本發(fā)明專利技術(shù)涉及硅片濕法清洗領(lǐng)域，尤其涉及一種排風(fēng)裝置。該排風(fēng)裝置包括底腔、兆聲波裝置盛液槽、兆聲波裝置盛液槽固定支架、夾層及排風(fēng)調(diào)整單元，所述底腔固定于所述夾層頂部，所述兆聲波裝置盛液槽通過兆聲波裝置盛液槽固定支架固定于所述夾層上，夾層將整個工藝腔室的工藝區(qū)和電氣區(qū)分隔開，所述排風(fēng)調(diào)整單元與夾層連接，用于調(diào)整工藝腔體內(nèi)部排風(fēng)流量、工藝腔體外部排風(fēng)流量以及電氣區(qū)的排風(fēng)流量。這樣排風(fēng)調(diào)整單元可通過有效的調(diào)整排風(fēng)量以保證工藝腔室內(nèi)部流場的均勻性；通過夾層能將工藝腔室的工藝區(qū)和電氣區(qū)完全隔離開來，以防止工藝區(qū)的化學(xué)液揮發(fā)的霧氣揮發(fā)至電氣區(qū)對電氣部件造成損害。
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及硅片濕法清洗領(lǐng)域，尤其涉及一種排風(fēng)裝置。
技術(shù)介紹
目前在濕法清洗工藝中單片清洗設(shè)備的應(yīng)用越來越廣泛，工藝腔室是單片清洗設(shè) 備的核心部件，整個硅片的清洗工藝都是在工藝腔室內(nèi)部的工藝區(qū)完成的，工藝過程中還 要用到多種堿性或酸性化學(xué)藥液以及兆聲波裝置等，濕法處理設(shè)備的腔室頂部設(shè)有吹風(fēng)及 過濾系統(tǒng)，腔室內(nèi)部設(shè)有排風(fēng)系統(tǒng)。目前，腔室排風(fēng)系統(tǒng)普遍存在的兩個問題，一是腔室內(nèi)部流場的均勻性難以保證； 二是腔室工藝區(qū)與電氣區(qū)不能嚴(yán)格的分隔開。這樣，如果在清洗工藝過程中腔室內(nèi)部流場 不穩(wěn)定，存在局部的擾流、紊流等，則會在硅片清洗工藝時帶動一些微小的顆粒、污染物至 硅片表面，降低清洗的效率，甚至達(dá)不到清洗工藝的要求。此外，由于化學(xué)液的應(yīng)用，使得工 藝腔室工藝區(qū)存在大量化學(xué)藥液的揮發(fā)霧氣，如果工藝區(qū)和電氣區(qū)不能完全分隔開，在清 洗工藝過程當(dāng)中就會使得工藝區(qū)的部分化學(xué)霧氣進(jìn)入到工藝腔室的電氣區(qū)，從而對電氣元 氣件造成化學(xué)腐蝕，長期作用甚至?xí)p害電氣元件，造成整個機臺的停機，影響設(shè)備的生產(chǎn) 效率。因此，針對以上不足，本專利技術(shù)提供了一種排風(fēng)裝置。
技術(shù)實現(xiàn)思路
(一)要解決的技術(shù)問題本專利技術(shù)的目的是解決排風(fēng)量不能調(diào)整，工藝腔室內(nèi)部流場的均勻性難以保證，以 及工藝區(qū)的化學(xué)液揮發(fā)的霧氣揮發(fā)至電氣區(qū)對電氣部件造成損害的問題。(二)技術(shù)方案為了解決上述技術(shù)問題，本專利技術(shù)提供了一種排風(fēng)裝置，該排風(fēng)裝置包括底腔、兆聲 波裝置盛液槽、兆聲波裝置盛液槽固定支架、夾層及排風(fēng)調(diào)整單元，所述底腔固定于所述夾 層頂部，所述兆聲波裝置盛液槽通過兆聲波裝置盛液槽固定支架固定于所述夾層上，所述 夾層將整個工藝腔室的工藝區(qū)和電氣區(qū)分隔開，所述排風(fēng)調(diào)整單元與所述夾層連接，用于 調(diào)整工藝腔體內(nèi)部排風(fēng)流量、工藝腔體外部排風(fēng)流量以及電氣區(qū)的排風(fēng)流量。其中，所述夾層的材質(zhì)為具有耐酸堿腐蝕性的塑料，其包括頂板、側(cè)板、內(nèi)側(cè)環(huán)、底 板和主排風(fēng)口，所述內(nèi)側(cè)環(huán)位于頂板和底板之間，所述主排風(fēng)口位于所述底板上，且所述主 排風(fēng)口的頂部高度高于底板的頂部。其中，所述頂板為凹槽狀結(jié)構(gòu)，且其上設(shè)有排風(fēng)孔。其中，所述頂板上還設(shè)有第一聯(lián)結(jié)孔、第二聯(lián)結(jié)孔、第三聯(lián)結(jié)孔、第四聯(lián)結(jié)孔及第 五聯(lián)結(jié)孔，通過所述第一聯(lián)結(jié)孔將夾層與工藝區(qū)殼體聯(lián)結(jié)，通過所述第二聯(lián)結(jié)孔將夾層與 電氣區(qū)固定架聯(lián)接，通過所述第三聯(lián)結(jié)孔將夾層與所述底腔固定聯(lián)接，通過所述第四聯(lián)結(jié) 孔將兆聲波裝置固定于夾層頂板上，通過所述第五聯(lián)結(jié)孔將維修孔遮擋蓋固定于夾層頂板上。其中，所述底板的頂部有斜度，一端為高位，另一端為低位，在低位處設(shè)有排液口， 用于將流至底部的液體排走。其中，所述頂板上設(shè)有第一通孔及第二通孔，所述底板上設(shè)有與所述第一通孔及 第二通孔相對應(yīng)的孔。其中，還包括噴淋臂、噴淋臂遮擋環(huán)及旋緊接頭，所述噴淋臂穿過所述第一通孔及 底板上相應(yīng)的孔，并用所述噴淋臂遮擋環(huán)密封，兆聲波裝置盛液槽的供液管和排液管穿過 所述第二通孔及底板上相應(yīng)的孔，在貫穿處用所述旋緊接頭密封。其中，所述排風(fēng)調(diào)整單元包括夾層排風(fēng)口連接管、工藝腔體排風(fēng)口聯(lián)接管、排風(fēng) 管卡緊件、夾層排風(fēng)量調(diào)整機構(gòu)、工藝腔體排風(fēng)量調(diào)整機構(gòu)、總排風(fēng)腔體及電氣區(qū)進(jìn)風(fēng)口排 風(fēng)風(fēng)量調(diào)整板；所述夾層排風(fēng)口連接管的一端通過所述工藝腔體排風(fēng)口聯(lián)接管與總排風(fēng)腔 體聯(lián)接，另一端通過所述排風(fēng)管卡緊件與所述夾層緊固聯(lián)接，所述夾層排風(fēng)量調(diào)整機構(gòu)及 工藝腔體排風(fēng)量調(diào)整機構(gòu)設(shè)于所述工藝腔體排風(fēng)口聯(lián)接管進(jìn)入總排風(fēng)腔體的通道上，所述 電氣區(qū)進(jìn)風(fēng)口排風(fēng)風(fēng)量調(diào)整板位于總排風(fēng)腔體的一側(cè)。其中，所述夾層排風(fēng)量調(diào)整機構(gòu)、工藝腔體排風(fēng)量調(diào)整機構(gòu)及電氣區(qū)進(jìn)風(fēng)口排風(fēng) 風(fēng)量調(diào)整板均可自動調(diào)整或手動調(diào)整排風(fēng)量，調(diào)整范圍從全開到全閉。其中，所述底腔上設(shè)有盛液槽和緩沖腔，所述盛液槽分為高位和低位，所述緩沖腔 上設(shè)有進(jìn)風(fēng)口，所述進(jìn)風(fēng)口為環(huán)形，并圍繞底腔的中心均布設(shè)置，且所述進(jìn)風(fēng)口高于所述盛 液槽的低位，所述緩沖腔底部設(shè)有用于腔體排風(fēng)的排風(fēng)口和用于排放冷凝液體的排液口， 所述排風(fēng)口頂部高度高于底板的頂部。(三)有益效果本專利技術(shù)的上述技術(shù)方案具有如下優(yōu)點由于夾層將整個工藝腔室的工藝區(qū)和電氣 區(qū)分隔開，所述排風(fēng)調(diào)整單元與夾層連接，并可調(diào)整工藝腔體內(nèi)部排風(fēng)流量、工藝腔體外部 排風(fēng)流量以及電氣區(qū)的排風(fēng)流量。這樣排風(fēng)調(diào)整單元可通過有效的調(diào)整排風(fēng)量以保證工藝 腔室內(nèi)部流場的均勻性；通過夾層能將工藝腔室的工藝區(qū)和電氣區(qū)完全隔離開來，以防止 工藝區(qū)的化學(xué)液揮發(fā)的霧氣揮發(fā)至電氣區(qū)對電氣部件造成損害。附圖說明圖1是本專利技術(shù)實施例單硅片濕法處理設(shè)備工藝腔室的立體圖2是本專利技術(shù)實施例排風(fēng)裝置的立體示意圖3是本專利技術(shù)實施例排風(fēng)裝置的夾層的立體示意圖4是本專利技術(shù)實施例圖3的C-C剖視圖5是本專利技術(shù)實施例圖3背面的立體示意圖6是本專利技術(shù)實施例排風(fēng)裝置的底腔的立體示意圖7是本專利技術(shù)實施例圖6的D-D的立體剖視圖8是本專利技術(shù)實施例排風(fēng)裝置的排風(fēng)調(diào)整單元的立體示意圖。圖中1 :夾層；2 :噴淋臂遮擋環(huán)；3 :底腔；4 :兆聲波裝置盛液槽；5 :兆聲波裝置 盛液槽固定支架；6 :維修孔遮擋蓋；7 :排風(fēng)調(diào)整單元；8 :旋緊接頭；9 :夾層排風(fēng)口連接管； 10 :工藝腔體排風(fēng)口聯(lián)接管；11 :排風(fēng)管卡緊件；12 :夾層排風(fēng)量調(diào)整機構(gòu)；13 :工藝腔體排風(fēng)量調(diào)整機構(gòu)；14 :總排風(fēng)腔體；15 :電氣區(qū)進(jìn)風(fēng)口排風(fēng)風(fēng)量調(diào)整板；16 :第一藥液噴淋臂； 17 :第二藥液噴淋臂；18 :兆聲波裝置噴淋臂；19 :工藝區(qū)殼體；20 :電氣區(qū)固定架；21 :排風(fēng)裝置；101 :頂板；102 :側(cè)板;103 :內(nèi)側(cè)環(huán)；104 :底板；105 :主排風(fēng)口 ；106 :排風(fēng)口 ；107 第一聯(lián)結(jié)孔；108 :第二聯(lián)結(jié)孔；109 :第三聯(lián)結(jié)孔；110 :第四聯(lián)結(jié)孔；111 :第一通孔；112 :第二通孔；113 :第五聯(lián)結(jié)孔；114 :高位；115 :低位；116 :排液口 ；301 :盛液槽；302 :緩沖腔； 303 :緩沖腔進(jìn)風(fēng)口 ；304 :緩沖腔排風(fēng)口 ；305 :緩沖腔排液口 ；A :工藝區(qū)；B :電氣區(qū)。具體實施方式下面結(jié)合附圖和實施例對本專利技術(shù)的具體實施方式作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實施例用于說明本專利技術(shù)，但不用來限制本專利技術(shù)的范圍。在本專利技術(shù)的描述中，需要說明的是，術(shù)語“中心”、“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、 “后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本專利技術(shù)和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本專利技術(shù)的限制。此外，術(shù)語“第一”、“第二”、“第三”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性。如圖1所示，本專利技術(shù)實施例提供的一種排風(fēng)裝置2 1，該排風(fēng)裝置21位于單硅片濕法處理設(shè)備工藝腔室中，整個工藝腔室還包含工藝區(qū)及電氣區(qū)，整個排風(fēng)裝置介于工藝區(qū)和電氣區(qū)之間。該工藝腔室還設(shè)有第一藥液噴淋臂16、第二藥液噴淋臂17、兆聲波裝置噴淋臂18、工藝區(qū)殼體19及電氣區(qū)固定架20。這樣排風(fēng)裝置21將工藝區(qū)和電氣區(qū)分隔開， 防止了工藝區(qū)的化學(xué)液揮發(fā)的霧氣揮發(fā)至電氣區(qū)對電氣部件造成的損害。如圖2所示，排風(fēng)裝置21包括夾層1、噴淋臂遮擋環(huán)2、底腔本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點】
一種排風(fēng)裝置，其特征在于：包括底腔（3）、兆聲波裝置盛液槽（4）、兆聲波裝置盛液槽固定支架（5）、夾層（1）及排風(fēng)調(diào)整單元（7），所述底腔（3）固定于所述夾層（1）頂部，所述兆聲波裝置盛液槽（4）通過兆聲波裝置盛液槽固定支架（5）固定于所述夾層（1）上，所述夾層（1）將整個工藝腔室的工藝區(qū)和電氣區(qū)分隔開，所述排風(fēng)調(diào)整單元（7）與所述夾層（1）連接，用于調(diào)整工藝腔體內(nèi)部排風(fēng)流量、工藝腔體外部排風(fēng)流量以及電氣區(qū)的排風(fēng)流量。
【技術(shù)特征摘要】
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：王波雷，王銳廷，張豹，姬丹丹，
申請(專利權(quán))人：北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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