等離子噴涂CoCrW涂層質(zhì)量的金相評定方法，具體是：選定金相試樣中的檢測視場，進行拍照；對選定并已經(jīng)拍照的視場進行分析：并滿足下述要求即認為該涂層質(zhì)量滿足合格要求：1）要求底層與基體、面層與底層界面污染均小于20%；2）涂層內(nèi)不允許有裂紋；3）氧化物含量小于10%，不允許有連續(xù)條狀氧化物，不允許有直徑大于60μm團狀氧化物；4）孔隙率小于15%；5）未熔顆粒小于20%，直徑小于100μm。本發(fā)明專利技術(shù)在根據(jù)上述對應(yīng)質(zhì)量要求的基礎(chǔ)上，確定了等離子噴涂CoCrW涂層的金相制樣方法及顯微組織各相含量評定標(biāo)準。
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及熱噴涂涂層質(zhì)量判定標(biāo)準制定的
，特別提供了一種。
技術(shù)介紹
現(xiàn)有技術(shù)中，CoCrff合金涂層為950°C以下使用的高溫耐磨涂層，CoCrff合金粉末材料也早已實現(xiàn)了國產(chǎn)化研究及批量生產(chǎn)，在軍用和民用發(fā)動機等零件上應(yīng)用廣泛。目前，國內(nèi)對該涂層的性能質(zhì)量判定僅有硬度或結(jié)合強度等力學(xué)性能，對等離子噴涂CoCrW涂層的金相顯微組織質(zhì)量控制要求處于空白。為了提高涂層質(zhì)量，更好地控制涂層零件的噴涂生產(chǎn)，人們迫切希望盡快開展等離子噴涂CoCrW涂層金相標(biāo)準制定工作， 完善熱噴涂涂層性能標(biāo)準，提高熱噴涂涂層質(zhì)量控制水平。人們渴望得到一種。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的目的是提供一種技術(shù)效果較好的，其能夠完善等離子噴涂CoCrW涂層質(zhì)量檢驗標(biāo)準，提高該涂層的質(zhì)量控制水平， 保證該涂層使用的可靠性。本專利技術(shù)一種，其特征在于具體是選定金相試樣中的檢測視場，進行拍照；對選定并已經(jīng)拍照的視場進行如下分析并滿足下述要求即認為該涂層質(zhì)量滿足合格要求O要求底層與基體、面層與底層界面污染均小于20% ；2)涂層內(nèi)不允許有裂紋；3)氧化物含量小于10%,不允許有連續(xù)條狀氧化物,不允許有直徑大于60μ m團狀氧化物；4)孔隙率小于15%；5)未熔顆粒小于20%，直徑小于100μ m。 所述中，界面污染程度的分析和計算滿足下述要求根據(jù)污染長度與整個視場的長度比值計算界面污染含量。定義涂層中粉末顆粒保持原有形狀并且其寬高比小于3:2稱為未熔顆粒；根據(jù)標(biāo)尺及顯微鏡測量工具計算未熔顆粒大小，其含量采用面積法進行計算根據(jù)在視場中未熔顆粒面積占涂層面積對應(yīng)計算為含量值(視場中未熔顆粒面積占涂層面積的百分比)。未熔顆粒剝落或者噴涂工藝參數(shù)不當(dāng)，將會產(chǎn)生孔隙；孔隙率具體采用下述兩種方式測量其一，面積法，具體是將視場中孔隙面積占涂層面積的百分比作為孔隙率值；其二，采用帶有相分析功能的顯微鏡進行相分析得到孔隙率值。噴涂過程中，粉末在飛行過程中容易氧化，氧化物成條狀或簇狀孔隙率；用下述兩 種方法之一測量氧化物含量其一，面積法，具體是計算視場中孔隙面積占涂層面積的百分 比，該值即為氧化物含量值；其二，采用帶有相分析功能的顯微鏡進行相分析得到氧化物含 量值。制作金相試樣的過程滿足下述要求首先采用水冷切割機及SiC或Al2O3砂輪進行切 割，要求砂輪滿足下述要求厚度為1.直徑25mm-40mm ;切割后進行研磨和拋光處理，研磨和拋光壓力要求為20-23N。為了避免金相檢測樣品在制樣過程中可能產(chǎn)生的多種 假象而影響金相判定，應(yīng)確定合理的等離子噴涂CoCrW合金涂層金相制樣參數(shù)。根據(jù)等離 子噴涂CoCrW涂層的硬度及韌性,對于等離子噴涂CoCrW耐磨涂層,確定了金相樣品的制作 要求。所述對應(yīng)的等離子噴涂CoCrW涂層質(zhì) 量要求是涂層結(jié)合強度大于20. 7MPa，硬度HR15N大于69。本專利技術(shù)在根據(jù)上述對應(yīng)質(zhì)量 要求的基礎(chǔ)上，確定了等離子噴涂CoCrW涂層的金相制樣方法及顯微組織各相含量評定標(biāo) 準。針對等離子噴涂CoCrW高溫耐磨涂層進行涂層金相組織分析，在涂層在滿足力學(xué)性能 指標(biāo)的要求下，檢測涂層金相指標(biāo)的范圍，包括涂層界面污染、裂紋、氧化物、孔隙、未熔顆 粒等各項指標(biāo)的含量范圍。通過參考國外相似成分涂層質(zhì)量檢驗標(biāo)準模式，制定該涂層的 金相檢驗標(biāo)準。通過涂層金相標(biāo)準的制定，可以確保涂層質(zhì)量穩(wěn)定性和一致性，提高涂層質(zhì)量控 制水平及涂層應(yīng)用的可靠性，同時降低零件涂層的返修率。等離子噴涂CoCrW高溫耐磨涂 層金相標(biāo)準可以在軍工及民用行業(yè)獲得廣泛應(yīng)用，將會產(chǎn)生巨大的社會效益和顯著的經(jīng)濟 效益。附圖說明下面結(jié)合附圖及實施方式對本專利技術(shù)作進一步詳細的說明圖1為等離子噴涂CoCrW涂層典型顯微組織結(jié)構(gòu)之一(200X);圖2為等離子噴涂CoCrW涂層典型顯微組織結(jié)構(gòu)之二(200 X )；圖3為等離子噴涂CoCrW涂層典型顯微組織結(jié)構(gòu)之三(200 X )。具體實施方式實施例1一種,等離子噴涂CoCrW涂層質(zhì)量的金相 評定方法具體是選定金相試樣中的檢測視場，進行拍照；對選定并已經(jīng)拍照的視場進行如下分析并 滿足下述要求即認為該涂層質(zhì)量滿足合格要求O要求底層與基體、面層與底層界面污染均小于20% ；2)涂層內(nèi)不允許有裂紋；3)氧化物含量小于10%,不允許有連續(xù)條狀氧化物,不允許有直徑大于60μ m團狀氧化物；4)孔隙率小于15%；5)未熔顆粒小于20%，直徑小于100μ m。所述中，界面污染程度的分析和計算滿足下述要求根據(jù)污染長度與整個視場的長度比值計算界面污染含量。如圖1所示，計算得出界面污染為7. 6% ；定義涂層中粉末顆粒保持原有形狀并且其寬高比小于3:2稱為未熔顆粒；如圖2所示，根據(jù)標(biāo)尺及顯微鏡測量工具計算未熔顆粒大小，其含量采用面積法進行計算根據(jù)在視場中未熔顆粒面積占涂層面積對應(yīng)計算為含量值(視場中未熔顆粒面積占涂層面積的百分比)，圖2中未熔顆粒大小為32 μ m,含量為5%。未熔顆粒剝落或者噴·涂工藝參數(shù)不當(dāng)，將會產(chǎn)生孔隙，如圖2所示；孔隙率具體采用面積法測量，具體是將視場中孔隙面積占涂層面積的百分比作為孔隙率值。圖2中孔隙大小為42 μ m，含量為12%。噴涂過程中，粉末在飛行過程中容易氧化，氧化物成條狀或簇狀孔隙率，如圖3 所示，用下述面積法測量氧化物含量，具體是計算視場中孔隙面積占涂層面積的百分比， 該值即為氧化物含量值。圖3中簇狀氧化物大小為45 μ m，彌散的條狀氧化物及簇狀氧化物含量共計7%。制作金相試樣的過程滿足下述要求首先采用水冷切割機及SiC或Al2O3砂輪進行切割，要求砂輪滿足下述要求厚度為1. 8mm，直徑35mm ;切割后進行研磨和拋光處理，研磨和拋光壓力要求為21N。為了避免金相檢測樣品在制樣過程中可能產(chǎn)生的多種假象而影響金相判定，應(yīng)確定合理的等離子噴涂CoCrW合金涂層金相制樣參數(shù)。根據(jù)等離子噴涂CoCrW 涂層的硬度及韌性，對于等離子噴涂CoCrW耐磨涂層，確定了金相樣品的制作要求。所述對應(yīng)的等離子噴涂CoCrW涂層質(zhì)量要求是涂層結(jié)合強度大于20. 7MPa，硬度HR15N大于69。根據(jù)上述對應(yīng)質(zhì)量要求的基礎(chǔ)上，確定了等離子噴涂CoCrW涂層的金相制樣方法及顯微組織各相含量評定標(biāo)準。針對等離子噴涂CoCrW高溫耐磨涂層進行涂層金相組織分析，在涂層在滿足力學(xué)性能指標(biāo)的要求下，檢測涂層金相指標(biāo)的范圍，包括涂層界面污染、裂紋、氧化物、孔隙、未熔顆粒等各項指標(biāo)的含量范圍。通過參考國外相似成分涂層質(zhì)量檢驗標(biāo)準模式，制定該涂層的金相檢驗標(biāo)準。通過涂層金相標(biāo)準的制定，可以確保涂層質(zhì)量穩(wěn)定性和一致性，提高涂層質(zhì)量控制水平及涂層應(yīng)用的可靠性，同時降低零件涂層的返修率。等離子噴涂CoCrW高溫耐磨涂層金相標(biāo)準可以在軍工及民用行業(yè)獲得廣泛應(yīng)用，將會產(chǎn)生巨大的社會效益和顯著的經(jīng)濟效益。實施例2本實施例和實施例1內(nèi)容基本相同，其不同之處主要在于I)孔隙率具體采用下述方式測量采用帶有相分析功能的顯微鏡進行相分析得到孔隙率值。圖2中孔隙大小為42 μ m,含量為12%。2)用下述方法測量氧化物含量采用帶有相分析功能的顯微鏡進行相分析得到氧化物含量值。圖3中簇狀氧化物大小為45 μ m，彌散的條狀氧化物及簇狀氧化物含量共計7%。3)金相試片厚度為O. 2_。4)制本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護點】
等離子噴涂CoCrW涂層質(zhì)量的金相評定方法，其特征在于：等離子噴涂CoCrW涂層質(zhì)量的金相評定方法具體是：選定金相試樣中的檢測視場，進行拍照；對選定并已經(jīng)拍照的視場進行分析：并滿足下述要求即認為該涂層質(zhì)量滿足合格要求：1）要求底層與基體、面層與底層界面污染均小于20%；2）涂層內(nèi)不允許有裂紋；3）氧化物含量小于10%，不允許有連續(xù)條狀氧化物，不允許有直徑大于60μm團狀氧化物；4）孔隙率小于15%；5）未熔顆粒小于20%，直徑小于100μm。
【技術(shù)特征摘要】
1.等離子噴涂CoCrW涂層質(zhì)量的金相評定方法,其特征在于等離子噴涂CoCrW涂層質(zhì)量的金相評定方法具體是 選定金相試樣中的檢測視場，進行拍照；對選定并已經(jīng)拍照的視場進行分析并滿足下述要求即認為該涂層質(zhì)量滿足合格要求 1)要求底層與基體、面層與底層界面污染均小于20%； 2)涂層內(nèi)不允許有裂紋； 3)氧化物含量小于10%,不允許有連續(xù)條狀氧化物,不允許有直徑大于60ii m團狀氧化物； 4)孔隙率小于15%； 5)未熔顆粒小于20%，直徑小于100u m。2.按照權(quán)利要求1所述等離子噴涂CoCrW涂層質(zhì)量的金相評定方法，其特征在于所述等離子噴涂CoCrW涂層質(zhì)量的金相評定方法中，界面污染程度的分析和計算滿足下述要求 根據(jù)污染長度與整個視場的長度比值計算界面污染含量。3.按照權(quán)利要求1所述等離子噴涂CoCrW涂層質(zhì)量的金相評定方法，其特征在于根據(jù)標(biāo)尺及顯微鏡測量工具計算未熔顆粒大小，其含量采用面積法進行計算根據(jù)在視場中未熔顆粒面積占涂層面積對應(yīng)計算為含量值。4.按照權(quán)利要求1所述等離子噴涂CoCrW涂層質(zhì)量的金相評定...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：張佳平，王璐，鄒卓，楊江龍，李爽，
申請(專利權(quán))人：沈陽黎明航空發(fā)動機集團有限責(zé)任公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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