本發(fā)明專利技術的粘合型光學薄膜具有光學薄膜和設置于前述光學薄膜的粘合劑層,前述粘合劑層的厚度(μm)的標準偏差值為0.12μm以下。該粘合型光學薄膜可以減少由粘合劑層引起的可視性的不均的問題。
【技術實現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及粘合型光學薄膜以及其制造方法。進而,本專利技術還涉及使用了所述粘合型光學薄膜的液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、CRT、PDP等圖像顯示裝置及前面板等與圖像顯示裝置一起使用的構件。作為前述光學薄膜,可使用偏光板、相位差板、光學補償薄膜、亮度提高薄膜、防反射薄膜等表面處理薄膜、以及層疊有它們的薄膜。前述粘合型光學薄膜中,使用偏光板作為光學薄膜的粘合型偏光板設置于液晶顯示裝置以及有機EL顯示裝置等圖像顯示裝置的可視側(cè)時,特別適合作為液晶顯示裝置中設置于相對于液晶單元的可視側(cè)的所謂上側(cè)的粘合型偏光板。該液晶顯示裝置中適用的上側(cè)的粘合型偏光板介由粘合型偏光板的粘合劑層貼合于液晶單兀。
技術介紹
對液晶顯示裝置以及有機EL顯示裝置等而言,因其圖像形成方式,例如在液晶顯示裝置中,在液晶單元的兩側(cè)必須配置偏光元件,通常粘貼有偏光板。另外在液晶面板及有機EL面板等顯示面板中,除了偏光板之外,為了提高顯示器的顯示質(zhì)量,使用各種各樣的光學元件。另外為了保護液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、CRT、PDP等圖像顯示裝置,或賦予高級感,或使設計差別化,通常使用前面板。這些液晶顯示裝置以及有機EL顯示裝置等圖像顯示裝置、前面板等與圖像顯示裝置一同使用的構件,例如使用用于防止著色的相位差板、用于改善液晶顯示器的視場角的視場角擴大薄膜、以及用于提高顯示器的對比度的亮度提高薄膜、為了賦予表面耐擦傷性而使用的硬涂層薄膜、用于防止對圖像顯示裝置的反射的防眩處理薄膜、抗反射薄膜、低反射薄膜等防反射薄膜等表面處理薄膜。這些薄膜統(tǒng)稱為光學薄膜。上述液晶面板以及有機電致發(fā)光(EL)面板等顯示面板在手表、移動電話、PDA、筆記本電腦、個人電腦用監(jiān)視器、DVD播放器、TV等中應用于液晶顯示裝置以及有機EL顯示裝置等。液晶面板中,由于液晶顯示裝置的顯示機構,作為光學薄膜,偏光板被用于液晶單元的兩側(cè)(上側(cè)可視側(cè)、下側(cè)可視側(cè)的相反側(cè)或者背光側(cè))。另外,偏光板通常在偏振片的單側(cè)或者兩側(cè)設置有透明保護薄膜。近年,對于液晶面板以及有機EL面板等顯示面板,提聞売度、聞精細化、低反射化等顯不特性相關的要求正在變聞。另外,對于液晶面板以及有機EL面板等顯示面板中使用的光學薄膜,對外觀的要求也一并變高。將前述光學薄膜貼合于液晶單元及有機EL面板等顯示面板、或前面板時,通常使用粘合劑。另外,關于光學薄膜與液晶單元以及有機EL面板等顯示面板、或前面板、或光學薄膜之間的粘接,通常,為了減少光的損失,各材料使用粘合劑進行密合。在這樣的情況下,由于具有在固定光學薄膜時不需要干燥工序等優(yōu)點,一般使用預先將粘合劑作為粘合劑層設置在光學薄膜的單側(cè)的粘合型光學薄膜。關于前述粘合劑層,從各種觀點控制提出了粘合劑層的表面狀態(tài)的方案。例如,對于設置于偏光板等的粘合劑層的厚度的不均,提出了通過減小標準偏差,提高高溫、高溫多濕環(huán)境下的耐久性(專利文獻I)。例如,提出了可以通過控制粘合劑層的表面粗糙度來抑制粘合劑層的不均、改善可視性的方案(專利文獻2)。現(xiàn)有專利文獻專利文獻專利文獻1:日本特開平9-90125號公報專利文獻2 :日本特開2008-302580號公報
技術實現(xiàn)思路
專利技術要解決的問題上述專利文獻1、2中提出了控制粘合劑層的表面狀態(tài)的方案。但是,專利文獻I中,公開了利用溶劑燒鑄法(Solvent casting method)形成標準偏差小的粘合劑層,但并沒有記載具體的粘合劑層的形成方法,實質(zhì)上不能形成標準偏差小的粘合劑層。另外,專利文獻2中,公開了控制粘合劑層的表面粗糙度,但是沒有關于將粘合劑層的厚度的不均控制得較小的記載。另外,以往,在上側(cè)偏光板中,相對于偏振片在可視側(cè)使用以為高霧度值的方式實施了防眩處理的透明保護薄膜。因此,即便偏光板、粘合劑層中存在凹凸,由于實施了防眩處理的透明保護薄膜的霧度值高,因此前述凹凸不會如想象那樣被識別為不均。另一方面,近年來,作為液晶顯示裝置,特別是TV、筆記本電腦、個人電腦用監(jiān)視器的液晶面板的最表面期望是重視亮度的所謂透亮且具有高級感的表面。作為這樣的透亮系的液晶顯不裝置,有將玻璃、亞克力板等如面板應用于液晶顯不裝置的最表面的液晶顯不裝置,但是前面板的采用會招致成本以及重量的上升,不優(yōu)選。另外,為了得到前述透亮系的液晶顯示裝置,上側(cè)偏光板中,作為相對于偏振片的可視側(cè)的透明保護薄膜,使用了沒有實施防眩處理、或者以為低霧度值的方式實施了防眩處理的透明保護薄膜。但是,使用這樣的未實施防眩處理或者實施了低霧度值的防眩處理的透明保護薄膜時,由于反射,使用以往的高霧度值的透明保護薄膜時不可視的偏光板、粘合劑層的凹凸變得可視。另外,前述液晶顯示裝置中在可視側(cè)設置前面板、觸摸面板的機種增加。這樣的結(jié)構中,為了抑制由空氣層與前面板、觸摸面板的界面上的反射導致的可視性的降低,有時在前面板、觸摸面板上貼合帶有粘合劑層的表面處理薄膜。但是,如上所述,以往的粘合型光學薄膜起因于光學薄膜以及粘合劑層的厚度不均的表面凹凸變大。近年,低霧度值且透亮的表面處理成為主流的潮流中,由粘合劑層和光學薄膜的凹凸造成的透亮的外觀受損成為問題,在帶有粘合劑層的表面處理薄膜中,也要求沒有凹凸的平滑的粘合劑層。本專利技術的目的在于提供粘合型光學薄膜以及其制造方法,所述粘合型光學薄膜為具有光學薄膜以及粘合劑層的粘合型光學薄膜,其可以降低由粘合劑層引起的可視性的不均問題。另外,本專利技術的目的在于提供粘合型偏光板以及其制造方法,其中,在前述粘合型光學薄膜為具有偏光板以及粘合劑層的粘合型偏光板時,該粘合型偏光板具有透亮的高級感而且減少了由粘合型偏光板引起的可視性的不均的問題。另外,本專利技術的目的還在于提供使用前述粘合型光學薄膜的圖像顯示裝置。_9] 用于解決問題的方案本專利技術人等為了解決前述問題進行了反復深入的研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn),通過下述的粘合型光學薄膜等能夠解決上述問題,從而完成了本專利技術。S卩,本專利技術涉及一種粘合型光學薄膜,其特征在于,其為具有光學薄膜和設置于前述光學薄膜的粘合劑層的粘合型光學薄膜,前述粘合劑層的厚度(μ m)的標準偏差值為0.12 μ m以下。作為前述粘合型光學薄膜,可以列舉出以下的薄膜:前述光學薄膜為在偏振片的單側(cè)具有第一透明保護薄膜或者在偏振片的兩側(cè)具有第一透明保護薄膜以及第二透明保護薄膜的偏光板(以下,粘合型光學薄膜中,將使用偏光板作為光學薄膜的粘合型光學薄膜稱為粘合型偏光板);前述第一透明保護薄膜的霧度值為15%以下;前述粘合劑層設置于偏光板的不具有前述第一透明保護薄膜側(cè)。前述粘合型偏光板中,前述第一透明保護薄膜的厚度優(yōu)選為60μπι以下。前述粘合型偏光板中,優(yōu)選的是,前述偏光板在偏振片的兩側(cè)具有第一透明保護薄膜以及第二透明保護薄膜,第一透明保護薄膜以及第二透明保護薄膜的至少任一者的厚度為60 μ m以下。前述粘合型偏光板中,前述偏振片的厚度優(yōu)選為ΙΟμπι以下。前述粘合型光學薄膜中,可以使用相位差板作為前述光學薄膜。前述相位差板的厚度優(yōu)選為60 μ m以下。前述粘合型光學薄膜中,可優(yōu)選使用霧度值為15%以下的光學薄膜作為前述光學薄膜。該光學薄膜作為以貼合于前面板或者觸摸面板為目的的光學薄膜是合適的。前述霧度值為15%以下的光學薄膜優(yōu)選厚度為60 μπι以下。另外,作為前述霧度值本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2010.09.03 JP 2010-198126;2010.12.01 JP 2010-268471.一種粘合型光學薄膜,其特征在于,其為具有光學薄膜和設置于所述光學薄膜的粘合劑層的粘合型光學薄膜, 所述粘合劑層的厚度(μπι)的標準偏差值為0.12 μ m以下。2.根據(jù)權利要求1所述的粘合型光學薄膜,其特征在于,所述光學薄膜為在偏振片的單側(cè)具有第一透明保護薄膜或者在兩側(cè)具有第一透明保護薄膜以及第二透明保護薄膜的偏光板, 所述第一透明保護薄膜的霧度值為15%以下, 所述粘合劑層設置于偏光板的不具有所述第一透明保護薄膜側(cè)。3.根據(jù)權利要求1或2所述的粘合型光學薄膜,其特征在于,所述第一透明保護薄膜的厚度為60 μ m以下。4.根據(jù)權利要求2或3所述的粘合型光學薄膜,其特征在于,所述偏光板在偏振片的兩側(cè)具有第一透明保護薄膜以及第二透明保護薄膜,第一透明保護薄膜以及第二透明保護薄膜的至少任一者的厚度為60 μ m以下。5.根據(jù)權利要求2 4的任一項所述的粘合型光學薄膜,其特征在于,所述偏振片的厚度為10 μ m以下。6.根據(jù)權利要求1所述的粘合型光學薄膜,其特征在于,所述光學薄膜為相位差板。7.根據(jù)權利要求6所述的粘合型光學薄膜,其特征在于,所述相位差板的厚度為60μ m以下。8.根據(jù)權利要求1所 述的粘合型光學薄膜,其特征在于,所述光學薄膜的霧度值為15%以下。9.根據(jù)權利要求8所述的粘合型光學薄膜,其特征在于,所述光學薄膜是以貼合于前面板或者觸摸面板為目的的光學薄膜。10.根據(jù)權利要求8或9所述的粘合型光學薄膜,其特征在于,所述光學薄膜的厚度為60 μ m以下。11.根據(jù)權利要求8 10的任一項所述的粘合型光學薄膜,其特征在于,所述光學薄膜為表面處理薄膜。12.—種粘合型光學薄膜的制造方法,其特征在于,其為具有光學薄膜和設置于所述光學薄膜的粘合劑層的權利要求1 11的任一項所述的粘合型光學薄膜的制造方法, 其具有: 工序(IA):將粘度Y(P)的粘合劑涂覆液以涂覆厚度Χ( μπι)涂覆在所述光學薄膜上;以及, 工序(2Α):將涂覆的粘合劑涂覆液干燥,形成粘合劑層, 而且,所述粘合劑涂覆液的粘度Y和涂覆厚度X滿足0.8Χ — Y < 68。13.一種粘合型光學薄膜的制造方法,其特征在于,其為具有光學薄膜和設置于所述光學薄膜的粘...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員:保井淳,外山雄祐,石井孝證,藤田昌邦,木村智之,佐竹正之,后藤周作,喜多川丈治,宮武稔,森智博,上條卓史,
申請(專利權)人:日東電工株式會社,
類型:
國別省市:
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