本發明專利技術涉及一種防偽元件(1)，其用于防偽紙、有價文件等，包括具有被分割成多個像素(4)的表面區域(3)的載體(8)，所述多個像素(4)在各情況下包括至少一個光學活性小面(5)。根據本發明專利技術，所述多個像素(4)分別包括數個光學活性小面(5)，所述光學活性小面對于每個像素(4)具有相同的取向，并且所述小面(5)取向成使得表面區域(3)能夠被觀察者感覺為相對于其實際三維形狀向前和/或向后突出的表面。
【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及用于防偽紙、有價文件等的防偽元件，涉及具有這種防偽元件的有價文件，并且涉及用于制造這種防偽元件的方法。
技術介紹
待保護物體常常設置有防偽元件，其允許檢驗物體的真實性，同時用作對未授權復制的保護。待保護的物體例如是防偽紙、身份證件和有價文件(例如鈔票、芯片卡、護照、身份證、身份卡、股票、投資性證券、契約、收據、支票、入場券、信用卡、健康卡等等)以及例如標簽、封條、包裝件等產品驗證元件。 在防偽元件的領域中特別普遍并且為實際上平坦的箔片給予三維外觀的技術涉及各種形式的全息術。然而，這種技術對于防偽特征特別是在鈔票上的使用具有一些缺點。一方面，全息圖的三維圖示的質量在很大程度上取決于照明條件。全息圖的圖示常常很難識別，特別是在漫射照明中。此外，全息圖具有這樣的缺點，即它們同時存在于日常生活中的許多地方，因此，它們作為防偽特征的特殊地位正在消失。
技術實現思路
在這些基礎上，本專利技術基于避免現有技術的缺點的目的，并且特別提供一種用于防偽紙、有價文件等的防偽元件，其在作為防偽元件的極其扁平構造的同時，獲得良好的三維外觀。根據本專利技術，該目的通過一種用于防偽紙、有價文件等的防偽元件得以實現，所述防偽元件具有具有被分割成多個像素的表面區域的載體，所述多個像素分別包括至少一個光學活性小面，其中大部分像素分別具有對于每個像素取向相同的數個光學活性小面，并且所述小面取向成使得所述表面區域能夠被觀察者感覺為相對于其實際空間形狀突出和/或后退的區域。這使得能夠提供極其扁平的防偽元件，其中例如小面的最大高度不大于IOymdM是仍然在觀察時生成非常好的三維印象。因此，能夠借助于(肉眼上)平坦的表面區域為觀察者模擬出具有強烈凸出外觀的區域。以這種方式基本上能夠生成可感覺區域的任意成形的三維構造。因此能夠模擬出人物、物體、圖形(motif)或者具有三維外觀的其它物體。三維印象在這里總是相對于表面區域的實際空間形狀。因此，表面區域自身可以具有扁平構造或者具有彎曲的構造。然而，總是相對于該基底區域形狀獲得三維外觀，以便對于觀察者來說，表面區域于是不呈現出與表面區域自身一樣的平坦或者彎曲。能夠被感覺為突出和/或后退區域的表面區域在這里應理解為特別是指表面區域能夠被感覺為連續地凸出的區域。因此，所述表面區域能夠被感覺為例如具有偏離該表面區域的彎曲形狀或者實際空間形狀的明顯凸起的區域。通過本專利技術的防偽元件，因此能夠通過模擬相應的反射行為而模仿出例如凸出的表面。表面區域特別是連續的表面區域。然而，表面區域還可以具有間隙或者甚至包括不連續的局部部位。這樣，表面區域能夠與其它防偽特征交織。其它防偽特征可以涉及例如真彩色全息圖，以便觀察者能夠一起感覺到真彩色全息圖和通過本專利技術的表面區域提供的突出和/或后退區域。特別是，所述小面的取向選擇成使得所述表面區域能夠被觀察者感覺為非平坦的區域。分別具有對于每個像素來說取向相同的數個光學活性小面的大部分像素可以為像素數量的51%。然而，所述大部分也可以大于像素數量的60%、70%、80%，或者特別大于90%。此外，也可以是表面區域的全部像素都分別具有取向相同的數個光學活性小面。 光學活性小面可以構造成反射性和/或透射性小面。所述小面可以形成在所述載體的表面中。此外，小面也可以形成在載體的上側以及下側，并且彼此相對。在該情況下，小面優選構造成具有折射效果的透射性小面，其中載體自身當然也是透明或者至少半透明的。小面的尺寸和取向于是選擇成特別使得區域能夠被觀察者感覺為相對于載體的上側和/或下側的實際空間形狀突出和/或后退。載體可以構造成層疊的復合物。在該情況下，小面可以位于層疊復合物內的界面上。因此，小面可以例如被壓印到位于載體箔片上的壓印漆中，接下來被金屬化，并嵌入另一漆層(例如保護漆或者粘結漆)中。特別地，在本專利技術的防偽元件中，小面可以構造成嵌入式小面。特別地，所述光學活性小面構造成使得所述像素沒有光學衍射效果。光學活性小面的尺寸可以在I μ m-300 μ m之間,優選在3 μ m-100 μ m之間,特別優選在5 μ m-30 μ m之間。特別地,優選存在大致射線光學反射行為或者大致射線光學折射效果O像素的尺寸如此選擇使得像素的面積比表面區域的面積小至少一個數量級，優選小至少兩個數量級。表面區域的面積和像素的面積在這里應理解為特別指沿正交于表面區域的宏觀表面的方向投射到一平面時的相應面積。特別地，像素的尺寸可以選擇成使得像素的尺寸至少在一個方向上比表面區域的面積的尺寸小至少一個數量級，優選小至少兩個數量級。像素的最大延伸度優選處于5 μ m-5mm之間，優選處于10 μ m-300 μ m之間，特別優選處于20 μ m-100 μ m之間。像素形狀和/或像素尺寸可以在防偽元件內變化，但并不是必須的。每個像素的小面的光柵周期(小面可以形成周期性的或者非周期性的光柵，例如鋸齒光柵)優選在I μ m-300 μ m之間或者3 μ m-300 μ m之間，優選在3 μ m-100 μ m之間或者5 μ m-100 μ m之間，特別優選在5 μ m-30 μ m之間或者10 μ m-30 μ m之間。光柵周期選擇成特別使得每個像素包含至少兩個相同取向的小面，并且衍射效果實際上不再對入射光起作用(例如從380nm-750nm的波長范圍)。因為沒有或者沒有實際上相關的衍射效果發生，小面可以稱為無色差小面，或者像素稱為無色差像素，這引起方向性地無色差的反射。防偽元件因此對于通過像素的小面存在的光柵結構具有無色差反射性。小面優選構造成大致平坦的面積組元(area element)。小面構造成大致平坦的面積組元的所選表述，考慮了由于制造原因在實踐中通常從來不能制造完全平坦的面積組元這一事實。小面的取向特別由它們的傾斜角和/或它們的方位角確定。小面的取向當然也可以由其它參數確定。特別地，所涉及的參數是兩個彼此正交的參數，比如相應小面的法向矢量的兩個分量。在小面上，至少可以在某些區域中形成反射性或者反射增強涂層(特別是金屬或者高折射性涂層)。反射性或者反射增強涂層可以是例如氣相沉積的金屬涂層。作為涂層材料，可以特別地采用鋁、金、銀、銅、鈀、鉻、鎳和/或鎢以及它們的合金。替代地，反射性或者反射增強涂層可以由具有高折射率的材料的涂層形成。反射性或者反射增強涂層可以特別構造成部分透射性涂層。 再一實施例中，可以在小面上至少在某些區域中形成顏色偏移涂層。顏色偏移涂層可以特別地構造成薄膜系統或者薄膜干涉涂層。這里可以實現例如金屬層-介電層-金屬層的層序或者三個介電層的層序，其中中間層的折射率低于其它兩個層的折射率。作為介電材料，可以采用例如ZnS、SiO2、Ti02/MgF2。顏色偏移涂層也可以構造成干涉濾光器、通過等離子共振效果具有選擇性透射的薄半透明金屬層、納米顆粒等。顏色偏移層也可以特別實施為液晶層、衍射性浮雕結構或者子波長光柵。由反射層、介電層、吸收層(以該順序形成在小面上)構成的薄膜系統也是可能的。薄膜系統加小面如上所述可以不僅構造成小面/反射層/介電層/吸收層，而且還構造成小面/吸收層/介電層/反射層。其順序特別取決于將從哪側觀察防偽元件。此夕卜，當薄膜系統加小面構造成例如吸收層/介電層/吸收層/小面或者吸收層本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...
【專利技術屬性】
技術研發人員：C福斯，M拉姆，A勞赫，W考勒，
申請(專利權)人：德國捷德有限公司，
類型：
國別省市：
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