一種真空滅弧室電鍍鎳和刷鍍鎳同時進行的裝置制造方法及圖紙

本實用新型專利技術公開了一種真空滅弧室電鍍鎳和刷鍍鎳同時進行的裝置，其特征在于：包括杯形電極（1），環形定位盤（2），環形電極（3）和刷鍍電極（4），所述杯形電極（1）固定于電鍍槽內，環形定位盤（2）固定于杯形電極（1）上方，環形電極（3）固定于環形定位盤（2）上方。本實用新型專利技術簡化了真空滅弧室進行電鍍鎳的過程，真空滅弧室兩端金屬部件同時電鍍和刷鍍，節約了操作時間，整個過程只需要一人就可獨立完成，節約了人力資源，且電鍍過程中真空滅弧室不需要旋轉移動，避免了真空滅弧室旋轉移動對鍍層的損傷。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種真空滅弧室電鍍鎳和刷鍍鎳同時進行的裝置，其特征在于：包括杯形電極（1），環形定位盤（2），環形電極（3）和刷鍍電極（4），所述杯形電極（1）固定于電鍍槽內，環形定位盤（2）固定于杯形電極（1）上方，環形電極（3）固定于環形定位盤（2）上方。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：王政江，
申請(專利權)人：中國振華電子集團宇光電工有限公司國營第七七一廠，
類型：實用新型
國別省市：