雙面鍍膜玻璃及其制備方法技術(shù)

本發(fā)明專(zhuān)利技術(shù)提供了一種雙面鍍膜玻璃及其制備方法。該雙面鍍膜玻璃，包括玻璃基板，在玻璃基板的一面設(shè)有第一增透膜層，在玻璃基板的另一面依次層疊有第二增透膜層及ITO膜層；其中，第一增透膜層包括依次層疊于玻璃基板一面上的第一Nb2O5膜層、第一SiO2膜層、第二Nb2O5膜層及第二SiO2膜層；第二增透膜層包括依次層疊于玻璃基板另一面上的第三Nb2O5膜層、第三SiO2膜層、第四Nb2O5膜層及第四SiO2膜層。上述雙面鍍膜玻璃，根據(jù)Nb2O5、SiO2材料的折射率，利用光的波動(dòng)性和干涉原理，設(shè)計(jì)出提高雙面鍍膜玻璃透過(guò)率的膜系；該雙面鍍膜玻璃不容易老化泛黃，光反射小，透過(guò)率高，畫(huà)面圖像清晰，對(duì)紫外線和紅外線部分有一定的防護(hù)作用，能夠更好地應(yīng)用到市場(chǎng)。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本專(zhuān)利技術(shù)涉及玻璃工藝領(lǐng)域，特別是涉及一種。
技術(shù)介紹
目前大部分液晶顯示用玻璃鍍膜產(chǎn)品所鍍的膜層為Si02+IT0膜層，這樣鍍膜出來(lái)的產(chǎn)品，在550nm處透過(guò)率約為90%，鍍膜前后透過(guò)率的比值為97%左右，視覺(jué)效果較差，大部分液晶顯示用玻璃廠家都可以做到這種質(zhì)量的觸摸屏產(chǎn)品，由于技術(shù)指標(biāo)較低，在日益激烈的觸摸屏行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)處于越來(lái)越不利的地位，隨著人們對(duì)視覺(jué)品質(zhì)的不斷追求，生產(chǎn)更高透過(guò)率的觸摸屏產(chǎn)品將擁有更大得市場(chǎng)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
基于此，有必要提供一種透過(guò)率較高的。一種雙面鍍膜玻璃，包括玻璃基板，在所述玻璃基板的一面設(shè)有第一增透膜層，在所述玻璃基板的另一面依次層疊有第二增透膜層及ITO膜層；其中，所述第一增透膜層包括依次層疊于所述玻璃基板一面上的第一 Nb2O5膜層、第一 SiO2膜層、第二 Nb2O5膜層及第二 SiO2膜層；所述第二增透膜層包括依次層疊于所述玻璃基板另一面上的第三Nb2O5膜層、第三SiO2膜層、第四Nb2O5膜層及第四SiO2膜層。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述玻璃基板為T(mén)FT玻璃。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述TFT玻璃的厚度為O. 2mnTlmm。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一 Nb2O5膜層及所述第三Nb2O5膜層的厚度為12nm 14nm ;所述第二 Nb2O5膜層及所述第四Nb2O5膜層的厚度為I IOnnTl 14nm。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一 SiO2膜層及所述第三SiO2膜層的厚度為30nnT34nm ;所述第二 SiO2膜層的厚度為83nnT86nm ;所述第四SiO2膜層的厚度為54nm 57nm。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述ITO膜層的厚度為12nnTl6nm。一種雙面鍍膜玻璃的制備方法，包括以下步驟采用磁控濺射鍍膜的方法，在玻璃基板的一面上依次形成第一 Nb2O5膜層、第一SiO2膜層、第二 Nb2O5膜層及第二 SiO2膜層，以形成第一增透膜層；采用磁控濺射鍍膜的方法，在玻璃基板的另一面上依次形成第三Nb2O5膜層、第三SiO2膜層、第四Nb2O5膜層及第四SiO2膜層，以形成第二增透膜層 '及采用磁控濺射鍍膜的方法，在所述第二增透膜層上形成ITO膜層，即得雙面鍍膜玻璃。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一 Nb2O5膜層及所述第三Nb2O5膜層的厚度為12nnTl4nm ;所述第二 Nb2O5膜層及所述第四Nb2O5膜層的厚度為IlOnnTlHnm ;所述第一 SiO2膜層及所述第三SiO2膜層的厚度為30nnT34nm ;所述第二 SiO2膜層的厚度為83nnT86nm ;所述第四SiO2膜層的厚度為54nnT57nm ;所述ITO膜層的厚度為12nnTl6nm。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一增透膜層及所述第二增透膜層的磁控濺射鍍膜工藝包括將磁控濺射鍍膜的鍍膜箱抽真空，后向所述鍍膜箱內(nèi)充入氬氣及氧氣至真空度為O.4Pa O. 6Pa，在室溫下進(jìn)行鍍膜。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述ITO膜層的磁控濺射鍍膜工藝包括將磁控濺射鍍膜的鍍膜箱抽真空，后向所述鍍膜箱內(nèi)充入氬氣及氧氣至真空度為O. 4Pa^0. 6Pa，在溫度60°C 80°C下進(jìn)行鍍膜。上述雙面鍍膜玻璃，根據(jù)Nb205、SiO2材料的折射率，利用光的波動(dòng)性及干涉原理，設(shè)計(jì)出提高雙面鍍膜玻璃透過(guò)率的膜系；在玻璃基板鍍有Nb2O5及SiO2材料，該雙面鍍膜玻璃不容易老化泛黃，光反射小，透過(guò)率高，畫(huà)面圖像清晰；同時(shí)，上述雙面鍍膜玻璃，在420nnT660nm波段的透過(guò)率達(dá)到96. 5%以上，鍍膜前后透過(guò)率的比值達(dá)到106%以上，對(duì)紫外線和紅外線部分有一定的防護(hù)作用，說(shuō)明該雙面鍍膜玻璃的透過(guò)率較高，能夠更好地應(yīng)用 到市場(chǎng)。附圖說(shuō)明圖I為一實(shí)施方式的雙面鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為一實(shí)施方式的雙面鍍膜玻璃的制備方法的流程圖；圖3為實(shí)施例I的雙面鍍膜玻璃和傳統(tǒng)TFT鍍膜玻璃的透過(guò)率對(duì)比圖；圖4為T(mén)FT玻璃鍍膜前的透過(guò)率圖。具體實(shí)施例方式為使本專(zhuān)利技術(shù)的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面對(duì)本專(zhuān)利技術(shù)的具體實(shí)施方式做詳細(xì)的說(shuō)明。在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本專(zhuān)利技術(shù)。但是本專(zhuān)利技術(shù)能夠以很多不同于在此描述的其它方式來(lái)實(shí)施，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本專(zhuān)利技術(shù)內(nèi)涵的情況下做類(lèi)似改進(jìn)，因此本專(zhuān)利技術(shù)不受下面公開(kāi)的具體實(shí)施的限制。請(qǐng)參閱圖1，一實(shí)施方式的雙面鍍膜玻璃100，包括玻璃基板110，在玻璃基板110的一面設(shè)有第一增透膜層120，在玻璃基板110的另一面依次層疊有第二增透膜層130及ITO (氧化銦錫)膜層140。其中，第一增透膜層120包括依次層疊于玻璃基板110—面上的第一 Nb2O5膜層122、第一 SiO2 膜層 124、第二 Nb2O5 膜層 126 及第二 SiO2 膜層 128 ；第二增透膜層130包括依次層疊于玻璃基板110另一面上的第三Nb2O5膜層132、第三SiO2膜層134、第四Nb2O5膜層136及第四SiO2膜層138。玻璃基板110可以為T(mén)FT (膜場(chǎng)效應(yīng)晶體管)玻璃。TFT玻璃的厚度為O. 2mnTlmm。第一 Nb2O5膜層122及第三Nb2O5膜層132的厚度為12nnTl4nm ;第二 Nb2O5膜層126及第四Nb2O5膜層136的厚度為I IOnnTl 14nm。第一 SiO2膜層124及第三SiO2膜層134的厚度為30nnT34nm ;第二 SiO2膜層128的厚度為83nnT86nm ;第四SiO2膜層138的厚度為54nnT57nm。ITO膜層140的厚度為12nnTl6nm。由于ITO膜層的導(dǎo)電性，使得鍍ITO膜層后的玻璃基板具有良好的防靜電功能。傳統(tǒng)的TFT鍍膜玻璃，在玻璃基板的一面上依次涂鍍有SiO2膜層及ITO膜層，SiO2膜層的厚度為23nnT27nm，ITO膜層的厚度為12nnTl6nm。該TFT鍍膜玻璃在550nm處透過(guò)率約為90%，鍍膜前后透過(guò)率的比值為97%左右，視覺(jué)效果較差。上述雙面鍍膜玻璃，根據(jù)Nb205、Si02材料的折射率及光的波動(dòng)性和干涉原理，設(shè)計(jì)出提高雙面鍍膜玻璃透過(guò)率的膜系，在420nnT660nm波段的透過(guò)率達(dá)到96. 5%以上，鍍膜前后透過(guò)率的比值達(dá)到106%以上，對(duì)紫外線和紅外線部分有一定的防護(hù)作用，說(shuō)明該雙面鍍膜玻璃極大地提高了 TFT鍍膜玻璃的光學(xué)性能，在同類(lèi)產(chǎn)品中有極大的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。另外，在玻璃基板表面設(shè)有Nb2O5及SiO2材料，該雙面鍍膜玻璃不容易老化泛黃，光反射小，透過(guò)率高，畫(huà)面圖像清晰；同時(shí)，在玻璃基板的一面增透膜層表面涂鍍ITO膜層，增強(qiáng)了玻璃基板的防靜電能力。請(qǐng)參閱圖2，一實(shí)施方式的雙面鍍膜玻璃的制備方法，包括以下步驟步驟S10、采用磁控濺射鍍膜的方法，在玻璃基板的一面上依次形成第一 Nb2O5膜 層、第一 SiO2膜層、第二 Nb2O5膜層及第二 SiO2膜層，以形成第一增透膜層。玻璃基板可以為T(mén)FT玻璃。TFT玻璃的厚度為O. 2mnTlmm。第一 Nb2O5膜層的厚度為12nm 14nm ;第二 Nb2O5膜層的厚度為I IOnm 114nm。第一 SiO2膜層的厚度為30nnT34nm ；第二 SiO2膜層的厚度為83nnT86nm。第一增透膜層的磁控濺射鍍膜工藝包括將玻璃基板置于磁控濺射鍍膜的鍍膜箱中，將鍍膜箱抽真本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種雙面鍍膜玻璃，包括玻璃基板，其特征在于，在所述玻璃基板的一面設(shè)有第一增透膜層，在所述玻璃基板的另一面依次層疊有第二增透膜層及ITO膜層；其中，所述第一增透膜層包括依次層疊于所述玻璃基板一面上的第一Nb2O5膜層、第一SiO2膜層、第二Nb2O5膜層及第二SiO2膜層；所述第二增透膜層包括依次層疊于所述玻璃基板另一面上的第三Nb2O5膜層、第三SiO2膜層、第四Nb2O5膜層及第四SiO2膜層。

【技術(shù)特征摘要】

【專(zhuān)利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：鄭芳平，張迅，
申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人：江西沃格光電科技有限公司，
類(lèi)型：發(fā)明
國(guó)別省市：