一種在常溫弱堿性條件下制備強還原性二氧化硫脲溶液的方法技術

本發明專利技術公開一種在常溫弱堿性條件下制備強還原性二氧化硫脲溶液的方法，先配制一定濃度的二氧化硫脲溶液，再分別加入一定量的碘代烷、胺類和腐植酸鈉，后攪拌并將混合溶液置于超聲波振蕩器中催化反應一定時間，即得到在常溫、弱堿性條件下還原電位達到-800mV～-1000mV的二氧化硫脲溶液，比未活化的二氧化硫脲溶液的還原電位高出300～700mV，達到了其在加熱和強堿性條件下的還原電位值。可以擺脫目前二氧化硫脲需在加熱和強堿性條件下才能獲得強還原性的限制，極大的擴大二氧化硫脲的應用范圍，降低其應用成本，因此具有廣闊的市場空間。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術屬于精細化工
，具體為。
技術介紹
二氧化硫脲(簡稱TD，分子式=CH4N2O2S)系硫脲含氧衍生物，由于硫原子的成鍵特點而具較大的反應活性，存在著以下兩種同分異構體。

【技術保護點】
一種在常溫弱堿性條件下制備強還原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于：包括以下步驟：第一步：先將二氧化硫脲加入水中配制二氧化硫脲溶液；第二步：將碘代烷、胺類、腐植酸鈉加入到第一步配制的二氧化硫脲溶液中；第三步：將第二步的混合溶液經攪拌后，置于超聲波振蕩器中進行催化反應后，獲得強還原性的二氧化硫脲溶液。

【技術特征摘要】
1.一種在常溫弱堿性條件下制備強還原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于包括以下步驟 第一步先將二氧化硫脲加入水中配制二氧化硫脲溶液； 第二步將碘代烷、胺類、腐植酸鈉加入到第一步配制的二氧化硫脲溶液中； 第三步將第二步的混合溶液經攪拌后，置于超聲波振蕩器中進行催化反應后，獲得強還原性的二氧化硫脲溶液。2.根據權利要求I所述的制備強還原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于所述第一步配制的二氧化硫脲溶液的質量百分比濃度為3 10%。3.根據權利要求I所述的制備強還原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于所述第二步中的碘代烷為CH3I或CH2I2154.根據權利要求I所述的制備強還原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于所述第二步中的胺類為氨水、甲胺或乙二胺。5.根據權利要求I所述的制備強還原性二氧化硫脲溶液的方法，其特征在于所述第三步中的超聲波振蕩器輸出功...

【專利技術屬性】
技術研發人員：夏光華，譚訓彥，趙曉東，
申請(專利權)人：景德鎮陶瓷學院，
類型：發明
國別省市：