從料流中除去一種或多種硫化合物的方法技術(shù)

一個典型實(shí)施方案可以為從苛性堿料流中除去一種或多種二硫化物化合物的方法。該方法可包括使預(yù)先與烴料流接觸以除去一種或多種硫醇的苛性堿料流在硫醇氧化區(qū)下游通過塔以除去一種或多種二硫化物化合物。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術(shù)】相關(guān)國家申請的優(yōu)先權(quán)說明本申請要求2010年6月30日提交的美國申請No.61/360,321和2011年1月14日提交的美國申請No.13/007,583的優(yōu)先權(quán)。專利
本專利技術(shù)一般性地涉及從料流中除去一種或多種硫化合物的方法。相關(guān)技術(shù)描述脫硫方法可從烴料流中萃取硫醇以形成苛性堿料流，隨后可將苛性堿料流氧化以將硫醇轉(zhuǎn)化成一種或多種二硫化物。當(dāng)形成二硫化物時，大多數(shù)可在二硫化物分離器中與苛性堿分離。因而，苛性堿可作為分離相除去。盡管至少除去大多數(shù)二硫化物，但少量二硫化物可能仍保留在苛性堿中，其可被萃取回到產(chǎn)物烴中并貢獻(xiàn)于烴產(chǎn)物中的總硫。通常為降低苛性堿中二硫化物的量，一系列混合器和沉降器可使苛性堿與無硫油接觸以從貧苛性堿中除去二硫化物油。為保持較低的二硫化物水平，可提供另外的混合器或沉降器。一般而言，由于額外的資本投資，使另外的混合器/沉降器組合最小化是理想的。由于精煉廠和化學(xué)品廠商必須滿足更嚴(yán)格的硫規(guī)格，二硫化物量的降低增加是理想的。然而，添加另外的混合器和沉降器可能提高資本和操作成本。因此，希望實(shí)現(xiàn)所需規(guī)格，同時使成本最小化。此外，從貧苛性堿中聚集的二硫化物可能聚集于烴產(chǎn)物中，隨后可將其通過吸附脫除方法除去，這增加了項目的資本和效用成本。因此，貧苛性堿中二硫化物的量的任何降低可避免烴產(chǎn)物下游處理區(qū)中隨后脫除的成本。專利技術(shù)概述一個典型實(shí)施方案可以為從苛性堿料流中除去一種或多種二硫化物化合物的方法。該方法可包括使預(yù)先與烴料流接觸以除去一種或多種硫醇的苛性堿料流在硫醇氧化區(qū)下游通過塔以除去一種或多種二硫化物化合物。另一典型實(shí)施方案可以為從苛性堿料流中除去一種或多種二硫化物化合物的方法。該方法可包括使預(yù)先與烴料流接觸以除去一種或多種硫醇的苛性堿料流在硫醇氧化區(qū)下游通過填充塔以除去一種或多種二硫化物化合物。另一典型實(shí)施方案可以為從苛性堿料流中除去一種或多種二硫化物化合物的方法。該方法可包括使預(yù)先與烴料流接觸以除去一種或多種硫醇的苛性堿料流在硫醇氧化區(qū)下游通過具有一個或多個塔板的塔以除去一種或多種二硫化物化合物；其中至少一個塔板形成借助降液管與相鄰塔板連通的盤。本文所公開的實(shí)施方案可提供用于除去一種或多種二硫化物化合物的塔。特別地，可使二硫化物污染的苛性堿與溶劑流(通常包含烴)接觸以除去一種或多種二硫化物化合物。因而，所得苛性堿料流可具有降低的二硫化物含量并可例如用于從烴料流中萃取硫醇，同時顯著降低或消除一種或多種二硫化物化合物在萃取容器中從再生苛性堿中反萃取回?zé)N產(chǎn)物流中。因此，烴產(chǎn)物流可具有總體降低的硫含量并可避免隨后脫硫方法的必要性。此外，從苛性堿中吸附除去一種或多種二硫化物至非常低的水平可容許苛性堿循環(huán)的提高，由此改進(jìn)萃取區(qū)中硫醇的脫除，而不會招致一種或多種二硫化物在萃取區(qū)中從再生苛性堿中增加地再進(jìn)入烴產(chǎn)物流中。定義如本文所用，術(shù)語“料流”可包括各種烴分子，例如直鏈、支化或環(huán)狀烷烴、烯烴、二烯烴和炔烴，和任選其它物質(zhì)，例如氣體如氫氣，或雜質(zhì)如重金屬，及硫和氮化合物。料流還可包括芳族和非芳族烴。此外，烴分子可簡寫為C1、C2、C3…Cn，其中“n”表示一個或多個烴分子中的碳原子數(shù)。此外，上標(biāo)“+”或“-”可與縮寫的一個或多個烴符號一起使用，例如C3+或C3-，其包括縮寫的一種或多種烴。作為實(shí)例，縮寫“C3+”意指具有三個碳原子和/或更多碳原子的一種或多種烴分子。另外，術(shù)語“料流”可適用于其它流體，例如堿或堿性化合物如氫化化鈉的水溶液和非水溶液。如本文所用，術(shù)語“區(qū)”可指包括一個或多個設(shè)備件和/或一個或多個分區(qū)的區(qū)域。設(shè)備件可包括一個或多個反應(yīng)器或反應(yīng)容器、加熱器、交換器、管、泵、壓縮機(jī)和控制器。另外，設(shè)備件如反應(yīng)器、干燥器或容器可進(jìn)一步包括一個或多個區(qū)或分區(qū)。如本文所用，術(shù)語“富含”可意指料流中一種化合物或一類化合物的量為至少一般50%，優(yōu)選70重量%。如本文所用，術(shù)語“實(shí)質(zhì)”可意指料流中一種化合物或一類化合物的量為至少一般80%，優(yōu)選90重量%，最佳地99重量%。如本文所用，術(shù)語“吸附”可集合性地指幾種方法，并可包括方法如吸收以及吸附。如本文所用，術(shù)語“份/百萬份”在本文中可縮寫為“ppm”，“重量ppm”在本文中可縮寫為“wppm”。如本文所用，術(shù)語“硫醇”意指硫醇并可包括式RSH化合物及其鹽，例如式RS-M+硫醇鹽，其中R為飽和或不飽和且任選被取代的烴基如烷基或芳基，M為金屬如鈉或鉀。如本文所用，術(shù)語“二硫化物”可包括二甲基二硫化物、二乙基二硫化物和乙基甲基二硫化物，以及可能的具有分子式RSSR’的其它物種，其中R和R’各自獨(dú)立地為飽和或不飽和且任選被取代的烴基如烷基或芳基。通常，二硫化物由硫醇污染的苛性堿氧化而產(chǎn)生且形成不溶于苛性堿水相中的分離烴相。一般而言，如本文所用，術(shù)語“二硫化物”不包括二硫化碳(CS2)。如本文所用，除非另外指出，硫的重量百分?jǐn)?shù)或ppm，例如“wppm硫”為烴料流中硫的量，而不是含硫物種的量。作為實(shí)例，甲基硫醇CH3SH具有48.1的分子量，其中32.06由硫原子代表，所以分子為66.6重量%硫。因此，實(shí)際硫化合物濃度可高于來自化合物的wppm-硫。例外的是苛性堿中的二硫化物含量可報告為wppm二硫化物化合物。如本文所用，術(shù)語“硫醇污染的苛性堿”可意指在離開萃取區(qū)以后且在硫醇氧化區(qū)中處理以前具有典型水平的一種或多種硫醇的苛性堿。它可具有或不具有所需水平的其它含硫化合物如一種或多種二硫化物。通常，“硫醇污染的苛性堿”可具有至多1,000wppm的一種或多種硫醇。如本文所用，術(shù)語“二硫化物污染的苛性堿”可意指已在硫醇氧化區(qū)中處理且具有所需水平的一種或多種硫醇，但仍具有不理想水平的一種或多種二硫化物的苛性堿。這種二硫化物污染的苛性堿可以為硫醇氧化區(qū)下游和二硫化物脫除區(qū)上游。在一些典型應(yīng)用中，如果一種或多種二硫化物的降低水平是不理想的，則這種料流可被認(rèn)為是再生或貧苛性堿。一般而言，二硫化物的含量可以為在苛性堿中150-300wppm或更高，如果料流在硫醇氧化區(qū)以后且在分離區(qū)上游，則特別如此。如本文所述，術(shù)語“貧苛性堿”為已被處理且具有所需水平的硫，包括一種或多種硫醇和一種或多種二硫化物以在萃取區(qū)中處理一種或多種C1-C5烴的苛性堿。如本文所述，關(guān)于溶劑流的術(shù)語“再生”可意指從溶劑流中除去一種或多種二硫化本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

【技術(shù)特征摘要】
【國外來華專利技術(shù)】2010.06.30 US 61/360,321;2011.01.14 US 13/007,5831.從苛性堿料流中除去一種或多種二硫化物化合物的方法，其包括：
A)使預(yù)先與烴料流接觸以除去一種或多種硫醇的苛性堿料流在硫醇氧化
區(qū)下游通過塔以除去所述一種或多種二硫化物化合物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中所述塔包括含有填料的填充塔。
3.根據(jù)權(quán)利要求2的方法，其中填料包含多個環(huán)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中所述塔包含多個塔板，且至少一個塔
板包含與...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：S·L·克魯帕，C·費(fèi)瑞曼，J·E·特魯科，J·A·泰爾特，
申請(專利權(quán))人：環(huán)球油品公司，
類型：
國別省市：