【技術實現步驟摘要】
本專利技術屬于光學測量技術，具體涉及一種光學氣體測量儀器。
技術介紹
光波可以通過不同的方式產生等傾干涉條紋，其主要應用于微小長度和折射率的測量。氣體濃度的測量在工業生產和實驗室中的需求很廣泛，尤其是對于有害氣體的測量。例如，我國的煤礦生產安全檢測系統，需要對煤礦中的有毒氣體進行檢測。迄今為止的產品大多數也都是針對大型煤礦設計的，而且自身尚存一些亟待解決的問題，如設備造價高，系統體積龐大，運行維護費用高，傳感器測量穩定性差，調校頻繁，使用壽命短，設備測量精度有限，必須依賴專業人員維護。
技術實現思路
針對上述不足，本申請人利用劈尖干涉原理，設計出一種應用于測量氣體(例如瓦斯氣體)濃度的裝置，用以克服現有技術設備復雜、測量不穩定、使用不方便的問題。本專利技術的技術方案如下 一種光干涉法測量氣體濃度的裝置，包括光源、劈尖形氣體室、光電傳感器、顯示裝置和提示裝置，它們均裝在一個密閉外殼中，防止外來光的影響，光源發出的光不能從非需要的方向進入光電傳感器影響測量結果。所述光源包括點光源發生器和平行光擴束器，所述平行光擴束器設置在點光源發生器的出射光路上，在平行光擴束器前方設置劈尖形氣體室，在劈尖形氣體室的反射光匯聚處設置光電傳感器，光電傳感器通過信號線連接顯示器和提示裝置。所述劈尖形氣體室是一由傾斜放置的平行玻璃板和平面鏡形成一個三角形空腔，此空腔用來裝待測氣體。本專利技術利用光波在不同濃度的氣體中折射率不同而產生的光程差，引起不同的干涉條紋，通過檢測干涉條紋，實現對氣體濃度的測定，其優點是準確度高，測量范圍廣，設備簡單、堅固耐用，校正容易。自帶氣體濃度數...
【技術保護點】
一種光干涉法測量氣體濃度的裝置，其特征在于：其包括光源、劈尖形氣體室（2）、光電傳感器（3）、顯示器（4）和提示裝置（5），它們均裝在一個密閉外殼（9）中；所述光源包括點光源發生器（1）和平行光擴束器（6），所述平行光擴束器（6）設置在點光源發生器（1）的出射光路上，在平行光擴束器（6）前方設置劈尖形氣體室（2），在劈尖形氣體室的反射光匯聚處設置光電傳感器（3），光電傳感器（3）通過信號線連接顯示器（4）和提示裝置（5）。
【技術特征摘要】
1.一種光干涉法測量氣體濃度的裝置，其特征在于其包括光源、劈尖形氣體室(2)、光電傳感器(3)、顯示器(4)和提示裝置(5)，它們均裝在一個密閉外殼(9)中；所述光源包括點光源發生器(I)和平行光擴束器(6)，所述平行光擴束器(6)設置在點光源發生器(I)的出射光路上，在平行光擴束器(6)前方設置劈尖形氣體室...
【專利技術屬性】
技術研發人員：馬星科，杜政偉，朱敏，鄒新政，張婷，陳雅慧，
申請(專利權)人：西南大學，
類型：發明
國別省市：
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