拋光系統的拋光墊技術方案

一種可安裝到拋光板的拋光系統的拋光墊，并且具有預先確定的溝槽圖案，以允許從拋光液供給器供給的拋光液在拋光表面移動。所述溝槽圖案具有至少兩種圖案。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本公開涉及一種拋光墊，更具體地，涉及到一種拋光用于液晶顯示器的玻璃板的拋光系統的拋光墊。
技術介紹
一般，用于將液晶顯示器的玻璃板(或玻璃基板)的平面度維持到指定水平，以精確呈現圖像是非常重要的。所述玻璃板通過熔融法或浮法制備。大多數現有的玻璃板(大約95%或更多)是用浮法制備。浮法生產的玻璃(或浮法玻璃)在漂浮盆中被處理成帶狀，并在接下來的切割工藝中切分為預先確定尺寸。另外，執行拋光工藝，移除出現在所述浮法玻璃表面上的細微不平或雜質。同時,所述玻璃基板的拋光工藝可以分類為稱作‘奧斯卡(Oscar)’法的逐一拋光單個玻璃基板的方法和稱作‘排隊(inline)’法的依次拋光成隊玻璃基板的方法。另外，傳統的拋光工藝也可以分類為僅拋光玻璃基體一個表面的‘單面拋光’和拋光玻璃基體兩個表面的‘兩面拋光’。在玻璃板位于下單元(或，下板)上，并且拋光板的拋光墊(或，上板)的拋光墊接觸到玻璃板的情況下，通過在下單元旋轉時將拋光液供給到拋光板，所述傳統玻璃拋光設備拋光玻璃板。與被拋光的玻璃板表面相接觸的用于拋光玻璃板的拋光墊被附著到所述玻璃板拋光設備的拋光板上。圖1是概要示出傳統拋光墊的平面圖。參考圖1，傳統的拋光墊I整體上具有盤形，并且包括在中心處制備的中心供給孔2和六個徑向布置在預先確定半徑的徑向供給孔3。所述供給孔2和3用于接收從外面流向所述拋光墊的拋光表面的拋光液。同時，在拋光墊I的拋光面處提供了溝槽，以將從孔2和3供給所述拋光液規則地分散到整個拋光表面。這個溝槽具有直線形式(矩形網格)的溝槽圖案。然而，由于接觸到玻璃板(未示出)的拋光墊I的旋轉(沿順時針方向或沿反時針方向)，離心力影響從拋光墊I的拋光面上形成的溝槽中流過的拋光液。因此，在傳統的拋光墊I中，拋光墊I的旋轉方向與拋光表面的所述直線網格狀溝槽圖案不一致。這導致了流過在拋光墊I處形成的溝槽的拋光液的流量差異或不均勻流動。同時，在所述拋光墊I具有這種溝槽圖案的情況下，如果拋光速率高或供給的拋光液量大，在所述拋光工藝中可能發生打滑現象。圖2是示出所測量的流過圖1的傳統拋光墊的所述溝槽的拋光液的速度分布圖。這里，所述圖的X軸表示拋光墊I的任意位置，它的意思是以羅馬字母表示的方向，且Y軸表示拋光液的流速(kg/m2s)。參考圖2,從所述拋光墊I的整個拋光表面產生的拋光液的速度偏差是O. 6m/s,這是非常大的。換言之，在接近拋光板I的邊緣處，所述拋光液的流動差異是很顯著的。
技術實現思路
技術問題本專利技術設計來解決之前的技術問題，因此本公開的目的是提供有改進結構的拋光系統的拋光墊，通過優化在拋光墊處形成的溝槽圖案，可以將拋光液均勻分布到整個拋光表面。技術方案在一方面，本公開提供拋光系統的拋光墊，它能夠安裝到拋光板并具有預先確定的溝槽圖案，以允許從拋光液供給器供給的拋光液在拋光表面移動，其中，所述溝槽圖案具有至少兩種圖案。在一個優選實施例中，所述拋光圖案可以包括在包含拋光墊中心的第一區域中形成的第一溝槽圖案；以及在圍繞所述第一區域的第二區域中形成的第二溝槽圖案，該第二區域從中心到外側與第一區域分開。所述第一溝槽圖案可以是或不是傳統的直線網格圖案。然而，由于所述第二溝槽圖案更被拋光墊離心力影響，所述第二溝槽圖案優選地配置為非直線形式(例如，徑向形式、彎曲形式、二次曲線或其類似形式)，并且，如本領域技術人員所理解，其方向可以與所述旋轉方向一致或相反。在一個優選實施例中，所述第二溝槽圖案可以包括至少兩個從所述中心同心排列并以預先確定的間隔相互分開的環形溝槽；以及多個從所述中心徑向延伸與所述環形溝槽相交的徑向溝槽。在一個優選實施例中，每個徑向溝槽設置為與拋光墊的離心方向一致。在一個優選實施例中，每個徑向溝槽優選地配置為直線形式，但作為替代，對于本領域技術人員很明顯，所述徑向溝槽可以具有非直線形式，以提供與拋光墊的離心力對應的效果。在一個優選實施例中，所述第二區域可以包括配置為與所述第一區域鄰接的內側區域和配置在所述內側區域外側的外側區域，并且，在所述第二溝槽圖案中，所述外側區域的溝槽可以配置得比所述內側區域的溝槽更密。在一個替代實施例中，所述內側區域的溝槽可以布置得比所述外側區域的溝槽更LU O在一個優選實施例中，所述第二溝槽圖案可以還包括在所述外側區域的相鄰徑向溝槽之間形成的第二徑向溝槽。對本領域技術人員很明顯，所述第二徑向溝槽用來將所述溝槽布置更密，并且可以配置為曲線形狀而不用直線形狀。在一個優選實施例中，所述拋光液供給器可以包括將拋光液供給到所述第一區域的第一供給器，以及將拋光液供給到所述第二區域的第二供給器。優選地，所述第一供給器可以包括形成為穿過所述第一供給器，與所述中心一致的第一孔，以及配置為穿過所述第一區域，與所述第一孔和所述第二供給器相通的直線供給通道。在一個優選實施例中，所述第二供給器可以包括在所述第一區域與所述第二區域的邊界線上形成為穿過所述第二供給器的多個第二孔；位于所述邊界線上與所述第二孔相通的環形供給通道；以及形成為有徑向形狀的從每個第二孔彎曲向外的曲線徑向供給通道。在一個優選實施例中，所述拋光墊可以是圓形。所述拋光墊優選具有圓盤形，其直徑大約200mm。在一個優選實施例中，所述第一溝槽圖案可以包括多個相互大體正交的網格狀溝槽。在一個優選實施例中，所述溝槽可以具有大約I到30mm的寬度，并且相鄰溝槽的間隔可以是大約10到100mm。在一個優選實施例中，所述拋光墊用于拋光使用浮法制備的浮法玻璃。然而，對于本領域技術人員很明顯，所述拋光墊也可以應用于用熔融法制備的玻璃或其他需要精確拋光以維持預先確定平面度的部件。有益效果通過形成在與拋光墊產生的離心力大體一致的方向上具有徑向圖案的所謂徑向溝槽，依據本公開的拋光系統的所述拋光墊可以最小化拋光液流過拋光表面的溝槽時的流量差異或偏差。因而，在所述拋光系統的拋光工藝中，可以保證均勻而寬泛的工藝范圍。同時，如果形成了所述徑向溝槽圖案，即使拋光系統的拋光速度相對降低或減少拋光液供給量，也可以阻止不必要的打滑現象。附圖說明從下面參考附圖的實施例描述中，本公開的其他對象和方面將變得明顯。所述附圖示出了液體供給器和薄膜清除系統，以及根據示例實施例的方法。然而，應該理解，本公開不限于附圖描繪的零件和方法。在附圖中圖1是概要地示出傳統拋光墊的平面圖；圖2是示出所測量的流過圖1的傳統拋光墊的溝槽的拋光液的速度分布的圖；圖3是一個示意圖，示出一個玻璃板拋光系統，其中可以安裝根據本公開的優選實施例的拋光墊；圖4是示出根據本公開的優選實施例的拋光墊的平面圖；圖5是示出圖4的“A”部分的放大圖；圖6是示出圖4的“B”部分的放大圖；圖7是沿圖4線7-7的截面圖；以及圖8是示出拋光液的流速差異測量結果的圖表，它是在圖4顯示的根據本公開的優選實施例的拋光墊上測量出的。具體實施例方式在下面的詳細描述中使用的詞語都是為方便起見且不應限定本公開。詞語如“左”、“右”、“頂面”、以及“底面”表示在所述附圖中所引用的不同方向。詞語如“向內”和“向外”分別表示朝向和背離各個所設計的儀器的幾何中心的方向。詞語如“前面”、“后面”、“上面”、“下面”及其相關單詞和短語表示在附圖中所引用的位置和方向，并且，它們并不試圖對本公開做限定。這些詞語本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2010.08.18 KR 10-2010-00798821.拋光系統的拋光墊，能夠安裝到拋光板，并且具有預先確定的溝槽圖案以允許從拋光液供給器供給的拋光液在拋光表面移動，其中，所述溝槽圖案具有至少兩種圖案。2.根據權利要求1所述的拋光系統的拋光墊，其中，所述的拋光圖案包括:第一溝槽圖案，在包含拋光墊中心的第一區域中形成；以及第二溝槽圖案，在與所述第一區域從所述中心到外側分開以圍繞所述第一區域的第二區域中形成。3.根據權利要求2所述的拋光系統的拋光墊，其中，所述第二溝槽圖案包括:至少兩個環形溝槽，從所述中心同心排列，并且以預先確定的間隔相互分開；以及多個徑向溝槽，從所述中心徑向延伸與所述環形溝槽相交。4.根據權利要求3所述的拋光系統的拋光墊，其中，每個徑向溝槽被設置為與所述拋光墊的離心方向一致。5.根據權利要求2所述的拋光系統的拋光墊，其中，所述第二區域包括配置為與所述第一區域鄰接的內側區域和配置在所述內側區域外側的外側區域，并且其中，在所述第二溝槽圖案中，所述外側區域的溝槽配置得比所述內側區域的溝槽更 LU O6.根據權利要求5所述的...

【專利技術屬性】
技術研發人員：閔庚勳，林云勳，李大淵，宋在翊，樸壽讃，
申請(專利權)人：LG化學株式會社，
類型：
國別省市：