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    一種高頻脈沖射流武器艙噪聲抑制裝置制造方法及圖紙

    技術(shù)編號(hào):8703457 閱讀:136 留言:0更新日期:2013-05-15 23:57
    一種高頻脈沖射流武器艙噪聲抑制裝置,包括駐室模塊、噴管組件和共鳴腔組件;駐室模塊的底壁上有進(jìn)氣孔,駐室模塊內(nèi)有方腔式的穩(wěn)壓室,駐室模塊內(nèi)位于穩(wěn)壓室的后部有向內(nèi)凹的平臺(tái),在該平臺(tái)上固定設(shè)置有噴管組件和共鳴腔組件,共鳴腔組件上的多個(gè)共鳴管與噴管組件上的多個(gè)噴管分別相對(duì)應(yīng),每個(gè)噴管與對(duì)應(yīng)的共鳴管在同一軸線上;噴管組件與共鳴腔組件之間的間距為X=4-12mm。本發(fā)明專利技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)在于:1、激勵(lì)器與飛行器表面齊平安裝,不破壞飛行器光滑氣動(dòng)外形,從而不產(chǎn)生附加阻力;2、激勵(lì)器沒有活動(dòng)部件;3、激勵(lì)器在飛行馬赫數(shù)Ma>1后仍然具有較好的控制效果。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及一種噪聲抑制裝置,具體是一種高頻脈沖射流武器艙噪聲抑制裝置。本專利技術(shù)與飛行器開啟武器艙的氣動(dòng)噪聲水平降低有關(guān),通過該激勵(lì)器,向開啟的武器艙引入高頻脈沖射流,對(duì)剪切層施加激勵(lì),降低開啟武器艙的高強(qiáng)度氣動(dòng)噪聲。
    技術(shù)介紹
    軍用飛機(jī)通常要在飛行過程中投放/發(fā)射武器。現(xiàn)代軍用戰(zhàn)斗機(jī)一般將武器掛載在一個(gè)或多個(gè)武器艙內(nèi)部。武器艙通常包含一對(duì)艙門,只在投放/發(fā)射武器時(shí)打開,在其余飛行時(shí)間內(nèi),武器艙艙門處于關(guān)閉狀態(tài),以保持飛行器光滑氣動(dòng)型面,提高飛行器飛行性能,如機(jī)動(dòng)性、隱身性能、低阻性能等。在飛行狀態(tài),當(dāng)武器艙開啟后,在武器艙內(nèi)部低速氣流與武器艙外部高速氣流之間,形成一薄層流體,稱為自由剪切層。自由剪切層是不穩(wěn)定的,在其內(nèi)部形成大量的渦團(tuán)結(jié)構(gòu)。剪切層內(nèi)部渦團(tuán)結(jié)構(gòu)在隨剪切層跨過武器艙腔口后,與武器艙后壁相撞,形成高強(qiáng)度的空腔共振,從而在武器艙內(nèi)部形成高強(qiáng)度的氣動(dòng)噪聲,此高強(qiáng)度的氣動(dòng)噪聲對(duì)飛行器、武器艙及武器結(jié)構(gòu),武器艙內(nèi)電子設(shè)備均有破壞作用。目前,用于武器艙噪聲控制的激勵(lì)器為前緣擾流片(Spoiler)。前緣擾流片是一種伸出的流動(dòng)控制裝置,其表面高于武器艙腔口。前緣布置擾流裝置的流動(dòng)控制方法的存在其明顯的技術(shù)缺陷: 1、由于破壞了飛行器光滑的氣動(dòng)外形,產(chǎn)生附加阻力;2、擾流片需要在武器艙打開后伸出武器艙,需要復(fù)雜的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng),并增加結(jié)構(gòu)重量; 3、當(dāng)飛行馬赫數(shù)ife>l后,控制效果急劇下降,甚至失效。
    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
    本專利技術(shù)的目的,是提供一種高頻脈沖射流武器艙噪聲抑制裝置,能降低開啟武器艙的高強(qiáng)度氣動(dòng)噪聲。采用的技術(shù)方案是: 一種高頻脈沖射流武器艙噪聲抑制裝置,包括高頻脈沖射流激勵(lì)器; 所述高頻脈沖射流激勵(lì)器,包括駐室模塊、噴管組件和共鳴腔組件; 駐室模塊的底壁上有進(jìn)氣孔,駐室模塊內(nèi)有方腔式的穩(wěn)壓室,駐室模塊內(nèi)位于穩(wěn)壓室的后部有向內(nèi)凹的平臺(tái),在該平臺(tái)的左側(cè)和右側(cè)分別對(duì)稱固定設(shè)置有噴管組件定位銷和共鳴腔組件定位銷;在駐室模塊左側(cè)壁的上端面上的后部一體連接有左左連板,在駐室模塊右側(cè)壁的上端面上的后部一體連接有右連板; 噴管組件包括多個(gè)沿縱向等間距開設(shè)的噴管(收縮噴管或先收縮再擴(kuò)張噴管),噴管組件的左側(cè)和右側(cè)分別對(duì)稱開設(shè)有噴管組件定位銷卡槽,噴管組件設(shè)置于駐室模塊后部平臺(tái)上,駐室模塊平臺(tái)上對(duì)稱設(shè)置的二個(gè)噴管組件定位銷分別插入噴管組件左側(cè)和右側(cè)開設(shè)的噴管組件定位銷卡槽內(nèi),使噴管組件定位; 共鳴腔組件由多個(gè)等直徑共鳴管組成,共鳴管直徑與噴管組件噴管出口直徑相同,共鳴管的數(shù)目與噴管組件上的噴管數(shù)目相同,且位置相對(duì)應(yīng);共鳴腔組件設(shè)置在駐室模塊平臺(tái)上,平臺(tái)上對(duì)稱設(shè)置的二個(gè)共鳴腔組件定位銷分別插入共鳴腔組件左側(cè)和右側(cè)開設(shè)的共鳴腔組件定位銷卡槽內(nèi),使共鳴腔組件定位;共鳴腔組件位于噴管組件的后方,共鳴腔組件上的多個(gè)共鳴管與噴管組件上的多個(gè)噴管分別相對(duì)應(yīng),每個(gè)噴管與對(duì)應(yīng)的共鳴管在同一軸線上;噴管組件與共鳴腔組件之間的間距為X=4-12mm ; 在噴管組件的上端面和駐室模塊穩(wěn)壓室的上端面的周邊分別固定有密封圈,構(gòu)成閉環(huán)式密封結(jié)構(gòu),蓋板固定在駐室模塊的上端面上,蓋板的前端抵頂在左連板和右連板上,達(dá)到密封固定連接,所述蓋板為武器艙上的蓋板。駐室模塊底壁上的進(jìn)氣孔與供氣管路連接,高壓氣體通過供氣管路進(jìn)入激勵(lì)器駐室(穩(wěn)壓室),形成均勻高壓氣體。高壓氣體通過噴管以一定的射流速度噴射進(jìn)入末端封閉的共鳴腔組件共鳴管,共鳴管發(fā)生亥姆霍茲共鳴現(xiàn)象,形成一定頻率及強(qiáng)度的振蕩氣流,由射流噴管與共鳴腔之間開口端噴射入待控制流場(chǎng)中,對(duì)流場(chǎng)施加高頻脈沖射流激勵(lì),從而抑制和降低開啟武器艙門時(shí)產(chǎn)生的高強(qiáng)度氣動(dòng)噪聲。本專利技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)在于: 1、激勵(lì)器與飛行器表面齊平安裝,不破壞飛行器光滑氣動(dòng)外形,從而不產(chǎn)生附加阻力; 2、激勵(lì)器沒有活動(dòng)部件; 3、激勵(lì)器在飛行馬赫數(shù)ife>l后仍然具有較好的控制效果。附圖說明圖1是本專利技術(shù)的一種實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是圖1的分解示意圖。圖3是高頻脈沖氣流形成過程示意圖。圖4是本專利技術(shù)在飛機(jī)武器艙上應(yīng)用示意圖。圖中標(biāo)號(hào)20為高頻脈沖氣體、21為共鳴氣流、22為入射氣流、23為壓縮氣體。具體實(shí)施例方式一種高頻脈沖射流武器艙噪聲抑制裝置,包括高頻脈沖射流激勵(lì)器I ; 高頻脈沖射流激勵(lì)器I,包括駐室模塊2、噴管組件3和共鳴腔組件4 ; 駐室模塊2的底壁上有進(jìn)氣孔5,駐室模塊2內(nèi)有方腔式穩(wěn)壓室6,駐室模塊2內(nèi)位于穩(wěn)壓室6的后部有內(nèi)凹的平臺(tái)7,該平臺(tái)7上的左側(cè)和右側(cè)分別對(duì)稱固定有噴管組件定位銷9和共鳴腔組件定位銷8 ;在駐室模塊2的左側(cè)壁10上端面的后部固定有左連板11,在駐室|旲塊2的右側(cè)壁12的上端面的后部固定有右連板13 ;噴管組件3縱向開設(shè)有5個(gè)噴管15,噴管組件3的左側(cè)和右側(cè)分別對(duì)稱開設(shè)有噴管組件定位銷卡槽16,噴管組件3設(shè)置在平臺(tái)7上;平臺(tái)7上對(duì)稱設(shè)置的二個(gè)噴管組件定位銷9分別插入噴管組件3左側(cè)和右側(cè)開設(shè)的噴管組件定位銷卡槽16內(nèi),使噴管組件3定位;共鳴腔組件4縱向固定有5個(gè)共鳴管14,共鳴腔組件4左側(cè)和右側(cè)分別對(duì)稱開設(shè)有共鳴腔組件定位銷卡槽17 ;共鳴腔組件4設(shè)置在平臺(tái)7上,平臺(tái)7上對(duì)稱設(shè)置的二個(gè)共鳴腔組件定位銷8分別插入共鳴腔組件4左側(cè)和右側(cè)開設(shè)的共鳴腔組件定位銷卡槽17內(nèi),使共鳴腔組件4定位;噴管組件3位于共鳴腔組件4的前方,噴管組件3與共鳴腔組件4之間的間距為4.5、5、6、8或12mm,共鳴腔組件4上的5個(gè)共鳴管14分別與噴管組件3上的5個(gè)噴管15對(duì)應(yīng),且每一個(gè)噴管15與對(duì)應(yīng)的共鳴管14在同一軸線上;在噴管組件3的上端面和駐室模塊2的穩(wěn)壓室6的上端口處周邊固定有密封圈,構(gòu)成閉環(huán)式密封結(jié)構(gòu);使用時(shí)武器艙19上的蓋板18固定在駐室模塊2的上端面上,蓋板18的前端抵頂在左連板11和右連板13上。權(quán)利要求1.一種高頻脈沖射流武器艙噪聲抑制裝置,包括高頻脈沖射流激勵(lì)器;其特征在于: 所述高頻脈沖射流激勵(lì)器,包括駐室模塊、噴管組件和共鳴腔組件; 駐室模塊的底壁上有進(jìn)氣孔,駐室模塊內(nèi)有方腔式的穩(wěn)壓室,駐室模塊內(nèi)位于穩(wěn)壓室的后部有向內(nèi)凹的平臺(tái),在該平臺(tái)的左側(cè)和右側(cè)分別對(duì)稱固定設(shè)置有噴管組件定位銷和共鳴腔組件定位銷;在駐室模塊左側(cè)壁的上端面上的后部一體連接有左左連板,在駐室模塊右側(cè)壁的上端面上的后部一體連接有右連板; 噴管組件包括多個(gè)沿縱向等間距開設(shè)的噴管,噴管組件的左側(cè)和右側(cè)分別對(duì)稱開設(shè)有噴管組件定位銷卡槽,噴管組件設(shè)置于駐室模塊后部平臺(tái)上,駐室模塊平臺(tái)上對(duì)稱設(shè)置的二個(gè)噴管組件定位銷分別插入噴管組件左側(cè)和右側(cè)開設(shè)的噴管組件定位銷卡槽內(nèi),使噴管組件定位; 共鳴腔組件由多個(gè)等直徑共鳴管組成,共鳴管直徑與噴管組件的噴管出口直徑相同,共鳴管的數(shù)目與噴管組件上的噴管數(shù)目相同,且位置相對(duì)應(yīng);共鳴腔組件設(shè)置在駐室模塊的平臺(tái)上,平臺(tái)上對(duì)稱設(shè)置的二個(gè)共鳴腔組件定位銷分別插入共鳴腔組件左側(cè)和右側(cè)開設(shè)的共鳴腔組件定位銷卡槽內(nèi),使共鳴腔組件定位;共鳴腔組件位于噴管組件的后方,共鳴腔組件上的多個(gè)共鳴管與噴管組件上的多個(gè)噴管分別相對(duì)應(yīng),每個(gè)噴管與對(duì)應(yīng)的共鳴管在同一軸線上;噴管組件與共鳴腔組件之間的間距為X=4-12mm。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高頻脈沖射流武器艙噪聲抑制裝置,其特征在于:所述的在噴管組件的上端面和駐室本文檔來自技高網(wǎng)...

    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
    一種高頻脈沖射流武器艙噪聲抑制裝置,包括高頻脈沖射流激勵(lì)器;其特征在于:所述高頻脈沖射流激勵(lì)器,包括駐室模塊、噴管組件和共鳴腔組件;駐室模塊的底壁上有進(jìn)氣孔,駐室模塊內(nèi)有方腔式的穩(wěn)壓室,駐室模塊內(nèi)位于穩(wěn)壓室的后部有向內(nèi)凹的平臺(tái),在該平臺(tái)的左側(cè)和右側(cè)分別對(duì)稱固定設(shè)置有噴管組件定位銷和共鳴腔組件定位銷;在駐室模塊左側(cè)壁的上端面上的后部一體連接有左左連板,在駐室模塊右側(cè)壁的上端面上的后部一體連接有右連板;噴管組件包括多個(gè)沿縱向等間距開設(shè)的噴管,噴管組件的左側(cè)和右側(cè)分別對(duì)稱開設(shè)有噴管組件定位銷卡槽,噴管組件設(shè)置于駐室模塊后部平臺(tái)上,駐室模塊平臺(tái)上對(duì)稱設(shè)置的二個(gè)噴管組件定位銷分別插入噴管組件左側(cè)和右側(cè)開設(shè)的噴管組件定位銷卡槽內(nèi),使噴管組件定位;共鳴腔組件由多個(gè)等直徑共鳴管組成,共鳴管直徑與噴管組件的噴管出口直徑相同,共鳴管的數(shù)目與噴管組件上的噴管數(shù)目相同,且位置相對(duì)應(yīng);共鳴腔組件設(shè)置在駐室模塊的平臺(tái)上,平臺(tái)上對(duì)稱設(shè)置的二個(gè)共鳴腔組件定位銷分別插入共鳴腔組件左側(cè)和右側(cè)開設(shè)的共鳴腔組件定位銷卡槽內(nèi),使共鳴腔組件定位;共鳴腔組件位于噴管組件的后方,共鳴腔組件上的多個(gè)共鳴管與噴管組件上的多個(gè)噴管分別相對(duì)應(yīng),每個(gè)噴管與對(duì)應(yīng)的共鳴管在同一軸線上;噴管組件與共鳴腔組件之間的間距為X=4?12mm。...

    【技術(shù)特征摘要】

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:馮強(qiáng)張洋崔曉春李玲
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:中國(guó)航空工業(yè)集團(tuán)公司沈陽(yáng)空氣動(dòng)力研究所
    類型:發(fā)明
    國(guó)別省市:遼寧;21

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