糊劑涂敷方法及糊劑涂敷裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術提供一種能夠吸收由管嘴的移動方向的不同產生的涂敷高度的不同，確保玻璃糊劑的涂敷高度的精度的糊劑涂敷方法及糊劑涂敷裝置。本發明專利技術的糊劑涂敷方法，為使管嘴（55a）沿蒸鍍了有機EL元件的基片（8）的蒸鍍部（A1）的周圍移動，在基片（8）的蒸鍍部（A1）的周圍涂敷玻璃糊劑的糊劑涂敷方法；其特征在于：具有準備工序和涂敷工序；在該準備工序中，對管嘴（55a）沿蒸鍍部（A1）的周圍移動時的各移動方向設定對管嘴（55a）移動時的管嘴高度進行修正的管嘴修正量；在該涂敷工序中，對各移動方向以管嘴修正量修正管嘴高度，使管嘴（55a）沿蒸鍍部（A1）的周圍移動，涂敷玻璃糊劑。另外，本發明專利技術的糊劑涂敷裝置，為按該糊劑涂敷方法在基片（8）上涂敷玻璃糊劑的糊劑涂敷裝置（100）。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及在基片上涂敷糊劑的糊劑涂敷方法及糊劑涂敷裝置。
技術介紹
在有機EL (Electro Luminescence,電致發光)片的制造工序中，由在蒸鍍了有機 EL元件的基片上粘合密封用的玻璃(密封玻璃)的工序，在基片上涂敷糊劑(玻璃糊劑)，粘 合密封玻璃，將激光束照射在玻璃糊劑上而進行接合。在此工序中，被涂敷在基片上的玻璃糊劑的高度(涂敷高度)要求高精度的均勻 性，因此，多由印刷法在基片上涂敷玻璃糊劑。印刷法為，通過形成了涂敷玻璃糊劑的圖案(涂敷圖案)的絲網將玻璃糊劑涂敷在 基片上，存在對于涂敷圖案的各形狀需要分別準備絲網的問題。另外，絲網為極薄的構件，所以，可制造的大小存在限度。因此，存在由使用了絲網 的印刷法制造的有機EL片的大小被限制的問題。并且，絲網由于為將涂敷圖案的部分的玻璃糊劑涂敷在基片上的結構，形成涂敷 圖案的部分以外成為被掩蔽的部分。由于掩蔽部分的玻璃糊劑殘留，所以，此殘留的玻璃糊 劑成為剩余部分(浪費)，存在玻璃糊劑的使用效率下降的問題。作為消除這樣的印刷法的問題點涂敷玻璃糊劑的方法，已知從沿涂敷圖案移動的 管嘴將玻璃糊劑涂敷在基片上的方法。例如在專利文獻I中，記載了一種糊劑涂敷裝置，該糊劑涂敷裝置根據前次涂敷 糊劑時的管嘴高度一邊調節第二次以后涂敷糊劑時的管嘴高度，一邊移動管嘴，涂敷糊劑?，F有技術文獻專利文獻專利文獻1:日本特開2002-316082號公報
技術實現思路
專利技術所要解決的課題在移動管嘴涂敷糊劑的場合，即使是管嘴從基片離開的高度(管嘴高度)、管嘴的 移動速度相等的情況下，有時管嘴的移動方向的不同也使涂敷高度產生微小的不同。這是 因為，管嘴的前端部的形狀誤差、安裝誤差(傾斜等)，使得排出糊劑的排出口與基片的高度 因為管嘴的移動方向的不同而產生微小變化，該排出口與基片的高度的微小變化等使得涂 敷高度產生微小的不同。記載于專利文獻I中的糊劑涂敷裝置，雖然能夠吸收由基片的起 伏導致的涂敷高度的變化，以良好精度維持涂敷高度，但不能吸收由管嘴的移動方向的不 同產生的涂敷高度的微小的不同，這一點使涂敷高度的精度下降。因此，本專利技術的目的在于提供一種能夠吸收由管嘴的移動方向的不同所產生的涂 敷高度的不同，確保玻璃糊劑的涂敷高度的精度的糊劑涂敷方法及糊劑涂敷裝置。為了解決課題的手段為了達到上述目的，本專利技術提供一種使連續地涂敷糊劑的管嘴沿基片的平面上的 規定區域的周圍移動，在該區域的周圍連續地涂敷上述糊劑的糊劑涂敷方法。并且，特征在 于具有準備工序和涂敷工序；在該準備工序中，對上述管嘴沿上述區域的周圍移動時的 各移動方向，設定上述管嘴移動時的從上述基片到上述管嘴的管嘴高度的修正量；在該涂 敷工序中，對上述管嘴的各上述移動方向，以與上述管嘴的上述移動方向對應的上述修正 量修正上述管嘴高度，沿上述區域的周圍移動上述管嘴。另外，提供一種由此涂敷方法將上述糊劑涂敷在基片上的糊劑涂敷裝置。專利技術的效果按照本專利技術，能夠提供一種能夠吸收由管嘴的移動方向的不同所產生的涂敷高度 的不同，確保玻璃糊劑的涂敷高度的精度的糊劑涂敷方法及糊劑涂敷裝置。附圖說明圖1為糊劑涂敷裝置的立體圖。圖2 (a)為涂敷頭的側視圖，(b)為涂敷頭的立體圖。圖3為表示在蒸鍍部的周圍涂敷玻璃糊劑的涂敷圖案的一例的圖。圖4 (a)、(b)為表示管嘴的前端部的形狀和涂敷高度的圖。圖5 Ca)為表示涂敷圖案的分割的一例的圖，(b)為說明管嘴修正量的圖，(C)為 說明測量點的圖。圖6為表示當涂敷玻璃糊劑時改變管嘴高度Nh的連接點的圖。具體實施方式下面，適當地參照附圖詳細說明本專利技術的實施方式。本實施方式的糊劑涂敷裝置100，如圖1所示，由基座1、支架2、固定部3A、3B、可 動部4A、4B、涂敷頭5、載置基片8的基片保持盤6、控制部9、監視器11、鍵盤12構成。另外，設定基座I的長度方向為X軸，寬度方向為Y軸，高度方向(上下方向)為Z 軸的坐標軸。另外，在圖1中圖示了 I個涂敷頭5，但也可為具備多個涂敷頭5的糊劑涂敷裝置 100。另外，在基座I上，設置了由固定部3A、3B和可動部4A、4B組成的X軸移動機構。 固定部3A、3B在基座I的例如Y方向的兩端部沿X軸方向被固定，作為可動部4A、4B的導 向構件起作用?？蓜硬?A可移動地配備在固定部3A上，可動部4B可移動地配備在固定部 3B上，并且，跨在可動部4A和可動部4B上(即沿Y軸方向)設置了支架2。按照此構成，支 架2按在Y軸方向延伸的方式配備。X軸移動機構按由滾珠絲杠機構、線性馬達等驅動裝置使可動部4A、4B沿固定部 3A、3B可移動的方式構成。在支架2上在長度方向(即Y軸方向)按可移動的方式配備涂敷頭5。以后，將用 于在支架2的長度方向使涂敷頭5移動的移動機構稱為Y軸移動機構。Y軸移動機構，按由 滾珠絲杠機構、線性馬達等驅動裝置使涂敷頭5沿支架2可移動的方式構成。另外，在基座I的上面，在固定部3A、3B之間的區域，作為對在蒸鍍部Al上蒸鍍了有機EL元件的基片8進行載置的臺，具備基片保持盤6?；３直P6按由圖中未表示的 吸附機構等可將載置了的基片8固定的方式構成。并且，在基座I上，作為操作單元設置監視器11、鍵盤12，作為對糊劑涂敷機100 進行控制的控制單元，內裝控制部9。另外，在糊劑涂敷裝置100上，具備加壓源10，該加壓源10通過對空氣進行加壓， 供給到涂敷頭5具備的糊劑收容部(注射筒55)，向注射筒55供給用于將玻璃糊劑Gp從管 嘴55a排出的壓力(排出壓力)。加壓源10經加壓配管IOc與涂敷頭5具備的注射筒55連接，供給被加壓了的空 氣，對注射筒55內加壓，向涂敷頭5供給排出壓力。在加壓配管IOc上，具備將由加壓源10 加壓了的空氣調壓成所期望的壓力(排出壓力)的正壓調節器IOa和用于截斷被加壓了的空 氣的流通的閥10b。閥IOb為相應于來自控制部9的控制信號對加壓配管IOc進行開閉的 電動式的開閉閥，按當閥IOb閉閥了時加壓配管IOc中的空氣的流通被截斷的方式構成。如圖2 (a)、(b)所示，涂敷頭5具有在支架2上經Y軸移動機構可驅動地安裝的 基座部50，在基座部50上具備被配管在支架2上的線性標尺2a的檢測器51。線性標尺2a 在支架2的一方的側面上沿Y軸方向延伸設置，對其進行檢測的檢測器51按與線性標尺2a 相向的方式安裝在基座部50上?？刂撇? (參照圖1)，通過根據檢測器51檢測線性標尺 2a的結果控制Y軸移動機構，對涂敷頭5 (管嘴55a)的Y軸方向進行位置控制。另外，最好 為在X軸移動機構上也具備圖中未表示的線性標尺和檢測器，可控制涂敷頭5 (管嘴55a) 的X軸方向的位置的結構。在涂敷頭5的基座部50上安裝了具備Z軸伺服馬達52a的Z軸導向構件52，在此 Z軸導向構件52上安裝由Z軸伺服馬達52a在Z軸方向(上下方向)移動的Z軸臺53。另 夕卜，在Z軸臺53上具備用于收容玻璃糊劑Gp的糊劑收容部(注射筒55)。并且，具備用于 將被收容在了注射筒55中的糊劑(在本實施方式中為玻璃糊劑Gp)涂敷在基片8 (參照圖1)上的管嘴55a，測量從被載置在了基片保持盤6上的基片8到管嘴55a的高度(管嘴高度 Nh)的測距儀(例如光學式測距儀54)，測量被涂敷在本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種糊劑涂敷方法，該糊劑涂敷方法為，使涂敷糊劑的管嘴沿基片的平面上的規定區域的周圍移動，在該區域的周圍涂敷所述糊劑，其特征在于：具有準備工序和涂敷工序；在該準備工序中，對所述管嘴沿所述區域的周圍移動時的各移動方向，設定所述管嘴移動時的從所述基片到所述管嘴的管嘴高度的修正量；在該涂敷工序中，對所述管嘴的各所述移動方向，以與所述管嘴的所述移動方向對應的所述修正量修正所述管嘴高度，沿所述區域的周圍移動所述管嘴。

【技術特征摘要】
2011.09.21 JP 2011-2062821.一種糊劑涂敷方法，該糊劑涂敷方法為，使涂敷糊劑的管嘴沿基片的平面上的規定區域的周圍移動，在該區域的周圍涂敷所述糊劑，其特征在于 具有準備工序和涂敷工序； 在該準備工序中，對所述管嘴沿所述區域的周圍移動時的各移動方向，設定所述管嘴移動時的從所述基片到所述管嘴的管嘴高度的修正量； 在該涂敷工序中，對所述管嘴的各所述移動方向，以與所述管嘴的所述移動方向對應的所述修正量修正所述管嘴高度，沿所述區域的周圍移動所...

【專利技術屬性】
技術研發人員：三井信治，宮本芳次，山本英明，中村秀男，石田茂，
申請(專利權)人：株式會社日立工業設備技術，
類型：發明
國別省市：