清洗系統、清洗裝置及使用清洗裝置的方法制造方法及圖紙

本發明專利技術提供一種清洗裝置、清洗裝置及使用清洗裝置的方法，該清洗裝置包括一上層部、一中層部以及一底層部。前述上層部具有一第一開口，前述中層部連接上層部，具有一入口、一環狀通道以及一第二開口，其中入口位于中層部的一側邊，環狀通道與入口相連通，且第二開口與第一開口相連通，前述底層部連接中層部，具有一貯液池以及一第三開口，其中第三開口與第二開口以及貯液池相連通。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種清洗裝置，特別涉及一種提供給工藝設備(制程設備)使用的清洗裝置，其中前述的工藝設備還使用一工藝用液體。
技術介紹
傳統的工藝設備，例如旋轉涂布設備，通常包含許多引導工藝用流體的管路。圖I表示一個與排液管P2及排出管Pl連接的公知的旋轉涂布設備C，在如光微影工藝的半導體工藝中，可將一基板S裝設于旋轉涂布設備C的夾盤上。如圖I中的箭號A1、A2所示，當基板S開始轉動時，含有光阻劑和清洗劑(例如光阻稀釋劑)的流體會被沖離基板S的表面，并經由排出管Pl排出旋轉涂布設備C。一般來說，排液管P2可經由管夾裝置P12而與旋轉涂布設備C的排出管Pl相連。然而，由于排液管P2很長，光阻劑往往會在管內結晶及沉淀，如此將容易造成排液管P2在圖I中的區域Rl的阻塞。在排液管P2內剩余的液體隨后流入排泄槽T，并經由一彎管P3排入管路設備系統。然而，光阻劑仍可能在彎管P3內產生結晶及沉淀，進而造成彎管P3在區域R2的阻塞。有鑒于此，本專利技術針對工藝設備提供了一種清洗裝置，以改善前述管路內所產生的阻塞問題。
技術實現思路
本專利技術的目的在于提供一種清洗裝置，包括一上層部、一中層部以及一底層部。前述上層部具有一第一開口，前述中層部連接上層部，并具有一入口、一環狀通道以及一第二開口，其中入口設置于中層部的一側邊，環狀通道與入口相連通，且第二開口與第一開口相連通。前述底層部連接中層部，并具有一貯液池以及一第三開口，其中第三開口與第二開口以及貯液池相連通。在一實施例中，前述中層部還具有多個通孔，其中所述通孔連接環狀通道，通孔彼此分開，且環狀通道的寬度大于每個通孔的直徑。前述貯液池具有一基座以及形成于基座上的環狀壩體，其中環狀壩體形成一與第三開口相連通的開孔，且環狀壩體具有一傾斜面，該傾斜面環繞開孔。前述的上層部、中層部以及底層部可通過焊接或黏合方式相連。本專利技術還提出一種清洗系統，包括一上層部、一中層部、一下層部、一貯液池，一閥體以及一控制器。前述上層部具有一第一開口，前述中層部連接上層部，并具有一入口、一環狀通道以及一第二開口，其中入口設置于中層部的一側邊，環狀通道與入口相連通，且第二開口與第一開口相連通。前述底層部連接中層部，并具有一貯液池以及一第三開口，其中第三開口與第二開口以及貯液池相連通。前述閥體連接溶劑槽以及中層部的入口，前述控制器連接閥體。此外，前述清洗系統還具有一流量計，其中流量計與溶劑槽相連。本專利技術還提出一種使用清洗裝置的方法，包括以下步驟。裝配清洗裝置至一工藝4CN 102909202 A說明書2/5 頁設備中。當工藝設備中的一工藝用液體開始供給時，工藝設備傳送一第一信號至一控制器。由控制器傳送一第二信號以開啟一閥體。從一溶劑槽引導一溶劑通過閥體至清洗裝置。在一實施例中，前述方法還包括以下步驟。當工藝用液體開始供給時，將溶劑浸潤一排液管，其中排液管連接清洗裝置。引導溶劑經過多個通孔至一貯液池。當溶劑超過貯液池的容量時，引導多余的溶劑經由一傾斜面至一排液管。借助溶劑可間歇地清洗一排液管。借助溶劑所揮發的溶劑蒸氣浸潤清洗裝置以及工藝設備的一排出管。溶劑包括一光阻稀釋劑或者一稀釋劑。提供一流量計，用以監測溶劑的流量，且可調整流量計以控制溶劑的流量。附圖說明 圖I表示一公知管夾裝置的示意圖，其中該管夾裝置連接一工藝設備(例如旋轉涂布設備)的排出管以及排液管；圖2表示本專利技術的一實施例的清洗裝置的示意圖，其中該清洗裝置連接一旋轉涂布設備的排出管以及排液管；圖3表示本專利技術的一實施例的清洗裝置剖視圖；圖4表示圖3中的上層部的剖視圖以及俯視圖；圖5表示圖3中的中層部的剖視圖以及俯視圖；圖6表示圖3中的底層部的剖視圖以及俯視圖；圖7表示本專利技術的一實施例的清洗裝置設置于一清洗系統的示意圖；圖8表示本專利技術的一實施例的溶劑向下流動并清洗排液管以及彎管的示意圖；以及圖9表示本專利技術的一實施例的溶劑在一清洗裝置內產生溶劑蒸氣的示意圖。其中，附圖標記說明如下清洗系統 I ;清洗裝置 100 ；上層部 10 ；第一開口 101;中層部 20 ；側邊 20a；控制器 200 ；第二開口 201;入口 21;環狀通道 22 ；通孔 23;底層部 30 ；溶劑槽 300 ；第三開口 301;流量計 310 ;貯液池 30a ；5圓形底座 31 ；開孔 31a；環狀壩體 32 ；傾斜面 321 ；閥體 400;旋轉涂布設備 C ；夾盤 Cl ；直徑 D ；第二信號 E ；第一信號 F ；溶劑 L ；溶劑蒸氣 P ;排出管 Pl;管夾裝置 P12 ；排液管 P2;內表面 P21;彎管 P3;區域 R1、R2;基板 S ；排泄槽 T ；寬度 W。具體實施例方式請參考圖2，本專利技術的一實施例的清洗裝置100連接旋轉涂布設備C的排出管Pl與排液管P2，其中前述清洗裝置100可與圖I中的管夾裝置P12裝設在同一個位置，然而其裝設位置并不受限于此。在一個半導體工藝中，例如光微影工藝時，一基板S裝設在旋轉涂布設備C的夾盤Cl上，當基板S開始轉動時，含有光阻劑和清洗劑(例如光阻稀釋劑)的流體會被沖離基板S的表面，并經由排出管Pl排出。在本實施例中，前述流體自清洗裝置100經由排液管P2而流入排泄槽T，排出的液體會依序地經由彎管P3流入管路設備系統(未圖標)。請一并參閱圖3 6，本實施例中的清洗裝置100主要包括一上層部10、一底層部30以及一與上層部10、底層部30相連的中層部20。舉例而言，上層部10、中層部20以及底層部30可以通過焊接或黏合方式來裝配，然而清洗裝置100也可以一體成型的方式制造。請參考圖3及圖4，上層部10具有一圓筒狀結構并形成一第一開口 101。此第一開口101可與對應的排出管Pl相接而達到排出流體的功能。如圖3至圖5所示，清洗裝置100內的中層部20與上層部10連接，并包括一個與第一開口 101相連通的第二開口 201，其中排出管Pl設置在第一開口 101、第二開口 201內。此外，中層部20的側邊20a形成有一入口 21，含有光阻稀釋劑或其他稀釋劑的溶劑L可經由入口 21進入清洗裝置100。在本實施例中，中層部20還包括了多個通孔23以及與通孔23相連通的環狀通道22。此環狀通道22的寬度為W，且通孔23彼此分開，其中每個通孔23的直徑為D，且環狀通道22的寬度W大于每個通孔23的直徑D。前述溶劑L可依序地流過入口 21、環狀通道22及通孔23至底層部30，其中經由前述通孔23可以減低流速并平均分配溶劑L至底層部30。如圖3及圖6所示，清洗裝置100的底層部30與中層部20相連，且底層部30形成有一第三開口 301，前述第三開口 301與第二開口 201相連通。在本實施例中，排液管P2設置于底層部30的第三開口 301內，因此排出管Pl及排液管P2可通過前述清洗裝置100中的第一開口 101、第二開口 201、第三開口 301而互相連通。需特別說明的是，前述底層部30另形成有一貯液池30a以保持溶劑L的供給，此貯液池包括一圓形底座31及一形成于圓形底座31上的環狀壩體32。具體來說，環狀壩體32位于圓形底座31的中心，并形成一位于貯液池30a的中央的開孔31a，其中環狀壩體32形成有一傾斜面321，前述傾斜面321環繞前述開孔31a本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種清洗裝置，包括：一上層部，具有一第一開口；一中層部，連接該上層部，具有一入口、一環狀通道以及一第二開口，其中該入口設置于該中層部的一側邊，該環狀通道與該入口相連通，且該第二開口與該第一開口相連通；以及一底層部，連接該中層部，具有一貯液池以及一第三開口，其中該第三開口與該第二開口以及該貯液池相連通。

【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：彭彥韶，薛家皓，鄧國星，
申請(專利權)人：采鈺科技股份有限公司，
類型：發明
國別省市：