【技術實現步驟摘要】
本技術涉及一種水槽，在槽體的底部設置導水堰，放水時在導水堰的引導作用下，水流能夠水槽中形成渦流，水槽中的沉積物在渦流作用下隨水流一起流出，從而使得水槽具備自清潔的功能。
技術介紹
水槽，作為一種儲水容器，其在日常生活生產中的應用非常廣泛。根據應用場景的要求，水槽的形狀、材料、容積等參數各異，例如，水槽的截面可以為方形、圓形、橢圓形等，水槽的材料可以為陶瓷、塑料、鋼鐵等。在具體設計過程中，水槽的底部一般設計成平面結構，并在水槽的底邊設置下水孔，在需要儲水時，用塞子將下水孔堵住，在需要放水時，拿掉塞子水便從下水孔流出。由于水槽的底部設計成平面結構，在放水時，水槽中的水流平緩地通過下水孔流出，這樣，水槽底部的沉積物很難隨水流一起流出，后續需要對水槽進行清洗，水槽不具備自清潔的功能。因此，如何對水槽的結構進行設計，在放水時水槽中的沉積物能夠隨水流一起流出，從而使得水槽具備自清潔的功能，已經成為本領域技術人員需要解決的技術問題。
技術實現思路
針對現有技術存在的問題，本技術的目的在于提出一種水槽，在槽體的底部設置導水堰，放水時在多條導水堰的引導作用下，水流能夠在水槽中形成渦流，水槽中的沉積物在渦流作用下隨水流一起流出，從而使得水槽具備自清潔的功能。為達此目的，本技術采用以下技術方案一種水槽，包括槽體，在槽體的底部設有下水孔，在槽體的底部設置多條導水堰。優選地，每條導水堰為彎曲結構，并且多條導水堰按照同一個方向彎曲。優選地，多條導水堰從槽體的邊緣延伸至下水孔。優選地，從槽體的邊緣至下水孔，每條導水堰的高度逐漸降低。優選地，槽體的底部為平面或凹面。優選地，槽體的截面為方形、圓...
【技術保護點】
一種水槽，包括槽體（1），在槽體（1）的底部設有下水孔（2），其特征在于，在槽體（1）的底部設置多條導水堰（3）。
【技術特征摘要】
1.ー種水槽，包括槽體(1)，在槽體(I)的底部設有下水孔(2)，其特征在于，在槽體(I)的底部設置多條導水堰(3)。2.根據權利要求1所述的水槽，其特征在于，每條導水堰(3)為彎曲結構，并且多條導水堰(3)按照同一個方向彎曲。3.根據權利要求1所述的水槽，其特征在于，多條導水堰(3)從槽體(I)的邊緣延伸至下水孔(2)。4.根據權利要求3...
【專利技術屬性】
技術研發人員：盛義良，
申請(專利權)人：安徽華盛科技控股股份有限公司，
類型：實用新型
國別省市：
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