本發(fā)明專(zhuān)利技術(shù)公開(kāi)了一種吸附標(biāo)簽裝置，其特征是，包括一吸頭，所述吸頭具有一與標(biāo)簽面接觸的吸附平面，所述吸頭上設(shè)置多個(gè)貫通至吸附平面的氣孔，所述氣孔的另一端通過(guò)氣管與抽真空裝置連接。本發(fā)明專(zhuān)利技術(shù)的吸附標(biāo)簽裝置，通過(guò)吸頭上的氣孔真空吸附標(biāo)簽，并可通過(guò)機(jī)械手驅(qū)動(dòng)吸頭至一固定的粘貼標(biāo)簽的位置，對(duì)放置于該位置的設(shè)備進(jìn)行貼標(biāo)簽，實(shí)現(xiàn)了自動(dòng)吸附取標(biāo)簽的過(guò)程，所貼標(biāo)簽位置準(zhǔn)確、平整度高，無(wú)褶皺，且貼標(biāo)簽效率大大提高，利于實(shí)現(xiàn)貼標(biāo)簽過(guò)程的自動(dòng)化。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專(zhuān)利技術(shù)涉及一種吸附標(biāo)簽裝置，屬于機(jī)械
技術(shù)介紹
許多設(shè)備上都貼有標(biāo)簽，用于對(duì)設(shè)備進(jìn)行標(biāo)識(shí)，便于通過(guò)標(biāo)簽掃描、檢驗(yàn)、分類(lèi)、存儲(chǔ)、物流運(yùn)輸?shù)?。傳統(tǒng)的方法是依靠人工進(jìn)行貼標(biāo)簽，由操作人員拿鑷子將標(biāo)簽帶上的小標(biāo)簽取下并粘貼到設(shè)備表面，因人為操作其所貼標(biāo)簽位置、平整度難以保證，影響對(duì)其掃描等識(shí)別，且貼標(biāo)簽效率低。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專(zhuān)利技術(shù)所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種吸附標(biāo)簽裝置，代替人工取標(biāo)簽，可自動(dòng)吸附取標(biāo)簽，利于實(shí)現(xiàn)貼標(biāo)簽過(guò)程的自動(dòng)化。為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本專(zhuān)利技術(shù)提供一種吸附標(biāo)簽裝置，其特征是，包括一吸頭，所述吸頭具有一與標(biāo)簽面接觸的吸附平面，所述吸頭上設(shè)置多個(gè)貫通至吸附平面的氣孔，所述氣孔的另一端通過(guò)氣管與抽真空裝置連接。所述吸附平面的外形與所貼標(biāo)簽形狀相同或相仿。所述吸頭上設(shè)置安裝孔。所述多個(gè)氣孔一端貫通至所述吸附平面，另一端貫通于一總氣孔，所述總氣孔通過(guò)氣管與抽真空裝置連接。所述總氣孔直徑大于各所述氣孔。所述多個(gè)氣孔相互平行，且直徑相同。本專(zhuān)利技術(shù)所達(dá)到的有益效果 本專(zhuān)利技術(shù)的吸附標(biāo)簽裝置，通過(guò)吸頭上的氣孔真空吸附標(biāo)簽，并可通過(guò)機(jī)械手驅(qū)動(dòng)吸頭至一固定的粘貼標(biāo)簽的位置，對(duì)放置于該位置的設(shè)備進(jìn)行貼標(biāo)簽，實(shí)現(xiàn)了自動(dòng)吸附取標(biāo)簽的過(guò)程，所貼標(biāo)簽位置準(zhǔn)確、平整度高，無(wú)褶皺，且貼標(biāo)簽效率大大提高，利于實(shí)現(xiàn)貼標(biāo)簽過(guò)程的自動(dòng)化。附圖說(shuō)明圖1是本專(zhuān)利技術(shù)的吸附標(biāo)簽裝置示意圖。具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖對(duì)本專(zhuān)利技術(shù)作進(jìn)一步描述。以下實(shí)施例僅用于更加清楚地說(shuō)明本專(zhuān)利技術(shù)的技術(shù)方案，而不能以此來(lái)限制本專(zhuān)利技術(shù)的保護(hù)范圍。如圖1所示，本專(zhuān)利技術(shù)的吸附標(biāo)簽裝置包括一吸頭1，吸頭I具有一與標(biāo)簽面接觸的吸附平面2，吸附平面2的外形與所貼標(biāo)簽形狀相同或相仿，以利于與標(biāo)簽面接觸。吸頭I上設(shè)置多個(gè)貫通至吸附平面2的氣孔3，多個(gè)氣孔3相互平行，且直徑相同，以便吸附標(biāo)簽時(shí)，作用于標(biāo)簽上的吸附力相平衡。多個(gè)氣孔3的另一端貫通于一個(gè)直徑較大的總氣孔4，總氣孔4通過(guò)氣管與抽真空裝置連接。總氣孔4直徑大于各氣孔3。貼標(biāo)簽時(shí)，吸頭壓于標(biāo)簽帶上，抽真空裝置開(kāi)啟，在吸附力作用下，將標(biāo)簽從標(biāo)簽帶上吸下，并吸附于吸頭的吸附平面上，保證了標(biāo)簽平整。吸頭可通過(guò)安裝孔5安裝于機(jī)械手上，由機(jī)械手將吸附了標(biāo)簽的吸頭移動(dòng)至貼標(biāo)簽的位置，對(duì)設(shè)備進(jìn)行貼標(biāo)簽。以上所述僅是本專(zhuān)利技術(shù)的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本
的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本專(zhuān)利技術(shù)技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和變形，這些改進(jìn)和變形也應(yīng)視為本專(zhuān)利技術(shù)的保護(hù)范圍。權(quán)利要求1.一種吸附標(biāo)簽裝置，其特征是，包括一吸頭，所述吸頭具有一與標(biāo)簽面接觸的吸附平面，所述吸頭上設(shè)置多個(gè)貫通至吸附平面的氣孔，所述氣孔的另一端通過(guò)氣管與抽真空裝置連接。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸附標(biāo)簽裝置，其特征是，所述吸附平面的外形與所貼標(biāo)簽形狀相同或相仿。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸附標(biāo)簽裝置，其特征是，所述吸頭上設(shè)置安裝孔。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸附標(biāo)簽裝置，其特征是，所述多個(gè)氣孔一端貫通至所述吸附平面，另一端貫通于一總氣孔，所述總氣孔通過(guò)氣管與抽真空裝置連接。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的吸附標(biāo)簽裝置，其特征是，所述總氣孔直徑大于各所述氣孔。6.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的吸附標(biāo)簽裝置，其特征是，所述多個(gè)氣孔相互平行，且直徑相同。全文摘要本專(zhuān)利技術(shù)公開(kāi)了一種吸附標(biāo)簽裝置，其特征是，包括一吸頭，所述吸頭具有一與標(biāo)簽面接觸的吸附平面，所述吸頭上設(shè)置多個(gè)貫通至吸附平面的氣孔，所述氣孔的另一端通過(guò)氣管與抽真空裝置連接。本專(zhuān)利技術(shù)的吸附標(biāo)簽裝置，通過(guò)吸頭上的氣孔真空吸附標(biāo)簽，并可通過(guò)機(jī)械手驅(qū)動(dòng)吸頭至一固定的粘貼標(biāo)簽的位置，對(duì)放置于該位置的設(shè)備進(jìn)行貼標(biāo)簽，實(shí)現(xiàn)了自動(dòng)吸附取標(biāo)簽的過(guò)程，所貼標(biāo)簽位置準(zhǔn)確、平整度高，無(wú)褶皺，且貼標(biāo)簽效率大大提高，利于實(shí)現(xiàn)貼標(biāo)簽過(guò)程的自動(dòng)化。文檔編號(hào)B65C9/08GK102991783SQ20121039525公開(kāi)日2013年3月27日 申請(qǐng)日期2012年10月18日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月18日專(zhuān)利技術(shù)者任偉 申請(qǐng)人:蘇州一致電子制程有限公司, 任偉本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種吸附標(biāo)簽裝置，其特征是，包括一吸頭，所述吸頭具有一與標(biāo)簽面接觸的吸附平面，所述吸頭上設(shè)置多個(gè)貫通至吸附平面的氣孔，所述氣孔的另一端通過(guò)氣管與抽真空裝置連接。
【技術(shù)特征摘要】
【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：任偉，
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人：蘇州一致電子制程有限公司，任偉，
類(lèi)型：發(fā)明
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