，底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與三位二裝分子泵門和抽氣連接管道連接；工藝鍍膜真空段附近設有由機械泵與羅茲泵組成的前級抽氣系統；前級抽氣系統通過抽氣管道與抽氣連接管道連通；所述的分子泵抽氣連接耦合器上設有三位三裝分子泵門；所述真空隔離模塊的一側安裝有六位五裝分子泵門； 所述的出口過渡真空段與工藝鍍膜真空段連接處設有插板閥，出口過渡真空段一側設有六位二裝分子泵高真空抽氣系統，出口過渡真空段的底部通過分子泵抽氣連接耦合器分別與六位二裝分子泵高真空抽氣系統...

【專利技術屬性】
技術研發人員：郭愛云，黃國興，孫桂紅，祝海生，梁紅，黃樂，
申請(專利權)人：湘潭宏大真空技術股份有限公司，
類型：新型
國別省市：湖南;43