用于在基質（2）上接種樣品（3）的自動設備（1），其特征在于，它包括將原始樣品（3）稀釋成至少一個子樣品（S1，S2）的裝置（6，7，11，12）以及用于將至少一個子樣品接種在基質（2）上的裝置（7）。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及用于將要分析的樣品，通常基本上液態的樣品，接種培養基基質的自 動設備領域。它更具體涉及取樣和例如在皮氏培養皿的基質上接種樣品的系統。
技術介紹
在自動接種設備中，通過使用接種管，每個樣品由自動設備在樣品槽中取樣，然后 使用相同的接種管將樣品分布在基質表面上。接種管必須從相應槽中的樣品采集的一個區域移動至樣品必須通常以螺旋形進 行分布的接種區。螺旋形能獲得樣品沿形狀的可變的濃度。然而，讀取和解釋培養結果通常是困難的。此外，在最極端的區域之間的濃度差異并不總是足夠的，尤其是樣品是高度濃縮 時。
技術實現思路
本專利技術的目的是提出一種可以應對上述不便的自動設備，特別是一種簡單和便宜 的設備，允許樣品的簡單而有效的操作以及同時結果的簡單和準確的讀取。根據本專利技術，這樣一種用于在基質上接種樣品的自動設備，其特征在于，它包括將 原始樣品稀釋成至少一個子樣品的裝置以及用于將至少一個子樣品接種在基質上的裝置。有利的，稀釋裝置設計成能夠實現至少兩次連續稀釋。所以，稀釋裝置包括用于原始樣品的至少一個槽以及將樣品和稀釋劑混合的至少 一個槽，優選至少兩個槽。原始樣品容器可以是例如槽、移液管、注射器或接種管。自動設備可以包括用于收集在各自槽中的樣品以及用于在基質上分布樣品的適 應裝置，用于稀釋劑的儲存裝置，以及用于樣品和稀釋劑的測量裝置。取樣裝置可以是接種管或注射器。特別地，當取樣裝置是接種管時，可以設計用于從接種管的上游供應稀釋劑的裝置。本專利技術還涉及使用根據本專利技術的自動設備的皮氏培養皿的接種方法。附圖說明本專利技術的幾種實施方式將在下面作為非限制例子并參考附圖進行描述，其中圖1是示意性說明根據本專利技術的接種設備的操作的剖視圖。圖2是皮氏培養皿的俯視圖，接種方法是根據本專利技術的。具體實施方式圖1說明了用于將要分析的產品的樣品3接種基質2的自動設備I。在所示的例子中，基質包含在皮氏培養皿4中，處于凝膠的形式，產品3基本上是 液態的。所示的自動設備包括形成平臺5的框架以及設計用于在平臺5上方移動的頭部6。頭部持有接種管7，特別用于操作樣品。自動設備還包括放置在平臺5中的能夠定位槽的各自的開口14中的幾個可移動 槽9-12。其中一個槽是清洗槽9，用于清洗接種管。在所示的例子中，清洗槽9是溢流槽。另一個槽10是用于儲存原始樣品3的槽，另外兩個槽11、12是第一稀釋槽11和 第二稀釋槽12，。根據圖1的具體實施例，在所示的例子中，槽成一直線固定，并與皮氏培養皿也成 一直線，頭部設置成沿3個軸移動，兩個橫軸和縱軸。因此，頭部可以從一個槽至另一個槽水平移動，與槽的對齊方向D平行，并垂直蘸 取；根據水平橫向方向T (見圖2)，頭部也可以橫向水平移動。接種管是一根管，上游連接至管道15，其部分表示在圖1中。管道15的上游，自動設備包括，沒有顯示在圖中-用于清洗產品的儲存區域和用于消毒產品的儲存區域，以在兩次取樣和/或兩 次稀釋之間清洗和消毒接種管；-用于稀釋劑產品的儲存區域，用于樣品3的稀釋；-用于從它們各自的儲存區域取樣和接種樣品以及分布產品的泵送裝置。自動設備還包括用于在稀釋槽中混合樣品的裝置，例如電磁攪拌器。在圖1中，樣品包含在放置于樣品槽10內的燒杯16中。接種管7的末端17表示在處于樣品3的取樣位置。現在，我們將描述根據本專利技術的接種方法。自動接種設備的目的是提出一種稀釋，由于它人們可以計算樣品3中單位體積存 在的細菌數量。在所示的例子中，在燒杯16中收集樣品3，然后分布到基質2上以繪制出雙線L3， 在圖2中以粗線表示，是可能的。然后，取另一部分樣品3用于在第一稀釋槽11中與稀釋劑混合，例如以1/10的比 例。一旦混合，我們獲得可以在雙線LSl接種的第一子樣品。然后用子樣品SI實現相同的操作。取一部分子樣品SI，在第二稀釋槽11中與稀釋劑混合，例如以1/10的比例。一旦混合，我們獲得可以在雙線LS2接種的第二子樣品S2，代表原始樣品3的 1/100稀釋。第一稀釋槽由第三稀釋槽替換后可以重復相同的操作，等等。當然，以上所述的操作都是由設備自動執行的。這樣的操作可以有利的是可編程的，特別是連續稀釋率、線條數。當線條都以相同線性速度繪制時，那么相同的線條長度通常代表相同的樣品量， 如果稀釋率是相同的。因此很容易測量和分析結果，而沒有錯誤。用這種方法沒有必要使用復雜的圖表以解釋結果。當然，本專利技術不僅限于上面在這里描述的例子。例如，不是可移動的，溢流槽或所有其它槽可以固定和直接沖壓成形在自動設備 的平臺中。清洗槽可以是另一個系統，而不是溢流槽。不是平移安裝，頭部可以安裝在從旋轉塔懸掛的臂上。在這種情況下，槽的位置可 以是不同的，例如槽可以位于一個圓圈上。稀釋槽的數量也可以不同；可以設計只有一個稀釋槽或兩個以上。特別地，當有幾個稀釋槽時，只能接種確定的稀釋率，其它作為中間稀釋，以獲得 所需的稀釋率。不是線性形狀，也可以設計成具有或多或少的厚度的點的形狀或圓形圖案。權利要求1.用于在基質(2)上接種樣品(3)的自動設備，其特征在于，它包括用于將原始樣品 (3)稀釋成至少一個子樣品(SI，S2)的裝置(6，7，11，12)以及用于將至少一個子樣品接種 (7)在基質(2)上的裝置。2.根據權利要求1所述的自動設備，其特征在于，稀釋裝置(6，7，11，12)設計成允許至少兩次連續稀釋。3.根據權利要求1或2所述的自動設備，其特征在于，稀釋裝置包括用于包含原始樣品 (3)的至少一個槽(9)以及用于混合樣品(3，SI)和稀釋劑的至少一個槽(11，12)。4.根據權利要求3所述的自動設備，其特征在于，它包括適于在它的各自的槽(11，12) 中取樣品(3，SI，S2 )以及在基質(2 )上分布樣品(3，SI，S2 )的接種管(7 )，用于稀釋劑的儲存裝置，以及用于樣品和稀釋劑的測量裝置。5.根據權利要求4所述的自動設備，其特征在于，它包括用于從接種管(7)的上游(15) 供應稀釋劑的裝置。全文摘要用于在基質(2)上接種樣品(3)的自動設備(1)，其特征在于，它包括將原始樣品(3)稀釋成至少一個子樣品(S1，S2)的裝置(6，7，11，12)以及用于將至少一個子樣品接種在基質(2)上的裝置(7)。文檔編號G01N1/38GK102998154SQ20121031401公開日2013年3月27日 申請日期2012年8月30日 優先權日2011年9月14日專利技術者埃馬紐埃爾·雅朗克 申請人:英特萊波公司本文檔來自技高網...
【技術保護點】
用于在基質（2）上接種樣品（3）的自動設備，其特征在于，它包括用于將原始樣品（3）稀釋成至少一個子樣品（S1，S2）的裝置（6，7，11，12）以及用于將至少一個子樣品接種（7）在基質（2）上的裝置。
【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：埃馬紐埃爾·雅朗克，
申請(專利權)人：英特萊波公司，
類型：發明
國別省市：
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