柔性的具有疏水自清潔功能的裝飾性復合涂層制造技術

本實用新型專利技術公開了一種柔性的具有疏水自清潔功能的裝飾性復合涂層，其依次包括柔性基底、顏色打底層和改性二氧化硅層。本實用新型專利技術通過在柔性基底上依次沉積一層顏色打底層和二氧化硅，并用硅烷偶聯劑對制備好的復合涂層進行表面改性，使其具有疏水性，能夠保持其表面的潔凈，提高膜層的裝飾性效果，同時膜層柔軟能和建筑很好的結合。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術屬于鍍膜裝飾領域，尤其是涉及ー種柔性的具有疏水自清潔功能的裝飾性復合涂層。
技術介紹
鍍膜技術已經在國民經濟的各個部門，尤其是裝飾領域，得到廣泛的應用，通過在裝飾板材上鍍膜可以提高裝飾的效果和品位，増加附加值，延長使用壽命，具有很大的經濟效益，另外，優美的裝飾外觀能滿足人們對舒適生活的最求，具有良好的社會效益。隨著社會的發展，對膜層也提出越來越高的要求，例如膜層具有自清潔性；要具有更為豐富的顏色；膜層表面具備耐磨、耐腐蝕、耐久、耐老化；膜層更加柔軟，以便和建筑更好的結合等。采用化學法(化學著色和電化學著色)制備彩色膜往往存在附著力差，制備過程污染嚴重等缺點，因此物理法制彩色膜是當今發展的主流，目前國內應用比較廣泛的是離子鍍膜法和磁控濺射鍍膜法。然而，就裝飾領域而言，所制備的膜層多為單層膜，只注重膜層的裝飾性功能，目的是得到不同種類的顔色。功能性復合膜在這個領域研究和應用較少。作為裝飾性涂層，涂層的潔凈程度直接影響了其美觀性，因此，在高檔次的裝飾領域，要求涂層具有自清潔功倉^:。另外，目前裝飾性的膜層一般是鍍在金屬、玻璃及陶瓷等剛性的基底上，而在柔性基地上鍍制裝飾性涂層幾乎沒有研究。然而，在柔性基底上鍍制裝飾性涂層是非常有意義的，因為這樣的涂層更容易和建筑結合。
技術實現思路
為解決上述問題，本技術的目的是提供ー種柔性的具有疏水自清潔功能的裝飾性復合涂層，其膜層柔軟能和建筑很好的結合，同時具有疏水功能保持其表面的潔凈，有利于提高膜層的裝飾性效果。本技術的目的是這樣實現的ー種柔性的具有疏水自清潔功能的裝飾性復合涂層，其特征在于依次包括柔性基底、顔色打底層和改性ニ氧化硅層。所述的柔性基底為PET膜、PP膜、PE膜、PVC膜、PC膜中的ー種，或兩種以上的復合膜。所述的顏色打底層通過物理氣相沉積法沉積在柔性基底上。所述的改性ニ氧化硅層是通過物理氣相沉積法將ニ氧化硅沉積在顏色打底層上以硅烷偶聯劑對其進行表面改性而成。所述的顏色打底層為鈦的合金或其化合物層，或者為鋯的合金或其化合物層。本技術通過在柔性基底上依次沉積ー層顏色打底層和ニ氧化硅，并用硅烷偶聯劑對制備好的復合涂層進行表面改性，使其具有疏水性，能夠保持其表面的潔凈，提高膜層的裝飾性效果，同時膜層柔軟能和建筑很好的結合。附圖說明圖I是本技術的結構示意圖。具體實施方式本技術是ー種柔性的具有疏水自清潔功能的裝飾性復合涂層，如圖I所示的復合涂層產品，依次包括柔性基底I、顔色打底層2和改性ニ氧化硅層3。顔色打底層2通過物理氣相沉積法沉積在柔性基底上。改性ニ氧化硅層3是通過物理氣相沉積法將ニ氧化硅沉積在顔色打底層上以硅烷偶聯劑對其進行表面改性而成。柔性基底I可采用PET膜、PP膜、PE膜、PVC膜、PC膜中的ー種，或它們中兩種以上的復合膜。在清洗干凈的柔性基底I上沉積ー層顏色打底層2，這層顏色打底層2可以是鈦的合金或其化合物層，也可以是鋯的合金或其化合物層。最常見的顔色打底層為氮化鈦·層或氮化鋯層。顔色打底層2的色彩控制技術在裝飾領域非常成熟，可以根據實際需要得到想要的顏色。在制備好的顏色打底層2上進ー步沉積ニ氧化硅，由于ニ氧化硅一般為親水的，必須對其進行表面改性，將制備好的復合涂層浸泡在硅烷偶聯劑的有機溶劑中反應，使硅烷偶聯劑接在ニ氧化硅的表面，得到疏水性的改性ニ氧化硅層3。硅烷偶聯劑可選自KH550、KH560、KH570、KH792、DL602或DL171 ;有機溶劑選自甲苯、ニ氯甲烷、こ醚或辛烷，這些溶劑對硅烷偶聯劑有很好的溶解性。顔色打底層2和ニ氧化硅的沉積方法可以是離子鍍和磁控濺射兩種方法的任何ー種。相比而言，磁控濺射得到的膜層致密，厚度容易控制，因此，多用來沉積ニ氧化硅。而離子鍍膜的方法，成膜速度快，在裝飾領域應用廣泛，多用來鍍制顏色打底層。下面結合具體例子對本
技術實現思路
做進ー步說明，但本技術保護范圍不僅限于以下實施例，凡是屬于本
技術實現思路
等同的技術方案，均屬于本專利的保護范圍。實施例I(I)顏色打底層2的制備在PET柔性基底上，采用離子鍍的方法，以常見的氮化鈦為例進行說明，氮化鈦膜通過多弧離子鍍進行沉積，樣品在鍍膜室內Ar離子濺射清洗5min后開始沉積氮化鈦，靶材為Ti靶，純度為99. 99%，靶室真空度3. 2 X KT1Pat5鍍膜エ藝參數為N2流量3. 2 X 10 !^1,Ar流量為I. 9 X IO-5Hi3nIin-1,濺射電壓為500V，濺射電流為30A，濺射時間為lOmin。(2) ニ氧化硅的制備ニ氧化硅多用磁控濺射的方法制備，濺射用的靶材為SiO2,純度為99. 99%。實驗中用Ar氣作濺射氣體，并通入適量的氧氣，待電流和電壓充分穩定后再進行濺射。濺射時工作氣壓為0. 7Pa，自偏壓為620V，濺射電壓為450V，電流為0. 16A，濺射功率為80W，鍍膜時間分別為30min。(3) ニ氧化硅的表面改性將硅烷偶聯劑KH550溶解在甲苯的濃度為lmol/L，加熱到60°C，保持10小時就可以得到理想的改性ニ氧化硅層3。實施例2步驟(2)的顔色打底層2通過磁控濺射的方法制備，以鋯為靶材，通入N2和Ar。N2流量為3. 2 X 10-5m3min-l，Ar流量為I. 9 X 10-5m3min-l，濺射電壓為500V，濺射電流為30A，濺射時間為lOmin，得到氮化鋯打底層。其他同實施例I。實施例3步驟(3)中硅烷偶聯劑KH792溶解在ニ氯甲烷的濃度為2mol/L，加熱至80°C，僅需2小時就可以完成ニ氧化硅的改性過程。其他同實施例I。·本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種柔性的具有疏水自清潔功能的裝飾性復合涂層，其特征在于：依次包括柔性基底、顏色打底層和改性二氧化硅層。

【技術特征摘要】
1.一種柔性的具有疏水自清潔功能的裝飾性復合涂層，其特征在于依次包括柔性基底、顏色打底層和改性二氧化硅層。2.根據權利要求I所述的柔性的具有疏水自清潔功能的裝飾性復合涂層，其特征在于所述的柔性基底為PET膜、PP膜、PE膜、PVC膜、PC膜中的一種，或兩種以上的復合膜...

【專利技術屬性】
技術研發人員：朱元義，
申請(專利權)人：廣州市番禺雙石鈦金廠，
類型：實用新型
國別省市：