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    隱私保護濾光片及其制造方法技術

    技術編號:8369080 閱讀:161 留言:0更新日期:2013-02-28 19:02
    本發(fā)明專利技術涉及一種隱私保護濾光片及其制造方法,更具體而言,涉及一種隱私保護濾光片及其制造方法,其中,所述隱私保護濾光片包括:第一透明基板;第二透明基板,其以與第一透明基板間隔預定的距離且相對地設置;電解質,其填充在第一透明基板和第二透明基板之間;和第二透明導電層,其設置在電解質與第二透明基板之間,其中第一透明基板包括:具有線柵和溝槽的凸凹圖形,其形成于第一透明基板上;第一透明導電層,其形成于凸凹圖形的線柵和溝槽上;和電致變色層,其沿著線柵的側壁在第一透明導電層上形成,并且包含電致變色材料以根據是否施加電信號來透射或吸收可見光。本發(fā)明專利技術的隱私保護濾光片在隱私模式下有效地阻擋了光的側向透射而沒有損失前側透射,實現寬視野模式和窄視野模式之間的快速轉換,并確保優(yōu)異的濾光性能和驅動穩(wěn)定性。

    【技術實現步驟摘要】
    【國外來華專利技術】
    本專利技術涉及一種隱私保護濾光片(privacy filter)及其制造方法,更具體而言,涉及一種,其中,所述隱私保護濾光片將無機電致變色材料用于高深寬比的凸凹圖形以降低側向透射而不會使前側透射劣化,因此增強了隱私模式功能,實現寬視野模式和窄視野模式之間快速轉換,并且確保在濾光性能和驅動穩(wěn)定性方面優(yōu)異。
    技術介紹
    隨著強烈的隱私保護需求的增加,在不同領域已經開發(fā)了多種相關的產品。在保護隱私的產品中,對安裝在移動電話或計算機屏幕上以阻擋側向透射并使屏幕視角變窄的隱私保護濾光片的需求每年都在增加。然而,在不從屏幕上移開隱私保護濾光片的情況下,視角一旦變窄就不可恢復,導致在不需要隱私保護功能的時候不得不從屏幕移開隱私保護 濾光片的不便利性。為了消除上述不便利性,最近已經開發(fā)一種可轉換的隱私保護濾光片,其不包括附加膜,而根據接收的電信號選擇性地控制視角。對于可轉換的隱私保護濾光片,可以以不同的方式實現阻擋光,例如,使用TOLC(聚合物分散的液晶)或PNLC(聚合物網絡液晶)作為光吸收材料;采用單獨的LCD結構;或應用電致變色材料。然而,由這些不同方法實現的可轉換的隱私保護濾光片的共同缺點為在隱私模式下差的側向透射、極低的前側透射、在寬視野模式和窄視野模式之間的緩慢轉換、在連續(xù)的模式轉化中變差的性能和驅動穩(wěn)定性等。已經做出了持續(xù)的研究以尋求這些問題的解決方案,但是滿足上述需求的隱私保護濾光片仍沒有明顯發(fā)展。
    技術實現思路
    技術問題因此,本專利技術的一個目是提供一種使用電致變色材料的,其中在沒有使前側透射劣化的情況下,所述隱私保護濾光片具有相當優(yōu)異的光的側向透射,實現寬視野模式和窄視野模式之間的快速轉換并且在連續(xù)的模式轉換中確保優(yōu)異的濾光性能和驅動穩(wěn)定性。技術方案為了實現本專利技術的目的,提供了一種隱私保護濾光片,其包括第一透明基板;第二透明基板,其以與第一透明基板間隔預定的距離且相對地設置;電解質,其填充在第一和第二透明基板之間;第二透明導電層,其設置在電解質與第二透明基板之間。所述第一透明基板包括具有線柵和溝槽的凸凹圖形,其形成于第一透明基板上;第一透明導電層,其形成于凸凹圖形的線柵和溝槽上;和電致變色層,其沿著線柵的側壁在第一透明導電層上形成,并且包含電致變色材料以根據是否施加電信號來透射或吸收可見光。關于此,所述電致變色層可以還形成在凸凹圖形的線柵頂部和溝槽底部上的第一透明導電層上。優(yōu)選地,所述電致變色層為包含普魯士藍或過渡金屬氧化物的無機材料。此外,提供了一種用于制造隱私保護濾光片的方法,該方法包括(a)在第一透明基板上形成具有線柵和溝槽的凸凹圖形;(b)在凸凹圖形上形成第一透明導電層;(c)在凸凹圖形的第一透明導電層上形成電致變色層;和(d)利用其上形成有第二透明導電層的第二透明基板將間隔物設置在步驟(C)的基板和第二透明基板之間,注入電解質,然后使兩個基板結合并密封在一起。上述方法還包括在步驟c)在第一透明導電層上形成電致變色層之后,對在線柵頂部和溝槽底部上的第一透明導電層上形成的電致變色層進行干法蝕刻。形成電致變色層的步驟(C)包括在30至60 μ A/cm2的電流密度下采用電沉積電鍍法形成普魯士藍或過渡金屬化合物。 在下文中,將對本專利技術給出更加詳細的描述。本專利技術涉及一種可應用于顯示器的可轉換的隱私保護濾光片。與阻擋層為簡單的線柵結構的一般的屏幕防窺膜不同,本專利技術提供了一種具有薄阻擋層的隱私保護濾光片結構,所述薄阻擋層適形地形成在具有線柵和溝槽的高深寬比凸凹圖形上,或者僅形成在線柵結構的側壁上。此外,本專利技術使用無機材料作為形成阻擋層的電致變色材料,并且采用電鍍法,例如電沉積電鍍法,而不是常規(guī)的濺射法。因此,本專利技術可以實現在收到電信號之后立即在寬視野模式和窄視野模式(即,隱私模式)之間的快速轉換,并且在隱私模式下在不使前側透射劣化的情況下阻擋光的側向透射。在下文中,將參照附圖描述根據本專利技術的優(yōu)選的實施方式的。圖I為示意性地顯示根據本專利技術的一個實施方式的隱私保護濾光片的結構的模擬圖;圖2為示意性地顯示根據本專利技術的另一實施方式的隱私保護濾光片的結構的模擬圖。如圖I和圖2所示,本專利技術的隱私保護濾光片基本包括第一透明基板10 ;第二透明基板12,其以與第一透明基板10間隔預定的距離且相對地設置;電解質50,其填充上述兩個基板之間;和第二透明導電層32,其設置在電解質50與第二透明基板12之間。該隱私保護濾光片還包括間隔物60,其設置在第一透明基板10和第二透明基板12的兩端上以使這兩個基板固定。第一透明基板10包括具有線柵和溝槽的高深寬比凸凹圖形20 ;第一透明導電層30,其形成于凸凹圖形的線柵和溝槽上;和電致變色層40,其包含電致變色材料以根據是否施加電信號來透射或吸收可見光。優(yōu)選地,所述凸凹圖形20包括以預定的間隔形成于第一透明基板10上的線柵和溝槽以具有高深寬比。更優(yōu)選地,所述凸凹圖形的結構為線柵和溝槽的寬度為約ΙΟμπι或更小,由下面的公式I表示的溝槽深寬比(深度與寬度比)至少為約2。[公式I]溝槽深寬比=溝槽深度/溝槽寬度為了使線柵圖形不可見,在所述凸凹圖形中的線柵和溝槽的寬度優(yōu)選為約ΙΟμπι或更小,更優(yōu)選為約I μ m或更小。更具體而言,當溝槽寬度大于10 μ m時,觀察到線柵圖形使顯示器的屏幕散射,這對于隱私保護濾光片而言是不合適的。此外,當由公式I表示的溝槽的深寬比(深度與寬度之比)小于2時,即使在窄視野模式下,側向亮度也不會充分降低,這導致作為隱私保護濾光片功能的失敗。關于此,所述凸凹圖形可以為由光刻膠材料形成的絕緣層。第一透明導電層30適形地形成在凸凹圖形20的線柵和溝槽上以得到凸凹圖形結構。電致變色層40優(yōu)選沿著線柵的側壁形成在第一透明導電層30上。當需要時,電致變色層40可以還選擇性地形成在凸凹圖形的線柵頂部和溝槽底部上的第一透明導體層30上。因此,如圖I所示,根據本專利技術的一個優(yōu)選實施方式的隱私保護濾光片包括第一 透明基板10 ;第二透明基板12,其以與第一透明基板10間隔預定的距離且相對地設置;電解質50,其填充在第一透明基板10和第二透明基板12之間;和第二透明導電層32,其設置在電解質50與第二透明基板12之間。此外,第一透明基板10可以包括具有線柵和溝槽的凸凹圖形20,其形成在第一透明基板10上;第一透明導電層30,其形成在凸凹圖形的線柵和溝槽上;和電致變色層40,其沿著線柵的側壁形成在第一透明導電層30上,并且包含根據是否施加電信號來透射或吸收可見光的電致變色材料。在上述兩個基板之間設置有間隔物60。在這種結構中,電致變色層40沒有形成在凸凹圖形的線柵頂部(a)和溝槽底部(b)上的第一透明導電層30上,而是僅沿著線柵的側壁和溝槽的內部形成在第一透明導電層上。此外,如圖2所示,根據本專利技術的另一優(yōu)選實施方式的隱私保護濾光片包括第一透明基板10 ;第二透明基板12,其以與所述第一透明基板10間隔預定的距離且相對地設置;電解質50,其填充在第一透明基板10和第二透明基板12之間;和第二透明導電層32,其設置在電解質50與第二透明基板12之間。關于此,第一透明基板10可以包括具有線柵和溝槽的凸凹圖形20,其形成在第一透明基板10上;第一透明導電層30,其形成在凸凹圖形的線柵和溝槽上本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    【技術特征摘要】
    【國外來華專利技術】2010.04.22 KR 10-2010-00375681.一種隱私保護濾光片,包括 第一透明基板; 第二透明基板,其以與第一透明基板間隔預定的距離且相對地設置; 電解質,其填充在第一透明基板和第二透明基板之間;和 第二透明導電層,其設置在電解質與第二透明基板之間, 其中第一透明基板包括 具有線柵和溝槽的凸凹圖形,其形成于第一透明基板上; 第一透明導電層,其形成于凸凹圖形的線柵和溝槽上;和 電致變色層,其沿著線柵的側壁在第一透明導電層上形成,并且包含電致變色材料以根據是否施加電信號來透射或吸收可見光。2.根據權利要求I所述的隱私保護濾光片,其中,所述電致變色層還形成在凸凹圖形的線柵頂部和溝槽底部上的第一透明導電層上。3.根據權利要求I所述的隱私保護濾光片,其中,所述電致變色層為包括普魯士藍或過渡金屬氧化物的無機材料。4.根據權利要求3所述的隱私保護濾光片,其中,所述電致變色層為普魯士藍。5.根據權利要求3所述的隱私保護濾光片,其中,所述電致變色層包括作為過渡金屬氧化物的WO3或LiNiO2。6.根據權利要求I所述的隱私保護濾光片,其中,所述凸凹圖形具有如下圖形結構線柵和溝槽的寬度為10 μ m或小于10 μ m,以及由下面的公式I表示的溝槽深寬比(深度與寬度比)至少為2, [公式I] 溝槽深寬比=溝槽深度/溝槽寬度。7.根據權利要求I所述的隱私保護濾光片,其中,所述凸凹圖形為由光敏劑形成的絕緣層。8.根據權利要求I所述的隱私保護濾光片,其中,所述電致變色層的厚度為IOnm至I μ m09.根據權利要求I所述的隱私保護濾光片,其中,在所述凸凹圖形的線柵和溝槽內部上的所述第一透明導電層的側壁厚度為20至200nm。10.根據權利要求I所述的隱私保護濾光片,其中,所述第一透明導電層和所述第二透明導電層選自導電金屬膜、ITO、FTO和ZnO中。11.根據權利要求I所述的隱私保護濾光片,其中,所述第一透明基板...

    【專利技術屬性】
    技術研發(fā)人員:金在鎮(zhèn)辛富建權元鐘
    申請(專利權)人:LG化學株式會社
    類型:
    國別省市:

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