一種聚焦補償裝置制造方法及圖紙

本實用新型專利技術揭示了一種聚焦補償裝置，用于獨立地調節多軸成像的復數個的光學成像元件的最佳成像平面，所述光學成像元件為顯微鏡，所述聚焦補償裝置包括復數個的具有多個不同的部件的圖像位置偏移裝置，所述圖像位置偏移裝置包括一光路徑長度改變元件，所述光路徑長度改變元件設置在所述顯微鏡的光路中。本實用新型專利技術通過提供一種聚焦補償裝置，補償了多維成像系統中獨立元件的像平面位置上的不同，促進了整個系統的制造和確保獨立陣列元件的成像的聚焦。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術屬于顯微鏡陣列
，尤其涉及一種聚焦補償裝置。
技術介紹
在多維成像系統中，大量光學兀件排列在同一個陣列中，從而在相鄰的光學兀件間有固定的關系。其優勢是可以通過一致運行來掃描物體，使物體成像聚焦到一個期望的像平面上。尤其，在微型顯微鏡陣列中，大量顯微鏡物鏡被安排在同一個陣列中，用來代替一個單獨的物鏡來掃描物體的一個大區域，速度更快分辨率更高。這樣的微型顯微鏡陣列詳見PCT專利公開號No. WO 02/075370，2002年9月26日出版。微型顯微鏡陣列也指陣列顯微鏡。在顯微鏡陣列中，陣列中每個元件的成像傳感器設置在單獨的大量平面基底上，促進了制造和電子的連接。在那種情況下，相應于每個顯微鏡元件的傳感器的軸向位置不能被單獨調整。然而，鏡頭制造和組裝的錯誤會引起顯微鏡元件的物平面不同，這樣就不能很好地共面。在那種情況下，當顯微鏡元件的物平面是共面的，一些顯微鏡傳感器的圖像就不是共面的，所以成像傳感器探測一個尚未聚焦的圖像。原則上，這個問題存在于具有一陣列傳感器和相應光學元件的任何多維成像系統中。為了避免這個問題，透鏡表面的形狀、透鏡厚度和透鏡的分散需要非常高的嚴密度容限。然而，這樣的容限是困難且昂貴的。因此，需要采取方法來補償多維成像系統中獨立元件的像平面位置上的不同，尤其是陣列顯微鏡，以促進這個系統的制造和確保獨立陣列元件的成像的聚焦。
技術實現思路
鑒于上述現有技術存在的缺陷，本技術的目的是提出一種聚焦補償裝置。本技術的目的將通過以下技術方案得以實現一種聚焦補償裝置，用于獨立地調節多軸成像的復數個的光學成像元件的最佳成像平面，所述光學成像元件為顯微鏡，所述聚焦補償裝置包括復數個的具有多個不同的部件的圖像位置偏移裝置，所述圖像位置偏移裝置包括一光路徑長度改變元件，所述光路徑長度改變元件設置在所述顯微鏡的光路中。優選的，上述的一種聚焦補償裝置，其中所述顯微鏡為微型顯微鏡陣列。優選的，上述的一種聚焦補償裝置，其中所述光路徑長度改變元件包括一平面平行板。優選的，上述的一種聚焦補償裝置，其中至少兩個的所述光路徑長度改變元件設置在同一個的支承部件上。優選的，上述的一種聚焦補償裝置，其中一防反射涂層設置在所述支承部件的至少一個面上。本技術的突出效果為本技術克服了上述的問題，通過提供一種聚焦補償裝置，補償了多維成像系統中獨立元件的像平面位置上的不同，促進了整個系統的制造和確保獨立陣列元件的成像的聚焦。以下便結合實施例附圖，對本技術的具體實施方式作進一步的詳述，以使本技術技術方案更易于理解、掌握。附圖說明圖1是現有技術的陣列顯微鏡的陣列光學元件的示意圖；圖2是圖1的陣列顯微鏡的剖視圖；圖3是本技術實施例1的陣列顯微鏡的剖視圖；圖4是本技術實施例2的陣列顯微鏡的剖視圖；圖5是本技術實施例3的光學路徑長度調整設備示意圖；圖6本技術實施例4的陣列顯微鏡的剖視圖。具體實施方式如圖1所示，傳統的微型顯微鏡陣列10，由三個子陣列12、14、16組成，每個子陣列由基片和顯微鏡陣列10中光學元件的每一個的三個透鏡的其中一個組成。因此，對于顯微鏡陣列中的每一個元件，基片18支撐一個底部透鏡20 ;基片22支撐一個中部透鏡24 ;基片26支撐一個頂部透鏡28 ;三個子陣列中的每一個透鏡理想上是沿著分開光軸排列。透鏡作為基片的一個完整的部分，或者離散的元件固定在分開的基片上。在任何情況下，它們在基片上有固定的位置，與另一個有固定的位置。圖1中的陣列顯微鏡的剖視圖如圖2所示。這個部分由四個顯微鏡陣列30、32、34、36組成，由堆積的基片18、20、22的透鏡20、24、28形成。物體38被陣列顯微鏡成像，顯微鏡陣列元件30、32、34、37產生圖像40、42、44、46，被電子傳感器陣列48探測。獨立的顯微鏡陣列元件形成的圖像被放置上不同的軸位置上，如元件34形成的圖像44，由于顯微鏡陣列的制造和組裝誤差。當傳感器陣列和透鏡陣列被固定在單獨的基片上，使陣列元件聚焦的基片的軸向位置的調整將會使至少另一個元件散焦。實施例1 :本實施例提供了陣列元件中成像表面差異的補償，通過移動獨立顯微鏡元件的成像表面，不移動任何傳感器基片或透鏡陣列基片。如圖3所示，陣列元件的光學路徑長度可以插入到光學路徑中，一個由媒介組成的補償器，其折射率與浸有陣列的媒介不同，改變了物體與成像之間的光學路徑長度。這反過來改變了元件產生的成像的位置。優選地，這個通過插入平面平行板50到陣列元件的光學通路中，例如元件34的成像表面的軸向位置改變。平面平行板50由合適的光學材料制成，例如玻璃，具有的折射率與旁邊的媒介不同。當平面平行板50的折射率比浸有陣列顯微鏡的媒介多時，成像距離就會增加。當平面平行板50的折射率比浸有陣列顯微鏡的媒介少時，成像距離就會減少。光學路徑長度有關于物理距離d，通過光線穿過的媒介的折射率n，如下OPL ...wV一般地，顯微鏡成像的軸向轉換Λ依靠于浸有陣列顯微鏡的成像空間的媒介的折射率，平面平行板的折射率和平面平行板的厚度，如下本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種聚焦補償裝置，用于獨立地調節多軸成像的復數個的光學成像元件的最佳成像平面，其特征在于：所述光學成像元件為顯微鏡，所述聚焦補償裝置包括復數個的具有多個不同的部件的圖像位置偏移裝置，所述圖像位置偏移裝置包括一光路徑長度改變元件，所述光路徑長度改變元件設置在所述顯微鏡的光路中。

【技術特征摘要】
1.一種聚焦補償裝置，用于獨立地調節多軸成像的復數個的光學成像元件的最佳成像平面，其特征在于所述光學成像元件為顯微鏡，所述聚焦補償裝置包括復數個的具有多個不同的部件的圖像位置偏移裝置，所述圖像位置偏移裝置包括一光路徑長度改變元件，所述光路徑長度改變元件設置在所述顯微鏡的光路中。2.根據權利要求1所述的一種聚焦補償裝置，其特征在...

【專利技術屬性】
技術研發人員：周丕軒，周偉鋒，
申請(專利權)人：帝麥克斯蘇州醫療科技有限公司，
類型：實用新型
國別省市：