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    配向膜的制作方法技術

    技術編號:8452313 閱讀:254 留言:0更新日期:2013-03-21 08:50
    本發明專利技術涉及一種配向膜的制作方法。形成一具有一紫外光反應官能基的配向材料于一基板上。對基板上的配向材料進行一預烤步驟。提供一紫外光偏光片于基板上。對已預烤后的配向材料進行一配向處理,以照射一紫外光于基板上。紫外光穿透紫外光偏光片而照射到已預烤后的配向材料。對已配向處理后的配向材料進行一烘烤步驟,以完全固化配向材料。本發明專利技術的方法可減少配向不均及暗態漏光的形成產生,可具有較佳的制程良率且可達到廣視角的效果。

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術是有關于一種,且特別是有關于一種光。
    技術介紹
    —般的液晶面板(liquid crystal panel)主要是由兩片基板以及一配置于二基板之間的液晶層所構成。不論是主動矩陣式液晶顯示器或者是被動矩陣式液晶顯示器,兩片基板上都必須具有配向膜(alignment layer)。配向膜的主要功能在于對液晶分子進行配向,以使液晶分子在兩片基板之間呈現扭轉的現象。一般而言,配向膜可用印刷方式或其它方式形成,其中以印刷方式形成配向膜的制程主要包括配向膜印刷以及配向處理兩部份。在配向膜印刷的步驟中,通常是藉由印刷設備將聚酰亞胺(polyimide)制作于基板上, 而在配向處理的步驟中是以定向摩擦(rubbing)的方式進行配向處理。更具體來說,定向摩擦是指以接觸式的方式對配向層與進行摩擦(rubbing)處理,以使配向層對液晶層的液晶分子產生配向效果。然而,這樣的作法需要滾輪(roller) 對玻璃基板表面進行摩擦配向,如此一來,不僅無法針對每個畫素(pixel)進行多領域 (multi-domain)的配向,所以無法達到廣視角的效果。再者,接觸式的制作方式較容易使配向層產生微塵(dust)或是靜電。此外,由于需要滾輪對玻璃基板進行配向,因此當玻璃基板尺寸逐漸增大的情況下,不易應用于大尺寸的面板制作,較容易產生配向不均的問題。
    技術實現思路
    本專利技術的目的是提供一種,可減少配向不均及暗態漏光的形成產生,可具有較佳的制程良率且可達到廣視角的效果。本專利技術提出一種,其包括以下制程步驟。形成一具有一紫外光反應官能基的配向材料于一基板上。對基板上的配向材料進行一預烤步驟。提供一紫外光偏光片于基板上,其中紫外光偏光片包括金屬相位光柵偏光板。對已預烤后的配向材料進行一配向處理,以照射一紫外光于基板上。紫外光穿透紫外光偏光片而照射到已預烤后的配向材料。對已配向處理后的配向材料進行一烘烤步驟,以完全固化配向材料。在本專利技術的一實施例中,上述的預烤步驟的時間介于I分鐘至30分鐘之間,而預烤步驟的溫度介于50°C至150°C之間。在本專利技術的一實施例中,上述的紫外光的波長介于200奈米至400奈米之間,而紫外光的能量介于O. I焦耳至3焦耳,且紫外光的照射時間介于I秒至1000秒之間。在本專利技術的一實施例中,上述的配向材料的材質包括具有光反應官能基的高分子材料。在本專利技術的一實施例中,上述的烘烤步驟的時間介于I分鐘至50分鐘之間,而烘烤步驟的溫度介于150°C至400°C之間。在本專利技術的一實施例中,上述的,更包括對已固化的配向材料進行一水洗步驟。 在本專利技術的一實施例中,上述的水洗步驟是透過一水洗液對已固化的配向材料進行清洗。水洗液是由一水溶液與一異丙醇溶液所組成,且異丙醇的液重量百分比介于15% 至60%之間。在本專利技術的一實施例中,上述的基板包括一彩色濾光基板或一主動組件數組基板。在本專利技術的一實施例中,上述的配向材料的紫外光反應官能基的變化是藉由傅立葉紅外頻譜分析儀進行檢測。基于上述,由于本專利技術的是采用具有紫外光反應官能基的配向材料,且先透過紫外光穿透紫外光偏光片而照射到已預烤后的配向材料上,而后再進行烘烤步驟以固化配向材料,因此本專利技術所制作出的配向膜可具有較佳的配向效果。再者,相較于習知采用接觸式的配向方式,本專利技術的可有效降低配向膜損傷的機率及避免產生靜電或粉屑顆粒而造成配向不良及暗態漏光的情形。故,本專利技術的可具有較佳的制程良率。為讓本專利技術的上述特征和優點能更明顯易懂,下文特舉實施例,并配合所附圖式作詳細說明如下。附圖說明圖1繪示為本專利技術的一實施例的一種的流程示意圖。圖2A至圖2E繪示為圖1的的剖面示意圖。主要組件符號說明100 :基板110、110a、110b :配向材料 120 :紫外光偏振片 U:紫外光S10、S11、S12、S13、S14 :步驟。具體實施方式圖1繪示為本專利技術的一實施例的一種的流程示意圖。圖2A至圖 2E繪示為圖1的的剖面示意圖。請先同時參考圖1與圖2A,在本實施例中,形成一具有一紫外光反應官能基的配向材料110于一基板100上。本實施例的配向材料110的材質例如是具有光反應官能基的高分子材料,舉例來說,如聚酰亞胺或聚酰胺酸, 而基板100例如是一彩色濾光基板或一主動組件數組基板。需說明的是,在形成配向材料110于基板100上之前,可先對基板100進行一清潔步驟,除了可以增加配向材料110與基板100之間的接合性外,亦可有效提升后續所形成的配向膜的產品可靠度。接著,請同時參考圖1與圖2B,對基板100上的配向材料110進行一預烤步驟,以去除配向材料110中的部分溶劑(未繪示),但不會使配向材料110完全固化。此處,預烤步驟的時間介于I分鐘至30分鐘之間,而預烤步驟的溫度介于50°C至150°C之間。之后,請同時參考圖I與圖2C,提供一紫外光偏光片120于基板100上。此處,需說明的是,紫外光偏光片120例如為一種金屬相位光柵偏光板(Wire grid polarize),其具有高耐熱的效果,且其所采用的金屬例如是金或鋁。此金屬相位光柵偏光板為一種利用金屬在基板表面制作一排間隔極其細密的金屬狹縫(通常大約與UV光的波長相當)。利用繞射原理可讓偏振態與金屬狹縫垂直的光線通過,而偏振與金屬狹縫平行的光線反射,透過適當的光柵周期(grating period )設計,可讓非偏振光經由此一偏光板,產生一高度線性偏振光。接著,并對已預烤后的配向材料IlOa進行一配向處理,以照射一紫外光U于基板 100上。特別是,紫外光U穿透紫外光偏光片120而照射到已預烤后的配向材料110a。此處的紫外光偏光片120的目的在于使紫外光U穿透以提供配向材料IlOa —特定方向的線性偏振光源,而具有紫外光反應官能基的配向材料IlOa會因為紫外光U的照射而使紫外光反應官能基產生斷裂。此處,配向材料IlOa的紫外光反應官能基的變化是可藉由傅立葉紅外頻譜分析儀進行檢測而得知。更具體來說,本實施例所采用的紫外光的波長介于200奈米至400奈米之間,而紫外光的能量介于O. I焦耳至3焦耳,且紫外光的照射時間介于I秒至1000秒之間。最后, 請同時參考圖I、圖2D與圖2E,對已配向處理后的配向材料IlOa進行一烘烤步驟,以完全固化配向材料110b。此處,進行烘烤步驟的目的在于完全去除配向材料IlOa中的溶劑,即脫水現象。此外,本實施例的烘烤步驟的時間介于I分鐘至50分鐘之間,而烘烤步驟的溫度介于150°C至400°C之間。至此,已于基板100上完成配向膜IlOb的制作。為了提升組立后的顯示面板(未繪示)的良率,本實施例的亦更包括對已固化的配向材料IlOb進行一水洗步驟,其中水洗步驟是透過一水洗液對已固化的配向材料IlOb進行清洗。此處,水洗液是由一水溶液(未繪示)與一異丙醇溶液(未繪示) 所組成,而異丙醇的液重量百分比介于15%至60%之間。再者,進行完水洗步驟后,亦可再進行一干燥步驟,以透過一離子風扇(未繪示)、紅外線加熱或烘烤的方式干燥基板100。由于本實施例的是采用具有紫外光反應官能基的配向材料 110,且透過紫外光U穿透紫外光偏光片120而照射到已預烤后的配向材料IlOa上,而后再進行烘烤步驟以固化配向材料110b,因此本實施例的配向本文檔來自技高網...

    【技術保護點】
    一種配向膜的制作方法,其特征在于包括:形成一具有一紫外光反應官能基的配向材料于一基板上;對該基板上的該配向材料進行一預烤步驟;提供一紫外光偏光片于該基板上,其中該紫外光偏光片包括金屬相位光柵偏光板;對已預烤后的該配向材料進行一配向處理,以照射一紫外光于該基板上,其中該紫外光穿透該紫外光偏光片而照射到已預烤后的該配向材料;以及對已配向處理后的該配向材料進行一烘烤步驟,以完全固化該配向材料。

    【技術特征摘要】

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:謝佳升傅欣敏吳宏昱連詹田
    申請(專利權)人:福建華映顯示科技有限公司中華映管股份有限公司
    類型:發明
    國別省市:

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