抗微生物涂層制造技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)提供其上涂覆有抗微生物組合物的硅質(zhì)基底。本發(fā)明專利技術(shù)也包括以所述抗微生物組合物涂覆制品的方法。所述方法包括在將所述抗微生物組合物與所述熱處理基底接觸之前，熱處理所述硅質(zhì)基底不超過四小時(shí)。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術(shù)】抗微生物涂層相關(guān)專利串請的交叉引用本申請要求提交于2010年5月25日的美國臨時(shí)專利申請No. 61/348，157的權(quán)益，該專利申請全文以引用的方式并入本文。
技術(shù)介紹
觸控面板的應(yīng)用可見于從自動(dòng)取款機(jī)到娛樂場、銷售點(diǎn)終端和便攜式計(jì)算機(jī)。作為計(jì)算機(jī)的輸入設(shè)備，觸控面板已經(jīng)越來越受歡迎。當(dāng)指狀物或觸針與觸控面板的最外表面相接觸時(shí)，觸控面板可感測到接觸。面板上的指狀物或觸針被平移至X坐標(biāo)和I坐標(biāo)接觸。一些觸控面板為設(shè)置在顯示器之明的覆蓋物。其它的觸控面板是不透明的裝置，通常用于控制(例如)便攜式計(jì)算機(jī)上光標(biāo)的移動(dòng)或者應(yīng)用于包括書寫的筆輸入裝置或者輸入至計(jì)算機(jī)中的標(biāo)記。因?yàn)閿?shù)據(jù)的輸入基于接觸，所以觸控面板固有地易于受到劃痕和微生物污染的影響。觸控面板所使用的環(huán)境使觸控面板暴露于微生物入侵和受損害中。這些面板為細(xì)菌、真菌、藻類和其它的單細(xì)胞生物體提供了適宜的環(huán)境，這些生物體利用適量的濕度、溫度、營養(yǎng)和接收表面進(jìn)行生長和繁殖。隨著這些生物體代謝的進(jìn)行，它們產(chǎn)生化學(xué)副產(chǎn)物。這些化學(xué)物質(zhì)是已知的蝕刻觸敏面板，產(chǎn)生氣味的物質(zhì)。另外，這些菌落霧或模糊面板的光學(xué)性能的生物質(zhì)，無可挽回地?fù)p壞觸控面板。迄今為止，使用可濾去和毒害微生物的化學(xué)物質(zhì)進(jìn)行清洗和消毒以及最小化環(huán)境控制的濕度已成為針對該問題的響應(yīng)。雖然清洗和消毒是通用操作，但是我們都知道在使用這種清洗劑起始處理之后存在著亞致死劑量水平、無效劑量、耐藥生物體、環(huán)境照射量、人類感染和有限性的風(fēng)險(xiǎn)。實(shí)際上，盡管嘗試通過擦拭面板來移除這類微生物，但是不破壞面板自身的劃痕會為細(xì)菌提供安全的避難所。通常的觸摸屏面板，例如，電容觸摸屏面板，需要和用戶指狀物的皮膚進(jìn)行直接接觸。因此，這些面板與多個(gè)不同的用戶直接接觸。隨著這些微生物的生長，這些生物體產(chǎn)生的已知的多種化學(xué)物質(zhì)影響人類用戶。因此，這些微生物以及它們的代謝產(chǎn)物可對用戶構(gòu)成嚴(yán)重的健康威脅，這些威脅從微量組分的皮膚刺激到更嚴(yán)重的毒性響應(yīng)和疾病。隨著這些觸控面板的日益流行，公眾日益意識到和關(guān)心在這些面板上存在的微生物以及由于與這些受污染的表面接觸而導(dǎo)致的潛在后果。除了微生物污染之外，觸控面板所使用的有時(shí)惡劣環(huán)境將它們暴露在從硬幣、瓶子和玻璃所引起的刮痕中以及將它們暴露在惡劣的戶外環(huán)境中，在戶外，它們受到浮塵甚至人為破壞。根據(jù)刮痕的烈度，顯示器的功能可受到很大的影響。表面劃痕以有害的方式影響產(chǎn)品的外觀和功能。在光學(xué)和顯示器產(chǎn)業(yè)中尤其如此，在這些產(chǎn)業(yè)中顯示器表面涂覆有旨在提供特定功能(例如過濾器或者介電涂層)的一層或者多層。具體地講，計(jì)算機(jī)觸摸屏面板尤其脆弱。上述的擔(dān)憂表明位于計(jì)算機(jī)觸控面板上微生物日益增長的不利影響和可被設(shè)置在這種觸敏面板上控制微生物的需求。由于環(huán)境條件的多樣性，在環(huán)境條件下，多種微生物可以生存并且一部分是由于實(shí)際上保持濕度水平足夠低來最小化微生物的生長的成本和困難性，環(huán)境控制的使用部分限制了微生物預(yù)防的有效性。需要簡單的裝置來防止微生物在制品上定植和/或降低被設(shè)置在表面(例如，觸控面板)上活著的微生物的數(shù)量。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
根據(jù)控制特意由其用戶觸摸的表面上活體微生物數(shù)量的一般需求，本專利技術(shù)提供了一種可以利用的方法和抗微生物組合物，在一些實(shí)施例中，以形成鍵合至表面(例如，觸敏表面)的涂層。抗微生物涂層可包括化學(xué)組分，該化學(xué)組分可賦予將其應(yīng)用于制品上的其它所需的特性(例如，粘合劑特性、耐刮擦性特性、抗靜電特性)。在一些實(shí)施例中，抗微生物涂層的組分可選擇它們的光學(xué)透明特性。因此，在一個(gè)方面，本專利技術(shù)提供了一種制備被涂覆的制品的方法。所述方法可包括熱處理硅質(zhì)基底；并且將所述硅質(zhì)基底與包含季銨化合物和有機(jī)硅烷的第一組合物接觸。熱處理所述硅質(zhì)基底包括在足夠的時(shí)段和足夠的溫度下加熱所述硅質(zhì)基底以移除揮發(fā)性的表面雜質(zhì)。將所述硅質(zhì)基底與所述第一組合物接觸包括在熱處理玻璃基底后，將所述硅質(zhì)基底與所述第一組合物接觸不超過4小時(shí)。 在方法的任一實(shí)施例中，所述第一組合物還可包含附著性促進(jìn)劑。在上述任一實(shí)施例中，所述第一組合物還可包含催化劑。在上述任一實(shí)施例中，所述第一組合物還可包含水。在任一實(shí)施例中，所述水還可包括酸化水。在上述任一實(shí)施例中，所述季銨化合物可包括N，N- 二甲基-N- (3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基)-1_氯化十八烷基銨。在上述任一實(shí)施例中，所述有機(jī)硅烷化合物可包括3-氯丙基二甲氧基娃燒。在上述任一實(shí)施例中，所述第一組合物還可包含具有多個(gè)側(cè)基的抗微生物聚合物，其中所述側(cè)基包括包含第一季銨組分的第一側(cè)基；包含非極性組分的第二側(cè)基和包含第一有機(jī)硅烷組分的第三側(cè)基。在上述任一實(shí)施例中，在將所述第一組合物和所述硅質(zhì)基底接觸之前，所述方法還包括在適于在附著性促進(jìn)劑和所述硅質(zhì)基底之間形成共價(jià)鍵的條件下，將在溶劑中包含所述附著性促進(jìn)劑的第二組合物與所述硅質(zhì)基底接觸。在另一方面，本專利技術(shù)提供制品。所述制品可包括具有表面的硅質(zhì)基底、涂覆在所述表面上的第一層和涂覆在所述第一層上的第二層。所述第一層可包含附著性促進(jìn)劑，并且所述第二層可包含季銨化合物和有機(jī)硅烷。在制品的任一實(shí)施例中，所述第一層或第二層還可包含催化劑。在制品的上述任一實(shí)施例中，所述附著性促進(jìn)劑選自3_三乙氧基甲娃燒基_N_(1, 3_ 二甲基-亞丁基)丙胺、N-苯基_3_氛基丙基二甲氧基娃燒和3_丙基-二甲氧基娃燒、3-氨基丙基二甲氧基娃燒、3-氨基丙基二乙氧基硅烷、3-(2-氨基乙基)氨基丙基三甲氧基硅烷、(氨基乙基氨基甲基)苯乙基三甲氧基硅烷、(氨基乙基氨基甲基)苯乙基三乙氧基硅烷、N- (2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基娃燒、雙_ ( Y _ 二乙氧基甲娃燒基丙基)胺、N- (2-氨基乙基)-3-氨基丙基二丁氧基硅烷、6-(氨基己基氨基丙基)三甲氧基硅烷、4-氨基丁基三甲氧基硅烷、4-氨基丁基三乙氧基硅烷、對-(2-氨基乙基)苯基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三(甲氧基乙氧基乙氧基)娃燒、3_氣基丙基甲基_■乙氧基娃燒、四乙氧基娃燒及其低聚物、甲基二乙氧基娃燒及其低聚物、低聚氨基娃燒、6，3- (N-甲基氨基)丙基二甲氧基娃燒、N- (2-氨基乙基)-3_氨基丙基甲基~■甲氧基娃燒、N- (2-氣基乙基)_3~氣基丙基甲基_■乙氧基娃燒、N- (2-氣基乙基)_3_氛基丙基二甲氧基娃燒、N- (2-氛基乙基)-3-氛基丙基二乙氧基娃燒、3_氛基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氨基丙基二甲基甲氧基硅烷和3-氨基丙基~■甲基乙氧基娃燒。詞語“優(yōu)選的”和“優(yōu)選地”是指在某些情況下可以提供某些有益效果的本專利技術(shù)的實(shí)施例。然而，在相同的情況或其它情況下，其它實(shí)施例也可以是優(yōu)選的。此外，對一個(gè)或多個(gè)優(yōu)選實(shí)施例的表述并不暗示其它實(shí)施例是不可用的且并非意圖將其它實(shí)施例排除在本專利技術(shù)范圍之外。本文所用的“一種(個(gè))”、“所述(該)”、“至少一種(個(gè))”以及“一種或多種(一個(gè)或多個(gè))”可互換使用。因此，例如，一種制品，其包括“一種(個(gè))”硅質(zhì)基底可以被解釋成可包括“一種或多種(一個(gè)或多個(gè))”娃質(zhì)基底。 術(shù)語“和/或”意指所列要素的一個(gè)或全部，或所列要素的任何兩個(gè)或更多個(gè)的組入口 ο還有,本文通過端點(diǎn)表述的數(shù)值范圍包括該范圍內(nèi)的所有數(shù)值(比如，I到5包含1,1.5、2、2· 本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

【技術(shù)特征摘要】
【國外來華專利技術(shù)】...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：馬福薩·B·阿里，景乃勇，瓦萊麗·利里尼，普拉德恩婭·V·納加爾卡，卡羅琳·M·伊利塔洛，南?！·倫霍夫，
申請(專利權(quán))人：三M創(chuàng)新有限公司，
類型：
國別省市：