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    一種除氣爐制造技術

    技術編號:8283517 閱讀:190 留言:0更新日期:2013-01-31 23:38
    本實用新型專利技術主要公開了一種除氣爐,包括爐體和蓋在爐體上的爐蓋,爐體內設置有隔墻,將爐體內部分成腔室一和腔室二;在腔室一底部設置從外部引入氮氣的進氣管,在進氣管口上覆蓋有鋪設有氣孔磚;隔墻上設置有供鋁水流通的過流孔;位于腔室二加熱組件嵌置在爐蓋頂部內表面凹陷的凹槽中。本實用新型專利技術改善除氫過程中壓力不穩的問題,減少鋁水飛濺造成除氣爐內部件損壞,確保除氣爐的使用安全,提高除氣爐使用壽命。同時,增大加熱電路中的輸出功率,提高加熱效率。(*該技術在2022年保護過期,可自由使用*)

    【技術實現步驟摘要】

    本技術涉及鋁帶生產設備
    ,特別與鋁帶生產中鑄軋機中的一種改良型除氣爐有關。
    技術介紹
    鋁帶生產過程中,在鑄軋機列的生產流程上,會涉及到一套保溫凈化裝置,即除氣爐。現有的除氣爐如圖I所示包括爐體10和蓋在爐體上的爐蓋20,爐體內設置有隔墻30,將整個爐體腔室分成兩大部分,腔室一 40主要用于除氣,腔室二 50主要用于加熱。在腔室一40中設置有一個從上向下伸入的石墨轉子60,石墨轉子60內具有管道,底部設置有多個出氣孔70,將外部的氮氣從石墨轉子60中引入,并且保持石墨轉子60的轉動攪拌,由腔室一 40入口中引入鋁水,進入腔室一 40中,通過石墨轉子60的轉動攪拌,與氮氣充分混合, 出去鋁水中含有的氫,除氫后的鋁水再流入到腔室二 50中,由布設在腔室二中的加熱管加熱,最終從腔室二 50上的出口流出。其中加熱管的加熱電路主要由一雙向可控硅來控制通電加熱。經過除氣爐處理的鋁水再通過流槽插入式陶瓷過濾后,流入到軋制。該結構的除氣爐在經過長時間的安裝生產后,經常出現石墨轉子損壞較快,差不多20天一支(每支3000多元),運行成本大,而且除氫效果也不好,加熱控制系統電氣故障,即加熱管、電器元件損壞較多,而且加熱效果較差,分析主要有以下幾點原因石墨轉子在旋轉除氣時,有時出氣孔堵塞,因壓力不穩使鋁水飛濺至加熱管上和支撐加熱管的硅酸鋁磚塊,因長期受鋁水結塊,逐步在磚上將鋁結厚而使電器短路、打火,使電器控制燒壞。加熱管受溫控器控制,雖功率自動調整大小,但因輸出采用100A的雙向可控硅,輸出最大只能達到25KW,當鋁水溫度低時(特別是冬天),溫度波動大。加熱管和鋁水液面太近,飛濺的鋁水又不斷濺到加熱管上,當鋁水多時,因加熱管受溫差大而斷,掉至鋁液面上而短路、跳閘,電器故障。為了解決上述問題,本專利技術人設計出一種改良型除氣爐,本案由此產生。
    技術實現思路
    本技術的目的是提供一種改良型除氣爐,改善除氫過程中壓力不穩的問題,減少鋁水飛濺造成除氣爐內部件損壞,確保除氣爐的使用安全,提高除氣爐使用壽命。本技術的另一目的是改進除氣爐中加熱管加熱電路,提高加熱電路中的輸出功率,提高加熱效率。為了達到上述目的,本技術通過以下技術方案來實現一種除氣爐,包括爐體和蓋在爐體上的爐蓋,爐體內設置有隔墻,將爐體內部分成腔室一和腔室二;在腔室一底部設置從外部引入氮氣的進氣管,在進氣管口上覆蓋有鋪設有氣孔磚;隔墻上設置有供鋁水流通的過流孔;位于腔室二加熱組件嵌置在爐蓋頂部內表面凹陷的凹槽中。所述的腔室一頂部設置有排渣口。所述的腔室二底部小,頂部大。所述的加熱組件包括硅酸鋁磚塊搭建的加熱管支架以及支承在加熱管支架上的若干加熱管,以及用于給加熱管供電的加熱電路;加熱電路包括主接觸器、控制單元;加熱管分成三個單元相,每個單元相通過主接觸器的一端對應連接至三相交流電的每個相中,在單元相和主接觸器之間串聯有控制單元,控制單元中包括兩個可控硅、電阻、電容;電阻和電容串聯,串聯后其兩端并聯兩個極性方向相反的可控硅。采用上述方案后,本技術具有諸多有益效果I、首先,本技術中除去了用石墨轉子的除氫方法,采用氣孔磚塊,在爐底直接將氮氣注入除氫,根據要求對鋁水采用調整壓力大小來達到除氫要求。2、將腔室二形成下小上大的結構,這樣以減少鋁水流量,提高加熱效果。·3、把加熱管組件嵌置在爐蓋上,使加熱管與鋁液面保持安全距離。且將加熱電路中由原本的雙向可控改為120A的單向可控硅,全波使控制輸出功率增加2. 5倍。附圖說明圖I為現有技術結構示意圖;圖2本技術較佳實施例的結構示意圖;圖3本技術較佳實施例的電路示意圖。具體實施方式結合附圖,對本技術較佳實施例做進一步詳細說明。一種除氣爐,具有爐體I和爐蓋2。爐蓋2蓋在爐體I上,使得兩者內部形成一個爐腔。在爐體I內部設置有隔墻3,將整個爐腔分成兩大部分,分別為腔室一 4和腔室二 5。腔室一 4主要用于鋁水除氫,在腔室一 4的爐壁上開設有入口 41,原鋁水從該入口中引入。在腔室一 4的底部連接有進氣管42,進氣管連接外部氫氣源,通過管道上的手動閥43來控制其進氣狀態。在腔室一 4的內部,對準進氣管42的管口覆蓋有氣孔磚44,氣孔磚44是一種內部具有一定空氣間隙的磚,氫氣通過氣孔磚44空氣間隙滲入到腔室一 4中。根據要求對鋁水通過手動閥43來調整壓力大小,以滿足除氫要求。在腔室一 4的爐蓋2上開設有排渣口 45,連通至外部,用于鋁水雜質殘渣的排出。隔墻3為一堵墻體,上下分別頂在爐蓋2和爐體I的底面。相比傳統隔墻3而言,高度大,嚴密阻斷了腔室一 4中的鋁水飛濺而影響腔室二 5的正常工作。在隔墻3上開設有一個用于鋁水流通的過流孔31。腔室二 5主要是用于鋁水的加熱保溫,在爐壁上開設有出口 51。腔室二 5的爐體I底部其中一個角部形成斜面,這樣導致整個腔室二 5呈下小上大的結構,減緩鋁水流動,同時也減小鋁水容量,使得加熱效果提高。在位于腔室二 5的爐蓋2內表面開設有一個凹槽,用于嵌置加熱組件6。加熱組件6包括加熱管支架61,加熱管62,以及用于給加熱管供電的加熱電路63。加熱管支架61是由硅酸鋁磚塊搭建而成,多個加熱管62 (本實施例為6個)支承在加熱管支架61上。加熱管62為娃碳棒。加熱電路63包括主接觸器71和控制單元72。每兩個加熱管62并聯分成三個單元相73,每個單元相73通過主接觸器71的一端對應連接至三相交流電的三個相A、B、C中。在單元相73和主接觸器71之間串聯有控制單元72。控制單元72中包括兩個可控硅74、電阻75、電容76。電阻75和電容76串聯,串聯后其兩端并聯兩個極性方向相反的可控硅74。由于三相交流電為正弦波形式,包括正半周期和負半周期,當正半周期工作時,其中一個可控硅74處于有效狀態,符合導通電壓條件時導通,使得加熱管62得電加熱工作。當負半周期時,則以同樣道理另一個可控硅74工作,使得整個加熱電路形成全控狀態,使得輸出功率增加2. 5倍。本技術工作時,鋁水從入口 41進入之腔室一 4中,打開手動閥43,并調節至適當壓力大小,將外部氫氣引入至鋁水中,使得兩者充分混合除氫。除 氫后的鋁水通過過流孔31流入到腔室二 5中,由加熱組件6加熱并保持一定溫度,從出口排出51排出,用于下一道工序中。上述實施例僅用于解釋說明本技術的專利技術構思,而非對本技術權利保護的限定,凡利用此構思對本技術進行非實質性的改動,均應落入本技術的保護范圍。權利要求1.一種除氣爐,包括爐體和蓋在爐體上的爐蓋,爐體內設置有隔墻,將爐體內部分成腔室一和腔室二 ;其特征在于在腔室一底部設置從外部引入氮氣的進氣管,在進氣管口上覆蓋有鋪設有氣孔磚;隔墻上設置有供鋁水流通的過流孔;位于腔室二加熱組件嵌置在爐蓋頂部內表面凹陷的凹槽中。2.如權利要求I所述的一種除氣爐,其特征在于所述的腔室一頂部設置有排渣口。3.如權利要求I所述的一種除氣爐,其特征在于所述的腔室二底部小,頂部大。4.如權利要求I所述的一種除氣爐,其特征在于所述的加熱組件包括硅酸鋁磚塊搭建的加熱管支架以及支承在加熱管支架上的若干加熱管,以及用于給加熱管供電的加熱電路;加熱電路包括主接觸器、控制單元;加熱管分成三個單元相,每個單元相通過主接本文檔來自技高網
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    【技術保護點】
    一種除氣爐,包括爐體和蓋在爐體上的爐蓋,爐體內設置有隔墻,將爐體內部分成腔室一和腔室二;其特征在于:在腔室一底部設置從外部引入氮氣的進氣管,在進氣管口上覆蓋有鋪設有氣孔磚;隔墻上設置有供鋁水流通的過流孔;位于腔室二加熱組件嵌置在爐蓋頂部內表面凹陷的凹槽中。

    【技術特征摘要】

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:袁榮富龔宇峻吳關根
    申請(專利權)人:浙江遠景鋁業有限公司
    類型:實用新型
    國別省市:

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