本發(fā)明專利技術(shù)涉及一種吸收劑以及包含該吸收劑的用于光學(xué)元件的鈍化層，更具體而言，涉及一種可以應(yīng)用于撓性基板的吸收劑，其阻擋水進(jìn)入，不阻擋光，以及包含該吸收劑的用于光學(xué)元件的鈍化層。此外，本發(fā)明專利技術(shù)涉及一種吸收劑，通過(guò)使用惰性溶劑合成的化合物，使對(duì)光學(xué)元件的損害最小化，而能夠長(zhǎng)時(shí)間保持發(fā)光性能，本發(fā)明專利技術(shù)涉及包含該吸收劑的用于光學(xué)元件的鈍化層。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】
本專利技術(shù)涉及一種用于光學(xué)元件的吸收劑以及包含該吸收劑的用于光學(xué)元件的鈍化層。
技術(shù)介紹
一般而言，發(fā)光元件不需要外部光源，具有自行發(fā)光的功能。尤其是，發(fā)光元件具有比如高發(fā)光效率、優(yōu)良的亮度和視角以及迅速的響應(yīng)速度的優(yōu)點(diǎn)，但是其缺點(diǎn)在于，因?yàn)榇髿庵械乃蜓踹M(jìn)入發(fā)光元件內(nèi)部，使得電極被氧化或元件本身發(fā)生劣化，所以該發(fā)光元件壽命縮短。為此，進(jìn)行各方面的研究以制造對(duì)于水和氧穩(wěn)定的發(fā)光元件。另一方面，有機(jī)EL元件的問(wèn)題在于，當(dāng)有機(jī)EL元件運(yùn)行一定時(shí)間時(shí)，發(fā)光性能，例如發(fā)光亮度、發(fā)光效率以及發(fā)光均勻性與初始階段相比，顯著變差。例如，如上所述的發(fā)光性能變差的原因包括因滲入有機(jī)EL元件內(nèi)部的氧而導(dǎo)致的電極氧化，在運(yùn)行期間由發(fā)熱引起的有機(jī)材料的氧化降解，以及有機(jī)材料的變性。另外，發(fā)光性能變差的原因還包括結(jié)構(gòu)的機(jī)械性退化，例如，由水和氧引起的結(jié)構(gòu)的界面剝離，而且因?yàn)楦鹘M分的熱膨脹系數(shù)之間的不同在運(yùn)行期間由于熱量產(chǎn)生以及高溫環(huán)境而導(dǎo)致在結(jié)構(gòu)的界面上引起應(yīng)力產(chǎn)生，從而發(fā)生結(jié)構(gòu)的界面剝離。為了防止上述問(wèn)題，研究了多種用于密封有機(jī)EL元件的技術(shù)以防止與水和氧接觸。例如，如圖I所示，存在一種防止水到達(dá)有機(jī)EL元件的方法,包括在具有包括基板I和在基板I上形成的透明電極3、有機(jī)功能層4以及金屬陰極電極5的有機(jī)EL元件的像素區(qū)域(picture element area)上,安置密封蓋2,在該密封蓋2中吸收劑6粘著于內(nèi)壁上；在其內(nèi)部填充氮?dú)? ;以及使用粘合劑7將密封蓋2固定于基板I上。此時(shí)，正研究多種物質(zhì)作為吸收劑，但是例如氧化鋇(BaO)或氧化鈣(CaO)的堿土金屬氧化物，因?yàn)樗鼈兣c物理地吸收水的吸水劑(如硅膠或沸石)不同，它們能可靠地捕獲水分子，并且在高溫下也不會(huì)釋放出水分子，因此被廣泛地研究。 然而，上述吸水劑存在以下缺點(diǎn)這些吸水劑是無(wú)機(jī)化合物粒子，并且為了粘著在元件內(nèi)部，需要凹面的基板，使得所制成的元件變厚。此外，堿土金屬氧化物不透明，從而其可以應(yīng)用于向基板I發(fā)射顯示光的所謂的底發(fā)光顯示器元件。但是，當(dāng)堿土金屬氧化物應(yīng)用于所謂的頂發(fā)光顯示器元件時(shí)，頂發(fā)光顯示器元件向密封蓋2(密封蓋2是基板I的另一側(cè))發(fā)射顯示光，吸收劑6可能會(huì)阻擋發(fā)光，從而應(yīng)該將吸收劑6定位以不進(jìn)入圖像區(qū)域，而應(yīng)提供安置位置。為了將吸收劑應(yīng)用于頂發(fā)光顯示器元件，例如，可能容易想到將透明并具有吸水性能的聚合物(比如聚乙烯醇和尼龍)用作吸收劑。但是，上述聚合物物理地吸收水，并且不具有如上所述的充分的吸水性能。此外，日本公開專利No. 2001-357973披露了使用微粒吸水劑，該微粒吸水劑被定位成在頂發(fā)光結(jié)構(gòu)中對(duì)光透射性沒(méi)有產(chǎn)生不利影響；日本公開專利No. 2002-56970公開了使用塑料基板，該塑料基板含有粒度小于有機(jī)EL元件的發(fā)光波長(zhǎng)的分散的吸水劑。但是，無(wú)機(jī)粒子作為第一粒子難于設(shè)置并均勻分散，從而不可避免因光散射而導(dǎo)致透射率降低。另外，采用通過(guò)使用活性溶劑(例如甲苯)合成的化合物所制得的吸收劑缺點(diǎn)在于，該活性溶劑少量殘留在光學(xué)元件中而導(dǎo)致例如暗點(diǎn)、收縮等現(xiàn)象，阻礙發(fā)光性能。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
技術(shù)問(wèn)題因此，本專利技術(shù)提供一種吸收劑以及包含該吸收劑的用于光學(xué)元件的鈍化層，其中該吸收劑用于阻擋水分進(jìn)入到光學(xué)元件中，從而使該光學(xué)元件的損傷最小化，因此該光學(xué)元件能夠長(zhǎng)期保持其發(fā)光性能。此外，本專利技術(shù)提供一種光學(xué)元件，該光學(xué)元件包括所述吸收劑和所述用于光學(xué)元件的鈍化層。技術(shù)方案為此，本專利技術(shù)第一優(yōu)選的實(shí)施方案提供包含使用惰性溶劑制備的由下面化學(xué)式I表示的化合物的吸收劑權(quán)利要求1.一種吸收劑，包含使用惰性溶劑制備的由下面化學(xué)式I表示的化合物 化學(xué)式I:2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的吸收劑，其中，所述惰性溶劑是選自飽和烴化合物、硅油、液體芳香族石油烴樹脂、聚異丁烯、液體聚丁烯和蠟(液體石蠟)中的至少一種。3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的吸收劑，其中，在550nm下測(cè)得的透光率為至少50%。4.一種用于光學(xué)元件的鈍化層，包含使用惰性溶劑制備的由下面化學(xué)式I表示的化合物 化學(xué)式I :5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于光學(xué)元件的鈍化層，還包含熱塑性樹脂。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于光學(xué)元件的鈍化層，其中，所述熱塑性樹脂是選自聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚酰胺樹脂、丙烯酸類樹脂、氯乙烯樹脂、賽璐珞樹脂、酚醛樹脂、尿素樹脂、三聚氰胺樹脂、醇酸樹脂、有機(jī)硅樹脂、環(huán)氧樹脂和聚氨酯樹脂中的至少一種。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于光學(xué)元件的鈍化層，其中，所述熱塑性樹脂的含水量不大于 lOOppm。8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于光學(xué)元件的鈍化層，其中，所述熱塑性樹脂的軟化點(diǎn)是50 200。。。9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于光學(xué)元件的鈍化層，其中，在550nm下測(cè)得的透光率為至少 50%。10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于光學(xué)元件的鈍化層，其中所述光學(xué)元件選自有機(jī)發(fā)光元件(OLED)、半導(dǎo)體、液晶顯示裝置(LCD)、等離子體顯示裝置(PDP)以及太陽(yáng)能電池中。11.一種光學(xué)兀件，包括權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的吸收劑。12.一種光學(xué)元件，包括權(quán)利要求4-9中任意一項(xiàng)所述的用于光學(xué)元件的鈍化層。全文摘要本專利技術(shù)涉及一種吸收劑以及包含該吸收劑的用于光學(xué)元件的鈍化層，更具體而言，涉及一種可以應(yīng)用于撓性基板的吸收劑，其阻擋水進(jìn)入，不阻擋光，以及包含該吸收劑的用于光學(xué)元件的鈍化層。此外，本專利技術(shù)涉及一種吸收劑，通過(guò)使用惰性溶劑合成的化合物，使對(duì)光學(xué)元件的損害最小化，而能夠長(zhǎng)時(shí)間保持發(fā)光性能，本專利技術(shù)涉及包含該吸收劑的用于光學(xué)元件的鈍化層。文檔編號(hào)H01L31/042GK102905785SQ201180025510 公開日2013年1月30日 申請(qǐng)日期2011年6月30日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月30日專利技術(shù)者金石基, 徐榮成, 尹景根 申請(qǐng)人:可隆工業(yè)株式會(huì)社本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：金石基，徐榮成，尹景根，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：可隆工業(yè)株式會(huì)社，
類型：
國(guó)別省市：
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