玻璃熔片均勻性的檢驗方法技術

本發明專利技術公開了一種玻璃熔片均勻性的檢驗方法，屬于光譜分析領域。該方法是選定一個含量最高的主元素或含量較高的生成酸性氧化物的元素作為測定元素，對熔片中選定的若干個微區進行檢測，并對該元素的強度進行統計處理，計算其相對標準偏差，當相對標準偏差小于0.7時，該玻璃熔片具有足夠的均勻性。與現有技術相比，本發明專利技術的玻璃熔片均勻性的檢驗方法具有操作簡單、測試效率高等特點，可廣泛應用于X射線熒光光譜分析之中，具有很好的推廣應用價值。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及光譜分析領域，具體地說是一種。
技術介紹
不均勻效應是X射線熒光光譜定量分析中影響測量準確度的關鍵因素之一。目前，克服不均勻效應的主要方法有研磨壓片法、溶解液化制樣法、熔融制樣法(玻璃熔片法)。研磨壓片法就是對粉末樣品進行一定時間的研磨而后進行加壓成型的制樣方法，其主要優點為操作簡單，但僅能緩解不均勻效應，而無法消除，對輕元素而言無論如何也達 不到定量要求。溶解液化制樣法通過特別的化學試劑和處理方法，把粉末樣品轉化為液態樣品，使相態單一，完全沒有不均勻效應，但液態樣品對儀器往往有致命傷害，不到萬不得已，通常不推薦使用。熔融制樣法(玻璃熔片法)是將熔劑(如Na2B4O7)與粉末樣品以一定比例混合放入坩堝內，于900-1300°C內的某一固定溫度下熔融，冷卻熔融體即制得玻璃狀試樣的方法，通常稱為玻璃熔片法。高溫熱源通常為電爐、高頻爐等。熔劑通常為Na2B407、Li2B407、LiB02等。熔融制樣法通過選擇合適的熔劑、經過液態狀高溫熔融體的處理，可以完全消除粉末樣品所固有的不均勻效應。熔融制樣法(玻璃熔片法)的最終目的是為X-熒光光譜分析測試提供一個合格的玻璃熔片，即相態均質單一的高度玻璃化的玻璃熔片，該熔片要有足夠高的均勻性，其不均勻度對分析結果的影響越小越好。即只有均勻性足夠高的玻璃熔片，才能獲得準確度足夠高的分析結果。其目視標準為均質、透明、無裂紋，這只是一個粗略的評述，不能給出一個肯定的判定結果。最終的判定標準為測定結果的精密度和準確度，以此為依據對玻璃熔片是否合格，即是否足夠均勻，給出肯定的回答。那么，這種評判標準就會帶來了以下幾個問題—、目視標準是一個模糊準則，判定結果似是而非，缺少量化指標，無法決出裁決；而以測定結果的精密度和準確度來判斷玻璃熔片是否合格的準則必須在整個分析方法建立完之后才能施行，在時間上過于滯后，即不能及時發現問題，以至于延誤對該熔融制樣體系進行及時的修正，使錯誤繼續傳遞，有時會出現錯誤擴大化的可能。二、就X-熒光光譜分析制作校正曲線及進行基體校正的特點而言，不論使用理論系數還是使用經驗系數進行基體校正，都必須使用盡量多的標準樣品，通過多元回歸來制作校正曲線。對于偏離校正曲線的點(標準)，有時很難判定是由基體干擾引起還是由玻璃熔片不合格所致，在取舍上往往會陷入兩難境地，這種窘境可能會導致不合格的玻璃熔片(標準)被掩蓋而不被發現，使其在合格的玻璃熔片(標準)中濫竽充數，使合格的玻璃熔片繼續受到不合格的玻璃熔片的影響，從而會引起誤判，特別是在消除基體干擾方面可能會產生校正過度，得出被認為正確的其實是錯誤的校正方法，對測定結果的準確度產生較大影響，有時甚至會得到有違常理的分析結果。三、該判定準則與制作校正曲線及進行基體校正的聯系過于緊密，有互相依托、互相驗證之嫌，就判斷的秉性而言，缺乏獨立性。
技術實現思路
本專利技術的技術任務是針對上述現有技術的不足，提供一種操作簡單、測試效率高的。所謂均勻性就是玻璃熔片中的各元素在空間上分布的均勻性，即每個元素在玻璃熔片的每一點(該點通常稱為微區，其大小用直徑φ表示)的含量一致的程度，如果用反映含量的強度來表示，玻璃熔片的均勻性就是每一點(微區)元素強度一致的程度。本專利技術的主要內容就是對玻璃熔片選取多個微區，對其元素進行進行強度測量，觀察這些強度相互一致的程度，并進行統計，使用相對偏差來進行評估，以此對均勻性進行判定。相對偏差越小，玻璃熔片的均勻性越好。 本專利技術的技術任務是按以下方式實現的，選定一個含量最高的主元素或含量較高的生成酸性氧化物的元素作為測定元素，對熔片中選定的若干個微區進行檢測，并對該元素的強度進行統計處理，計算其相對標準偏差，當相對標準偏差小于O. 7時，該玻璃熔片具有足夠的均勻性，能夠滿足定量分析的要求，是一個合格的玻璃熔片；否則，該玻璃熔片的均勻性較差，不能進行定量分析。優選以直徑為I毫米的微區對玻璃熔片進行均勻性檢驗。可隨機選定若干個微區進行檢測，最佳為9個微區。本專利技術的與現有技術相比具有以下突出的有益效果(一)由于使用了量化指標(相對標準偏差)，可以對玻璃熔片是否合格(足夠均勻)給出肯定的判定，消除了以前似是而非答案模棱兩可的窘態；(二)由于在制作校正曲線時，對其所使用的標樣進行取舍，有了直接的有力證據，使校正效果更加合理有效；(三)可以較早地發現不合格的玻璃熔片，從而可以有效地阻止其進入下面的程序而帶來災難，使分析測試效率得到有效提高；(四)通過對玻璃熔片是否合格的判斷，能夠更具針對性的對熔融制樣技術進行改進，推動X-熒光光譜分析制樣技術的發展。具體實施例方式以具體實施例對本專利技術的作以下詳細地說明。實施例一(微區大小的選取)X-熒光光譜分析測試就是對玻璃熔片的某一圓形區域進行測量，通常用直徑φ (mm)表示，由測定光欄來控制，目前常用的光欄主要有φ30、φ20、φ10、φ 、 φ0·5，由φ 、 φθ.5控制的測量區域通常稱為微區。玻璃熔片有效檢測面的大小通常為φ30。為了區分出該檢測面上的差異(即元素含量的不同)使用φ30或φ20的光欄進行檢測，顯然，沒有分辨能力。通過實驗表明光欄φ10的區分能力也不明顯，而使用qpl、qpo.5的微區進行的多點檢測，就能通過各檢測點測量數據(強度)的差異發現各檢測點元素含量的不同，即玻璃熔片的不均勻性。qpo.5的微區由于測量區域太小，測量強度會減弱太多，致使產生較大的測量誤差，這個誤差往往會掩蓋玻璃熔片的不均勻性帶來的差異，從而使玻璃熔片的不均勻性不能表現出來，故不宜采用。φ 的微區既能對φ30的玻璃熔片進行有效的分辨，又能保持較高的測量強度、較小的測量誤差，以便更好地暴露出元素含量的不均勻性。因此，選定φ (直徑為I毫米)的微區進行玻璃熔片的均勻性檢驗。實施例二(測量元素的選取)對玻璃熔片中的所有元素進行測量所得到的結果，無疑是最可靠的。但進行全元素多點測量在實際操作中不僅不易實現，而且也沒有必要。因為經過長期的熔樣實驗表明，對于組成熔融體的各種氧化物，不易混勻的氧化物通常為含量最高的氧化物和含量較高的酸性氧化物。如娃酸巖和招土礦系統中的Si02、Al203,灰巖系統中的CaO、SiO2,鐵礦系統中的Fe203、Si02等。因此，對于任一熔融系統，選定一個含量最高的主元素或含量較高的生成酸性氧化物的元素作為選定的元素對其熔片中選定的多個微區進行檢測即可。實施例三(測量點數的確定)一般來說，測量點越多，就越能反應真實情況。但測量點不宜太多，因為太多會因耗時較多，而使得該分析方法所具有簡單、快速的優點蕩然無存，因此對測量點數必須仔細選擇。實驗如下，選擇經過多次檢測的均勻性比較好(準確度較高)的標準樣品，例如GBW07106，對其中的主元素Si分別選擇不同的點數進行檢測，同時實驗了檢測點的選定方式對實驗結果的影響，即采用隨機和非隨機兩種方式進行實驗。非隨機方式按“十”和“米”字均勻排列。對其強度進行統計，計算其標準偏差，結果如下表，本文檔來自技高網...

【技術保護點】
玻璃熔片均勻性的檢驗方法，其特征在于：選定一個含量最高的主元素或含量較高的生成酸性氧化物的元素作為測定元素，對熔片中選定的若干個微區進行檢測，并對該元素的強度進行統計處理，計算其相對標準偏差，當相對標準偏差小于0.7時，該玻璃熔片具有足夠的均勻性。

【技術特征摘要】
1.玻璃熔片均勻性的檢驗方法，其特征在于選定一個含量最高的主元素或含量較高的生成酸性氧化物的元素作為測定元素，對熔片中選定的若干個微區進行檢測，并對該元素的強度進行統計處理，計算其相對標準偏差，當相對標準偏差小于O. 7時，該玻璃熔片具有足夠的均勻性。2.根據權利要求...

【專利技術屬性】
技術研發人員：白雪冰，洪飛，王卿，袁家義，
申請(專利權)人：白雪冰，洪飛，王卿，袁家義，
類型：發明
國別省市：