等離子割炬制造技術(shù)

一種等離子割炬，由槍體、保護(hù)套、分配器、噴嘴、電極組成，以電極的軸線為基準(zhǔn)，分配器、噴嘴、電極同軸對(duì)中定位，分配器卡在電極上，噴嘴上部卡在分配器上，保護(hù)套將噴嘴緊托固定。由于采用新的設(shè)計(jì)及一系列附加特征，使本發(fā)明專利技術(shù)割炬成為一個(gè)系列，能使用于不同等級(jí)的電流，切割不同厚度、不同材料的型材、板材，厚度可達(dá)１００毫米以上。（*該技術(shù)在2013年保護(hù)過(guò)期，可自由使用*）

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本專利技術(shù)涉及一種等離子割炬，屬焊接機(jī)械。等離子割炬是等離子切割機(jī)的一個(gè)主要的切割附件，結(jié)構(gòu)很多。常用的割炬均有切割厚度小、使用時(shí)間短等問(wèn)題。本專利技術(shù)的目的是提供一種使用壽命長(zhǎng)，切割厚度大的新型割炬。本專利技術(shù)的技術(shù)方案是割炬由槍體、保護(hù)套、分配器、噴嘴、電極組成，以電極的軸線為基準(zhǔn)，分配器、噴嘴、電極同軸對(duì)中定位，分配器卡在電極上，噴嘴上部卡在分配器上，保護(hù)套下部有槽，噴嘴下部座于槽內(nèi)下部，保護(hù)套將噴嘴緊托固定。由于設(shè)計(jì)上采用分配器、噴嘴與電極同軸定位，以電極軸線為基準(zhǔn)，保證氣流運(yùn)行暢通，提高等離子弧的實(shí)際效果，達(dá)到切割厚度大，使用壽命長(zhǎng)，完成專利技術(shù)任務(wù)。附圖說(shuō)明圖1是本專利技術(shù)的實(shí)施例之一。圖2所示是電極的一個(gè)實(shí)施例。圖3所示是電極的第二個(gè)實(shí)施例。圖4所示是噴嘴的一個(gè)實(shí)施例。圖5所示是噴嘴前端面結(jié)構(gòu)實(shí)施例。本專利技術(shù)割炬由槍體、保護(hù)套、分配器、噴嘴、電極組成，以電級(jí)的軸線為基準(zhǔn)，分配器、噴嘴、電極同軸對(duì)中定位，分配器卡在電極上，噴嘴上部卡在分配器上，保護(hù)套將噴嘴緊托固定。電極(2)可以是實(shí)心圓柱體，上下對(duì)稱，中間有凸臺(tái)，也可以是空心結(jié)構(gòu)，內(nèi)部通以冷卻介質(zhì)，同樣具有凸臺(tái)(圖1、2、3)，鉿絲位于電極工作端。分配器(3)卡在電極的凸臺(tái)上，分配器(3)下部有凸肩部，噴嘴(1)上部卡在分配器(3)的凸肩部。保護(hù)套(4)下部有槽，噴嘴(1)座于槽內(nèi)。保護(hù)套(4)固定在槍體上，將噴嘴、分配器、電極緊托固定。保護(hù)套(4)可以有內(nèi)襯(5)，保護(hù)套下部的槽可設(shè)計(jì)在內(nèi)襯(5)上(圖1)，即內(nèi)襯(5)上有槽，噴嘴(1)座于內(nèi)襯(5)的槽內(nèi)。當(dāng)工作氣體進(jìn)入內(nèi)襯(5)與分配器(3)之間的空腔后，一部分工作氣體進(jìn)入分配器沿電極(2)與噴嘴(1)之間的通道高速切向旋轉(zhuǎn)，至電極鉿絲引弧后由噴嘴(2)前端小孔噴出。為使工作氣不受阻，提高效率，電極(2)前端設(shè)計(jì)有外錐角α(圖2、圖3)，α角小于、等于70度，大于、等于40度(即40°≤α≤70°)。同理噴嘴(1)前端設(shè)計(jì)壓縮角β(圖4)，β角大于、等于40度，小于、等于70度。當(dāng)α＝β，且α＝β＝45°時(shí)，可得最佳效果。進(jìn)入保護(hù)套內(nèi)襯(5)空腔的工作氣體，除一部分進(jìn)入分配器外，另一部分通過(guò)保護(hù)套內(nèi)襯上的徑向小孔(6)噴出，冷卻噴嘴(1)。為提高冷卻效果，徑向小孔可設(shè)計(jì)有6只至12只。當(dāng)徑向小孔設(shè)計(jì)成8只時(shí)，達(dá)到最佳效果。保護(hù)套(4)可以沒(méi)有內(nèi)襯，即內(nèi)襯與保護(hù)套合一，則徑向小孔(6)即在保護(hù)套上。當(dāng)工作電流大，則電極可設(shè)計(jì)成中空(圖3)，冷卻介質(zhì)經(jīng)電極(2)中空部分循環(huán)運(yùn)轉(zhuǎn)，達(dá)到冷卻電極的效果。冷卻介質(zhì)可以是水，也可以是氣，甚至是工作氣。這時(shí)，工作氣先進(jìn)入電極中空內(nèi)腔，再?gòu)膬?nèi)腔流出，流進(jìn)保護(hù)套(內(nèi)襯)內(nèi)空腔。不論冷卻介質(zhì)是水還是氣，都要在電極內(nèi)增加一個(gè)空心直管。空心直管位于電極中空內(nèi)部，形成直管外，電極內(nèi)壁內(nèi)的冷卻介質(zhì)回路通道。噴嘴(1)前端面可設(shè)計(jì)有槽，槽深α大于等于0.2毫米，小于、等于1毫米。應(yīng)用實(shí)施例1，應(yīng)用本專利技術(shù)割炬，工作電流60安培，切割厚度為3毫米不銹鋼，割口平整。顯示比同類割炬提高切割能力40%。應(yīng)用實(shí)施例2，應(yīng)用本專利技術(shù)，工作電流250安培割炬，切割95毫米厚的不銹鋼板，割口平整。由于本專利技術(shù)的一系列的附加特征，使本專利技術(shù)割炬成為一個(gè)系列，能應(yīng)用于切割不同厚度、不同材料板材、型板，厚度最大可達(dá)100毫米以上。割口平齊。實(shí)驗(yàn)證實(shí)，本專利技術(shù)割炬，結(jié)構(gòu)輕巧，使用方便且壽命長(zhǎng)，效率好。權(quán)利要求1.一種等離子割炬，由槍體、保護(hù)套、分配器、噴嘴、電極組成，其特征是以電極的軸線為基準(zhǔn)，分配器、噴嘴、電極同軸對(duì)中定位，分配器卡在電極上，噴嘴上部卡在分配器上，保護(hù)套將噴嘴緊托固定。2.由權(quán)利要求1所示的等離子割炬，其特征是電極有凸臺(tái)，分配器卡在電極的凸臺(tái)上，分配器下部有凸肩部，噴嘴上部卡在分配器的凸肩部。3.由權(quán)利1、2所示的等離子切割炬，其特征是保護(hù)套有內(nèi)襯，內(nèi)襯上有槽，噴嘴座于槽內(nèi)。4.由權(quán)利要求1所示的等離子割炬，其特征是電極前端有外錐角α，α角小于、等于70度，大小、等于40度。即(40°≤α≤70°)。5.由權(quán)利要求1所示的等離子割炬，其特征是噴嘴前端有壓縮角β，β大于等于40度，小于、等于70度(40°≤β≤70°)。6.由權(quán)利要求1、4、5所示的等離子割炬，其特征是α＝β。7.由權(quán)利要求1所示的等離子割炬，其特征是電極和噴嘴在保護(hù)套外的外伸長(zhǎng)度大于20毫米。8.由權(quán)利要求1、3所示的等離子割炬，其特征是保護(hù)套內(nèi)襯前端，有徑向小孔，小孔數(shù)量m在6只至12只之間，即6≤m≤12。9.由權(quán)利要求1、3所示的等離子割炬，其特征是保護(hù)內(nèi)襯前端有8只徑向小孔。10.由權(quán)利要求1所示的等離子割炬，其特征是噴嘴噴射口直徑d與深度h有關(guān)系式1.6≤h/d≤2.2。11.由權(quán)利要求1所示的等離子割炬，其特征是噴嘴噴射口直徑d大于、等于1.2毫米，小于、等于2.8毫米，即1.2毫米≤d≤2.8毫米。12.由權(quán)利要求1所示的等離子割炬，其特征是噴嘴噴射口前端面有槽，槽深a大于、等于0.2毫米，小于、等于1毫米(0.2＜α＜1.0)。全文摘要一種等離子割炬，由槍體、保護(hù)套、分配器、噴嘴、電極組成，以電極的軸線為基準(zhǔn)，分配器、噴嘴、電極同軸對(duì)中定位，分配器卡在電極上，噴嘴上部卡在分配器上，保護(hù)套將噴嘴緊托固定。由于采用新的設(shè)計(jì)及一系列附加特征，使本專利技術(shù)割炬成為一個(gè)系列，能使用于不同等級(jí)的電流，切割不同厚度、不同材料的型材、板材，厚度可達(dá)100毫米以上。文檔編號(hào)B23K10/00GK1083424SQ93103649公開(kāi)日1994年3月9日 申請(qǐng)日期1993年4月6日 優(yōu)先權(quán)日1993年4月6日專利技術(shù)者林春華 申請(qǐng)人:鐵道部戚墅堰機(jī)車車輛工藝研究所本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種等離子割炬，由槍體、保護(hù)套、分配器、噴嘴、電極組成，其特征是以電極的軸線為基準(zhǔn)，分配器、噴嘴、電極同軸對(duì)中定位，分配器卡在電極上，噴嘴上部卡在分配器上，保護(hù)套將噴嘴緊托固定。

【技術(shù)特征摘要】

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：林春華，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：鐵道部戚墅堰機(jī)車車輛工藝研究所，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：32[中國(guó)|江蘇]