人臉過曝的影像處理方法及其影像擷取裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術涉及一種人臉過曝的影像處理方法及其影像擷取裝置。影像處理方法包括下列步驟。首先，擷取一待處理影像，并針對此待處理影像進行人臉檢測程序，藉以定義出包括一或多個人臉的一人臉區域。接著，分析待處理影像中的人臉區域內的亮暗分布，并判斷人臉區域內是否存在過曝區域。若是，對待處理影像進行數字影像處理藉以模擬出第一曝光影像與第二曝光影像。利用在第一曝光影像中與過曝區域相對應的區域與第二曝光影像進行影像混合，藉以產生一處理后影像。本發明專利技術可直接于一般消費型相機中實現上述改善人臉局部過曝現象的功能。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及ー種影像處理方法及其影像擷取裝置，尤其涉及ー種處理人臉過曝現象的影像處理方法及其影像擷取裝置。
技術介紹
隨著科技的發展，相機、攝影機等各類影像擷取裝置在生活中已扮演著不可或缺的角色，無論是日常生活或是工作環境都是影像擷取裝置發揮其功能的舞臺。由于市面上充斥著各式各樣的影像擷取裝置，因此影像擷取裝置的功能多寡便成為消費者在購買時的考量之一。目前在相機領域里，一般在燈光復雜的環境中，對人像或人臉拍攝照片時，由于光線漫射的影響，極易造成臉部局部區域過度曝光，這種現象極易發生于一般油質的皮膚或是高度化妝的皮膚。舉例來說，在太陽底下臉部的局部油面現象或高度化妝的區域反射性比較大，進而造成相片中相對應區域產生過曝；或者于較暗的環境中使用閃光燈時，若打閃的亮度或角度不適當，亦容易造成局部區域過曝而降低影像品質。目前解決上述相片局部區域過度曝光的問題，大部分都是利用外在的輔助工具來控制光線的強弱與方向以降低人臉局部過曝現象，亦有些是于拍攝完畢之后，利用個人電腦或筆記型電腦等搭配一般影像處理軟件以人工方式對臉部影像做局部處理。然而，上述的解決方法皆須仰賴專業人士的處理或后制，對于一般消費者而言，實為不便。故，于一般相機中直接實現改善人臉局部過曝現象的功能實為消費者的需求，然而目前在相機領域里并未見到具有此種功能的相機。
技術實現思路
有鑒于此，本專利技術提供一種人臉過曝的影像處理方法及其影像擷取裝置，能直接于影像擷取裝置中實現改善人臉局部過曝現象的功能。本專利技術提出一種人臉過曝的影像處理方法，適用于影像擷取裝置，包括下列步驟。首先，擷取ー待處理影像，并針對此待處理影像進行人臉檢測程序，藉以定義出包括一或多個人臉的一人臉區域。接著，分析人臉區域內的影像亮暗分布，并判斷人臉區域內是否存在過曝區域。若是，對待處理影像進行數字影像處理藉以模擬出第一曝光影像與第二曝光影像。利用在第一曝光影像中與過曝區域相對應的區域與第二曝光影像進行影像混合，藉以產生ー處理后影像。在本專利技術的一實施例中，上述分析人臉區域內的影像亮暗分布，并判斷人臉區域內是否存在過曝區域的步驟包括分析并統計人臉區域內的每ー像素點的亮暗分布，進而產生ー亮度分布圖(Iuminancehistogram)。并且判斷用以表達此亮度分布圖的位元數是否超過ー預設位元數。若表達此亮度分布圖的位元數超過預設位元數，則利用待處理影像定義出過曝區域。在本專利技術的一實施例中，上述對待處理影像進行數字影像處理藉以模擬出第一曝光影像與第二曝光影像的步驟包括分析待處理影像的亮度分布并擷取較高位元部分的影像作為第一曝光影像。并且分析待處理影像的亮度分布以擷取較低位元部分的影像作為第ニ曝光影像。本專利技術另提出一種人臉過曝的影像處理方法，適用于一影像擷取裝置，其包括下列步驟。首先，設定第一曝光模式藉以擷取一第一待處理影像，并設定第二曝光模式藉以擷取一第二待處理影像，其中，第一曝光模式的曝光時間小于第二曝光模式的曝光時間。接著，對第二待處理影像進行人臉檢測程序，藉以定義出包括一或多個人臉的一人臉區域。然后，分析人臉區域內的影像亮暗分布，并判斷人臉區域內是否存在過曝區域。若是，利用在第一待處理影像中與過曝區域相對應的區域與第二待處理影像進行影像混合，藉以產生處理后影像。在本專利技術的一實施例中，上述在擷取第一待處理影像與第二待處理影像之后，還包括對第一待處理影像與第二待處理影像進行幾何校正，藉以產生第一校正后影像與第二校正后影像，進而對第二校正后影像進行人臉檢測程序。在本專利技術的一實施例中，上述分析人臉區域內的影像亮暗分布，并判斷人臉區域內是否存在過曝區域的步驟包括分析并統計人臉區域內的每ー像素點的亮暗分布，進而產生ー亮度分布圖。并且判斷用以表達此亮度分布圖的位元數是否超過ー預設位元數。若判斷表達此亮度分布圖的位元數超過此預設位元數，則利用第二待處理影像定義出過曝區域。本專利技術又提出一種處理人臉過曝的影像擷取裝置，其包括影像擷取模組、人臉檢測模組、影像處理模組以及影像混合模組。影像擷取模組用以擷取ー待處理影像。人臉檢測模組耦接至影像擷取模組，用以接收待處理影像并對待處理影像進行一人臉檢測，藉以定義出包括一或多個人臉的一人臉區域。影像處理模組耦接至人臉檢測模組，用以分析人臉區域內的影像亮暗分布，并判斷人臉區域內是否存在ー過曝區域。若是，影像處理模組對待處理影像進行數字影像處理藉以模擬出第一曝光影像與第二曝光影像。影像混合模組耦接至影像處理模組，利用在第一曝光影像中與過曝區域相對應的區域與第二曝光影像進行影像混合，藉以產生處理后影像。在本專利技術的一實施例中，上述影像處理模組分析并統計人臉區域內的每ー像素點的亮暗分布，進而產生ー亮度分布圖。影像處理模組并判斷用以表達此亮度分布圖的位元數是否超過ー預設位元數。若是，則影像處理模組利用待處理影像定義出過曝區域。在本專利技術的一實施例中，上述影像處理模組分析此亮度分布圖以擷取待處理影像中較高位元部分的影像作為第一曝光影像；影像處理模組并擷取待處理影像中較低位元部分的影像作為第二曝光影像。本專利技術再提出一種處理人臉過曝的影像擷取裝置，其包括影像擷取模組、人臉檢測模組、影像處理模組以及影像混合模組。其中，影像擷取模組設定第一曝光模式藉以擷取第一待處理影像，并設定第二曝光模式藉以擷取第二待處理影像。其中，第一曝光模式的曝光時間小于第二曝光模式的曝光時間。人臉檢測模組耦接至影像擷取模組，用以接收第二待處理影像并對第二待處理影像進行人臉檢測，藉以定義出包括一或多個人臉的一人臉區域。影像處理模組耦接至人臉檢測模組，用以分析人臉區域內的影像亮暗分布，并判斷人臉區域內是否存在ー過曝區域。影像混合模組耦接至影像處理模組，若影像處理模組判斷人臉區域內存在過曝區域，則影像混合模組利用在第一待處理影像中與過曝區域相對應的區域與第二待處理影像進行影像混合，藉以產生處理后影像。在本專利技術的一實施例中，上述的移除人臉過曝的影像擷取裝置還包括串接于影像擷取模組與人臉檢測模組之間的幾何校正模組。幾何校正模組用以接收第一待處理影像與第二待處理影像并進行幾何校正，藉以產生第一校正后影像與第二校正后影像。此外，幾何校正模組并將第二校正后影像傳送至人臉檢測模組以進行人臉檢測程序。在本專利技術的一實施例中，上述影像處理模組分析并統計人臉區域內的每ー像素點的亮暗分布，進而產生亮度分布圖。影像處理模組并判斷用以表達亮度分布圖的位元數是否超過ー預設位元數，若是，則影像處理模組利用第二待處理影像定義出過曝區域。基于上述，本專利技術所提供的人臉過曝的影像處理方法及其影像擷取裝置，針對正常曝光影像與低曝光影像，以所圈選的過曝區域進行影像混合，如此可以解決人臉因局部油面現象等所產生的局部過曝現象的問題。特別是本專利技術可直接于一般消費型相機中實現上述改善人臉局部過曝現象的功能。為讓本專利技術的上述特征和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，并配合所附圖作詳細說明如下。附圖說明圖1是依照本專利技術ー實施例所顯示的ー種影像擷取裝置的方塊圖。圖2是依照本專利技術ー實施例所顯示的一種人臉過曝的影像處理方法的流程圖。圖3(a)至圖3(c)是依照本專利技術ー實施例所顯示的亮度分布圖的范例。圖4是依照本專利技術另一實施例所顯示的ー種影像擷取裝置的方塊圖。圖5是依照本專利技術另一實本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種人臉過曝的影像處理方法，適用于一影像擷取裝置，包括：擷取一待處理影像，并針對該待處理影像進行一人臉檢測程序，藉以定義出包括至少一人臉的一人臉區域；分析該人臉區域內的影像亮暗分布，并判斷該人臉區域內是否存在一過曝區域；若是，對該待處理影像進行數字影像處理藉以模擬出一第一曝光影像與一第二曝光影像；以及利用在該第一曝光影像中與該過曝區域相對應的區域與該第二曝光影像進行影像混合，藉以產生一處理后影像。

【技術特征摘要】
1.一種人臉過曝的影像處理方法，適用于一影像擷取裝置，包括: 擷取一待處理影像，并針對該待處理影像進行一人臉檢測程序，藉以定義出包括至少一人臉的一人臉區域； 分析該人臉區域內的影像亮暗分布，并判斷該人臉區域內是否存在一過曝區域； 若是，對該待處理影像進行數字影像處理藉以模擬出一第一曝光影像與一第二曝光影像；以及 利用在該第一曝光影像中與該過曝區域相對應的區域與該第二曝光影像進行影像混合，藉以產生一處理后影像。2.根據權利要求1所述的人臉過曝的影像處理方法，其中分析該人臉區域內的影像亮暗分布，并判斷該人臉區域內 是否存在該過曝區域的步驟包括: 分析并統計該人臉區域內的每一像素點的亮暗分布，進而產生一亮度分布圖； 判斷用以表達該亮度分布圖的位元數是否超過一預設位元數；以及 若表達該亮度分布圖的位元數超過該預設位元數，利用該待處理影像定義出該過曝區域。3.根據權利要求2所述的人臉過曝的影像處理方法，其中對該待處理影像進行數字影像處理藉以模擬出該第一曝光影像與該第二曝光影像的步驟包括: 分析該亮度分布圖以擷取該待處理影像中較高位元部分的影像作為該第一曝光影像；以及 分析該亮度分布圖以擷取該待處理影像中較低位元部分的影像作為該第二曝光影像。4.一種人臉過曝的影像處理方法，適用于一影像擷取裝置，包括: 設定一第一曝光模式藉以擷取一第一待處理影像，并設定一第二曝光模式藉以擷取一第二待處理影像，其中，該第一曝光模式的曝光時間小于該第二曝光模式的曝光時間；對該第二待處理影像進行一人臉檢測程序，藉以定義出包括至少一人臉的一人臉區域； 分析該人臉區域內的影像亮暗分布，并判斷該人臉區域內是否存在一過曝區域；以及若是，利用在該第一待處理影像中與該過曝區域相對應的區域與該第二待處理影像進行影像混合，藉以產生一處理后影像。5.根據權利要求4所述的人臉過曝的影像處理方法，其中在擷取該第一待處理影像與該第二待處理影像后，還包括: 對該第一待處理影像與該第二待處理影像進行幾何校正，藉以產生一第一校正后影像與一第二校正后影像，進而對該第二校正后影像進行該人臉檢測程序。6.根據權利要求4所述的人臉過曝的影像處理方法，其中分析該人臉區域內的影像亮暗分布，并判斷該人臉區域內是否存在該過曝區域的步驟包括: 分析并統計該人臉區域內的每一像素點的亮暗分布，進而產生一亮度分布圖； 判斷用以表達該亮度分布圖的位元數是否超過一預設位元數；以及若判斷表達該亮度分布圖的位元數超過該預設位元數，利用該第二待處理影像定義出該過曝區域。7.一種處理人臉過曝的影像擷取裝置，包括: 一影像擷取模組，用以擷取一待處理影像；一人臉檢測模組，耦接至該影...

【專利技術屬性】
技術研發人員：李運錦，
申請(專利權)人：華晶科技股份有限公司，
類型：發明
國別省市：