本發明專利技術涉及玻璃鍍膜領域，特別是涉及一種低輻射鍍膜玻璃及其夾層玻璃制品，尤其是安裝在交通工具上的單銀或雙銀低輻射鍍膜玻璃。所述的低輻射鍍膜玻璃包括玻璃基板和低輻射薄膜，所述低輻射薄膜包括至少兩個介質層和至少一個紅外反射層，每個紅外反射層位于兩個介質層之間，在所述玻璃基板表面和所述低輻射薄膜之間增設高折射率層和低折射率層。所述的低輻射鍍膜玻璃及其夾層玻璃制品通過增設高折射率層和低折射率層一方面能夠更好地在高溫熱處理過程中阻擋玻璃中堿金屬離子的擴散，另一方面能夠在保證可見光透過率基本不變的情況下大幅提高近紅外區域反射率，從而降低了太陽能直接透過率，使其具有更好的太陽能阻隔能力。
【技術實現步驟摘要】
:本專利技術涉及玻璃鍍膜領域，特別是涉及一種銀基低輻射鍍膜玻璃及其夾層玻璃制品，尤其是安裝在交通工具上的單銀或雙銀低輻射鍍膜玻璃。
技術介紹
:低輻射(low-e)鍍膜玻璃具有透過可見光和反射紅外線的優點，從而可以明顯地降低汽車的空調能耗以及提高駕駛員和乘客的舒適度，因此作為一種綠色環保產品在建筑和交通工具上面有巨大的市場需求。銀基低輻射鍍膜玻璃的核心材料是一層或者多層的銀(Ag)層，由于銀(Ag)層容易被腐蝕和氧化，所以必須在銀(Ag)層的上、下方都沉積有能夠透過可見光的透明介質層；這些介質層必須致密性好、熱穩定性高，從而為銀層提供足夠的熱、力和化學保護。在銀基低輻射鍍膜玻璃的介質層中，最靠近玻璃基板的介質層和最遠離玻璃基板的銀層上方的介質層對銀層的保護特別重要，特別是最靠近玻璃基板的介質層必須能夠在高溫下阻隔來自玻璃中的堿金屬離子和氧原子的滲透作用。另一方面，這些介質層也能夠起到對可見光的減反射作用，與銀層結合在一起實現可見光較好的透過和反射特性。現有技術中，作為銀基低輻射鍍膜玻璃的介質層要求具備較高的折射率，從而在與銀層結合使達到最好的可見光減反射效果，一般采用的折射率大于1.7，優選地大于1.8，更優選地大于2.0，選用的材料一般從Zn、Sn、T1、Nb、Zr、B1、Ta、N1、Cr等金屬及其合金的氧化物中選取，或者從S1、Al、T1、Zr、Hf、Nb等金屬及其合金的氮化物、氮氧化物中選取。然而，這種技術方案很難達到光學上的最佳效果，特別是對于可調參數相對較少的單銀和雙銀低輻射鍍膜玻璃，實際生產過程中容易出現外觀顏色不佳、近紅外區域反射率偏低等問題。 為解決上述問題，公開的文獻中已經存在多種技術方案嘗試解決上述問題，例如美國專 ^lJ US6586102 (BI), US6589658 (BI), US6830817 (B2), US7090921 (B2)和US7455910(B2)披露了在單銀或雙銀低輻射鍍膜玻璃中最遠離玻璃基板的膜層為包含了SiON或SiO2的低折射率膜層，其膜層厚度為20 50nm，其專利技術目的是降低可見光反射率，提高可見光透過率和得到改進的反射顏色，但是該技術方案僅僅改進了其玻璃產品的外觀顏色，在玻璃產品的能量阻隔能力方面無顯著改善。為了得到改進的反射顏色，美國專利US5965246(A)公開了在原有的低輻射鍍膜中與玻璃基板直接接觸的介質層和玻璃基板之間插入折射率比玻璃基板還低的AlOF(折射率為1.37)膜層，膜層厚度為30 50nm。該技術方案同樣僅僅改進了其玻璃產品的外觀顏色，在玻璃產品的能量阻隔能力方面無顯著改善。還有美國專利US6355334(B1)和中國專利CN1946645(A)公開了在原有低輻射鍍膜玻璃中最遠離玻璃基板的介質層上依次疊加低折射率層和高折射率層的至少兩層膜層，并通過優化調節各膜層的厚度，從而能夠得到改進的外觀顏色、增加近紅外區域反射率和提高紅外反射能力的優點。然而該技術方案并未能減少在高溫熱處理過程中來自玻璃中的堿金屬離子的擴散破壞作用。此外，中國專利CN102092959(A)公開了一種含有三層復合減反層的髙遮陽三銀低輻射鍍膜玻璃，該技術主要應用于工程玻璃領域，其銀層與玻璃基板之間以及銀層與銀層之間均采用了 Si02+Zn0的雙層組合，該技術方案對低折射率層的引入并未起到顯著改善光學效果的作用
技術實現思路
:本專利技術所要解決的技術問題是顯著降低現有低輻射鍍膜玻璃的太陽能直接透過率和改善其外觀質量，提供一種低輻射鍍膜玻璃，同時還提供一種應用有該低輻射鍍膜玻璃的夾層玻璃制品。本專利技術解決其技術問題所采取的技術方案是:一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板和設置在玻璃基板表面上的低輻射薄膜，所述低輻射薄膜包括至少兩個介質層和至少一個紅外反射層，每個紅外反射層位于兩個介質層之間，其特征在于:在所述玻璃基板表面和所述低輻射薄膜之間增設高折射率層和低折射率層，所述高折射率層、低折射率層和低輻射薄膜在所述玻璃基板表面按照以下順序向外依次設置:高折射率層、低折射率層和低輻射薄膜；其中，所述高折射率層的折射率大于1.7，其厚度為40 150nm ;所述低折射率層的折射率小于1.7，其厚度為40 150nm ;所述高折射率層與所述低折射率層的折射率差不小于0.3。優選地，所述高折射率層的折射率為1.9 2.7，所述低折射率層的折射率為1.4 1.6。優選地，所述紅外反射層為銀層或含銀的合金層。優選地,所述高折射率層選自Zn、Sn、T1、Zr、Nb、Ta、Hf等金屬及其合金的氧化物中至少一種，或者選自S1、Al、T1、Zr、Hf、Nb等金屬及其合金的氮化物、氮氧化物中至少一種。`優選地,所述低折射率層選自Si02、A1203、SiAlOx和富氧的SiAlOxNy (x>y)中的至少一種。優選地，還包括保護層，所述保護層作為最外層而設置在最遠離玻璃基板的紅外反射層上方的介質層之上，其中所述保護層的厚度為0.5 50nm。進一步地，所述低輻射薄膜包括兩個介質層和一個紅外反射層，所述介質層、紅外反射層、高折射率層和低折射率層在所述玻璃基板表面按照以下順序向外依次設置:高折射率層、低折射率層、下介質層、第一紅外反射層和上介質層；其中，下介質層的厚度為20 60nm,第一紅外反射層的厚度為7 20nm,上介質層的厚度為20 50nm。更進一步地,所述介質層選自Zn、Sn、T1、Zr、Nb、Ta、Hf等金屬及其合金的氧化物中至少一種，或者選自S1、Al、T1、Zr、Hf、Nb等金屬及其合金的氮化物、氮氧化物中至少一種。可選地，在所述下介質層與所述第一紅外反射層之間和/或在所述第一紅外反射層與所述上介質層之間設置阻隔層，所述阻隔層的厚度為0.5 10nm，所述阻隔層選自T1、N1、Cr、Al、Zr、Zn、Nb、Ta等金屬及其合金的金屬、氧化物、氮化物、氮氧化物、不完全氧化物、不完全氮化物、不完全氮氧化物中至少一種。進一步地，所述低輻射薄膜包括三個介質層和兩個紅外反射層，所述介質層、紅外反射層、高折射率層和低折射率層在所述玻璃基板表面按照以下順序向外依次設置:高折射率層、低折射率層、下介質層、第一紅外反射層、中間介質層、第二紅外反射層和上介質層；其中，下介質層的厚度為20 60nm，第一紅外反射層和第二紅外反射層的厚度均為7 20nm,中間介質層的厚度為40 90nm,上介質層的厚度為15 50nm。更進一步地,所述介質層選自Zn、Sn、T1、Zr、Nb、Ta、Hf等金屬及其合金的氧化物中至少一種，或者選自S1、Al、T1、Zr、Hf、Nb等金屬及其合金的氮化物、氮氧化物中至少一種。可選地，在所述下介質層與所述第一紅外反射層之間和/或在所述第一紅外反射層與所述中間介質層之間設置第一阻隔層，所述第一阻隔層的厚度為0.5 10nm，所述第一阻隔層選自T1、N1、Cr、Al、Zr、Zn、Nb、Ta等金屬及其合金的金屬、氧化物、氮化物、氮氧化物、不完全氧化物、不完全氮化物、不完全氮氧化物中至少一種。可選地，在所述中間介質層與所述第二紅外反射層之間和/或在所述第二紅外反射層與所述上介質層之間設置第二阻隔層，所述第二阻隔層的厚度為0.5 10nm，所述第二阻隔層選自T1、N1、C本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板和設置在玻璃基板表面上的低輻射薄膜，所述低輻射薄膜包括至少兩個介質層和至少一個紅外反射層，每個紅外反射層位于兩個介質層之間，其特征在于：在所述玻璃基板表面和所述低輻射薄膜之間增設高折射率層和低折射率層，所述高折射率層、低折射率層和低輻射薄膜在所述玻璃基板表面按照以下順序向外依次設置：高折射率層、低折射率層和低輻射薄膜；其中，所述高折射率層的折射率大于1.7，其厚度為40～150nm；所述低折射率層的折射率小于1.7，其厚度為40～150nm；所述高折射率層與所述低折射率層的折射率差不小于0.3。
【技術特征摘要】
1.一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板和設置在玻璃基板表面上的低輻射薄膜，所述低輻射薄膜包括至少兩個介質層和至少一個紅外反射層，每個紅外反射層位于兩個介質層之間，其特征在于:在所述玻璃基板表面和所述低輻射薄膜之間增設高折射率層和低折射率層，所述高折射率層、低折射率層和低輻射薄膜在所述玻璃基板表面按照以下順序向外依次設置:高折射率層、低折射率層和低輻射薄膜；其中，所述高折射率層的折射率大于1.7，其厚度為40 150nm ;所述低折射率層的折射率小于1.7，其厚度為40 150nm ;所述高折射率層與所述低折射率層的折射率差不小于0.3。2.根據權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述高折射率層的折射率為1.9 2.7，所述低折射率層的折射率為1.4 1.6。3.根據權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述紅外反射層為銀層或含銀的合金層。4.根據權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述高折射率層選自Zn、Sn、T1、Zr、Nb、Ta、Hf等金屬及其合金的氧化物中至少一種，或者選自S1、Al、T1、Zr、Hf、Nb等金屬及其合金的氮化物、氮氧化物中至少一種。5.根據權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述低折射率層選自Si02、A1203、SiAlOx和富氧的SiAlOxNy (x>y)中的至少一種。6.根據權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:還包括保護層，所述保護層作為最外層而設置在最遠離玻璃基板的紅外反射層上方的介質層之上，其中所述保護層的厚度為0.5 50nm。7.根據權利要求1-6任意一項所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述低輻射薄膜包括兩個介質層和一個紅外反射層，所述介質層、紅外反射層、高折射率層和低折射率層在所述玻璃基板表面按照以下順序向外依次設置:高折射率層、低折射率層、下介質層、第一紅外反射層和上介質層；其中，下介質層的厚度為20 60nm，第一紅外反射層的厚度為7 20nm,上介質層的厚度為20 50nm。8.根據權利要求7所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述介質層選自Zn、Sn、T1、Zr、Nb、Ta、Hf等金屬及其合金的氧化物中至少一種，或者選自S1、Al、T1、Zr、Hf、Nb等金屬及其合金的氮化物、氮氧化物中至少一種。9.根據權...
【專利技術屬性】
技術研發人員：曹暉，袁軍林，福原康太，林柱，何立山，盧國水，彭穎昊，王騰，朱謐，
申請(專利權)人：福耀玻璃工業集團股份有限公司，
類型：發明
國別省市：
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